JPH05255370A - β−マンノシド系化合物の製造法 - Google Patents
β−マンノシド系化合物の製造法Info
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- JPH05255370A JPH05255370A JP8941392A JP8941392A JPH05255370A JP H05255370 A JPH05255370 A JP H05255370A JP 8941392 A JP8941392 A JP 8941392A JP 8941392 A JP8941392 A JP 8941392A JP H05255370 A JPH05255370 A JP H05255370A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 長期保存が可能な安定なグリコシル供与体を
用いて、マンノ−ス系糖誘導体のα、β−マンノシド系
化合物を、活性化剤として重金属を使用しないで製造す
る。 【構成】 マンノ−ス系糖のヘミアセタ−ル位がアセタ
−ル結合している糖の水酸基の水素がホスフィノチオイ
ル基で置換されたマンノ−ス系糖のアセタ−ル位チオホ
スフィン酸エステル誘導体と、アルコ−ルまたはそのト
リメチルシリルエ−テル体とをヨウ素、ヨウ素−トリチ
ル塩を共存させることで、マンノ−ス系糖誘導体のマン
ノシド系化合物を製造できる。
用いて、マンノ−ス系糖誘導体のα、β−マンノシド系
化合物を、活性化剤として重金属を使用しないで製造す
る。 【構成】 マンノ−ス系糖のヘミアセタ−ル位がアセタ
−ル結合している糖の水酸基の水素がホスフィノチオイ
ル基で置換されたマンノ−ス系糖のアセタ−ル位チオホ
スフィン酸エステル誘導体と、アルコ−ルまたはそのト
リメチルシリルエ−テル体とをヨウ素、ヨウ素−トリチ
ル塩を共存させることで、マンノ−ス系糖誘導体のマン
ノシド系化合物を製造できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、医薬品として期待され
ているマンノシド系化合物を製造する方法に関するもの
である。
ているマンノシド系化合物を製造する方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来のマンノシド系化合物を製造する方
法としては、塩化糖、トリクロロアセトイミデ−ト法や
４−ペンテニル法などを用いたグリコシル化反応が挙げ
られる。これらは一般にα−マンノシドを与える方法
で、特にβ−マンノシドを製造する方法は不溶性銀塩を
活性化剤とするブロム糖を用いたグリコシル化反応が知
られているに過ぎない。いずれにしてもこれらの製造方
法は不安定な糖中間体を使用すために高度に脱水した反
応条件が必要であり、反応基質や活性化剤として重金属
を過剰に必要としている場合が多い等の欠点が多く工業
化は困難である。
法としては、塩化糖、トリクロロアセトイミデ−ト法や
４−ペンテニル法などを用いたグリコシル化反応が挙げ
られる。これらは一般にα−マンノシドを与える方法
で、特にβ−マンノシドを製造する方法は不溶性銀塩を
活性化剤とするブロム糖を用いたグリコシル化反応が知
られているに過ぎない。いずれにしてもこれらの製造方
法は不安定な糖中間体を使用すために高度に脱水した反
応条件が必要であり、反応基質や活性化剤として重金属
を過剰に必要としている場合が多い等の欠点が多く工業
化は困難である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】解決しようとする問題
点は、β−マンノシド系化合物を容易に製造できるよう
にすること、グリコシル供与体を長期保存可能安定な化
合物にすること、活性化剤として重金属を用いない点で
ある。
点は、β−マンノシド系化合物を容易に製造できるよう
にすること、グリコシル供与体を長期保存可能安定な化
合物にすること、活性化剤として重金属を用いない点で
ある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の観点から、優れた
マンノシド系化合物を製造する方法について鋭意検討し
た。その結果、化１に示したマンノ−ス系糖のアセター
ル位チオホスフィン酸エステル誘導体を用い、ヨウ素と
触媒量の過塩素酸塩を活性化剤として使用することで目
的を達しうることを知り本発明に到達した。
マンノシド系化合物を製造する方法について鋭意検討し
た。その結果、化１に示したマンノ−ス系糖のアセター
ル位チオホスフィン酸エステル誘導体を用い、ヨウ素と
触媒量の過塩素酸塩を活性化剤として使用することで目
的を達しうることを知り本発明に到達した。
【０００５】すなわち本発明の要旨は、マンノ−ス系糖
のヘミアセタール位がアセタール結合している糖の水酸
基の水素が一般式、化１（式中Ｒ1 ，Ｒ2は非置換また
は置換されたアルキル基あるいはアリール基を示す。）
で表されるホスフィノチオイル基で置換されたマンノ−
スのアセタール位チオホスフィン酸エステル誘導体と、
脂肪族アルコール、芳香族アルコール、ステロイドアル
コール、グリセロール誘導体、糖誘導体、アミノ酸誘導
体から選ばれるアルコールまたはそのトリメチルシリル
エ−テル体とをヨウ素と触媒量の過塩素酸塩を共存させ
反応させることを特徴とするβ−マンノシド系化合物の
製造法である。
のヘミアセタール位がアセタール結合している糖の水酸
基の水素が一般式、化１（式中Ｒ1 ，Ｒ2は非置換また
は置換されたアルキル基あるいはアリール基を示す。）
で表されるホスフィノチオイル基で置換されたマンノ−
スのアセタール位チオホスフィン酸エステル誘導体と、
脂肪族アルコール、芳香族アルコール、ステロイドアル
コール、グリセロール誘導体、糖誘導体、アミノ酸誘導
体から選ばれるアルコールまたはそのトリメチルシリル
エ−テル体とをヨウ素と触媒量の過塩素酸塩を共存させ
反応させることを特徴とするβ−マンノシド系化合物の
製造法である。
【０００６】本発明の原料の１つ、マンノ−ス系糖のア
セタール位チオホスフィン酸エステル誘導体は、アセタ
ール位の水酸基が遊離のマンノ−ス系糖とハロゲン化ホ
スフィノチオイルと塩基存在下合成できる。
セタール位チオホスフィン酸エステル誘導体は、アセタ
ール位の水酸基が遊離のマンノ−ス系糖とハロゲン化ホ
スフィノチオイルと塩基存在下合成できる。
【０００７】マンノ−ス系糖としては、 Ｄ−マンノ−
ス、Ｌ−ラムノ−スを挙げることができる。
ス、Ｌ−ラムノ−スを挙げることができる。
【０００８】塩基としては周知のものを使用できる。例
えば水酸化ナトリウム、トリエチルアミン、１，８−ジ
アザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−７−エン、ｎ−ブチル
リチウム等を挙げることができる。
えば水酸化ナトリウム、トリエチルアミン、１，８−ジ
アザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−７−エン、ｎ−ブチル
リチウム等を挙げることができる。
【０００９】ハロゲン化ホスフィノチオイルとしては周
知のものを使用できる。例えば塩化ジメチルホスフィノ
チオイル、臭化ジメチルホスフィノチオイル、塩化ジフ
ェニルホスフィノチオイル等が挙げられる。
知のものを使用できる。例えば塩化ジメチルホスフィノ
チオイル、臭化ジメチルホスフィノチオイル、塩化ジフ
ェニルホスフィノチオイル等が挙げられる。
【００１０】本発明の他の原料の１つとして使用される
アルコールは周知のものを使用できる。例えば脂肪族ア
ルコール、芳香族アルコール、ステロイドアルコール、
グリセロール誘導体、糖誘導体、アミノ酸誘導体が挙げ
られる。具体的にはメタノール、エタノール、オクチル
アルコール、フェノール、ベンジルアルコール、１、
２、３、４ージイソプロピリデンガラクトース、３βー
コレスタノール、イソプロピリデングリセロール、Ｎ−
ベンジルオキシカルボニルーＬ−セリンメチルエステル
などの一例が挙げられ、それらのトリメチルシリルエ−
テル体も使用できる。
アルコールは周知のものを使用できる。例えば脂肪族ア
ルコール、芳香族アルコール、ステロイドアルコール、
グリセロール誘導体、糖誘導体、アミノ酸誘導体が挙げ
られる。具体的にはメタノール、エタノール、オクチル
アルコール、フェノール、ベンジルアルコール、１、
２、３、４ージイソプロピリデンガラクトース、３βー
コレスタノール、イソプロピリデングリセロール、Ｎ−
ベンジルオキシカルボニルーＬ−セリンメチルエステル
などの一例が挙げられ、それらのトリメチルシリルエ−
テル体も使用できる。
【００１１】続いてマンノ−ス系糖のアセタール位チオ
ホスフィン酸エステルと前述したアルコ−ルまたはトリ
メチルシリルエ−テル体との反応について説明する。こ
の方法ではこれらのモル比は特に制限はなくアルコール
を大過剰に用いてもよいが、通常は１〜数倍モル等量で
ある。
ホスフィン酸エステルと前述したアルコ−ルまたはトリ
メチルシリルエ−テル体との反応について説明する。こ
の方法ではこれらのモル比は特に制限はなくアルコール
を大過剰に用いてもよいが、通常は１〜数倍モル等量で
ある。
【００１２】溶媒はアルコールを除く周知の有機溶媒を
使用できる。例えばエーテル、ベンゼン、トルエン、ジ
クロロメタン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド、テトラヒドロフラン等を挙げることができる。
使用できる。例えばエーテル、ベンゼン、トルエン、ジ
クロロメタン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド、テトラヒドロフラン等を挙げることができる。
【００１３】反応温度は特に制限はないが、−４０℃〜
６０℃好ましくは−２０℃〜４０℃である。反応時間は
反応温度、原料の種類等によってことなるが、数分〜数
十時間の範囲である。
６０℃好ましくは−２０℃〜４０℃である。反応時間は
反応温度、原料の種類等によってことなるが、数分〜数
十時間の範囲である。
【００１４】反応を行うにあたってはマンノ−ス系糖の
アセタール位チオホスフィン酸エステル誘導体に対し、
ヨウ素と触媒量の過塩素酸塩の共存下で行う。過塩素酸
塩は０〜５０モル％で行うこともできるが、好ましくは
１〜３０モル％で使用する。
アセタール位チオホスフィン酸エステル誘導体に対し、
ヨウ素と触媒量の過塩素酸塩の共存下で行う。過塩素酸
塩は０〜５０モル％で行うこともできるが、好ましくは
１〜３０モル％で使用する。
【００１５】周知の過塩素酸塩としては過塩素酸トリチ
ル、過塩素酸ｐ−メトシキフェニルジフェニルメチル、
過塩素酸リチウム、過塩素酸ナトリウム、過塩素酸カリ
ウム、テトラブチルアンモニウムを挙げることができ
る。反応系は特に無水状態にすることもなくモレキュラ
ーシーブス等の脱水剤を共存させるだけで十分である。
ル、過塩素酸ｐ−メトシキフェニルジフェニルメチル、
過塩素酸リチウム、過塩素酸ナトリウム、過塩素酸カリ
ウム、テトラブチルアンモニウムを挙げることができ
る。反応系は特に無水状態にすることもなくモレキュラ
ーシーブス等の脱水剤を共存させるだけで十分である。
【００１６】
【参考例１】２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−
Ｄ−マンノピラノシル ジメチルホスフィノチオエ−ト
Ｄ−マンノピラノシル ジメチルホスフィノチオエ−ト
【化２】
【００１７】２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−
Ｄ−マンノピラノ−ス１ｇ（１．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ
８ｍｌに溶解し、−３０℃で氷冷下１．５Ｍのヘキサン
溶液としたブチルリチウム１．６ｍｌ（２．４ｍｍｏ
ｌ）を加え、１５分攪はんし塩化ジメチルホスフィノチ
オイル０．３１ｇ（２．４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ３ｍｌに
溶解して加える。２時間０℃で攪はんし、水を加えてジ
クロロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロ
マト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝８：１）で精製
して２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−マン
ノピラノシル ジメチルホスフィノチオエ−ト８３０ｍ
ｇ（７５％）が得られた。
Ｄ−マンノピラノ−ス１ｇ（１．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ
８ｍｌに溶解し、−３０℃で氷冷下１．５Ｍのヘキサン
溶液としたブチルリチウム１．６ｍｌ（２．４ｍｍｏ
ｌ）を加え、１５分攪はんし塩化ジメチルホスフィノチ
オイル０．３１ｇ（２．４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ３ｍｌに
溶解して加える。２時間０℃で攪はんし、水を加えてジ
クロロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロ
マト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝８：１）で精製
して２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−マン
ノピラノシル ジメチルホスフィノチオエ−ト８３０ｍ
ｇ（７５％）が得られた。
【００１８】1Ｈ ＮＭＲ； １．６８（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１３Ｈｚ，Ｐ−ＣＨ3）、１．８３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１３Ｈｚ，Ｐ−ＣＨ3）、７．０７〜７．５０（２０
Ｈ，ｍ）
＝１３Ｈｚ，Ｐ−ＣＨ3）、１．８３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１３Ｈｚ，Ｐ−ＣＨ3）、７．０７〜７．５０（２０
Ｈ，ｍ）
【００１９】
【参考例２】２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジル−Ｌ−ラ
ムノピラノシル ジメチルホスフィノチオエ−ト
ムノピラノシル ジメチルホスフィノチオエ−ト
【化３】
【００２０】２，３，４−トトリ−Ｏ−ベンジル−Ｌ−
ラムノピラノ−ス２ｇ（４．７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１６
ｍｌに溶解し、−３０℃で氷冷下１．５Ｍのヘキサン溶
液としたブチルリチウム４．１ｍｌ（６．１ｍｍｏｌ）
を加え、１５分攪はんし塩化ジメチルホスフィノチオイ
ル０．７８ｇ（６．１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ６ｍｌに溶解
して加える。２時間０℃で攪はんし、水を加えてジクロ
ロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロマト
（展開剤；ヘキサン：エ−テル＝８：１）で精製して
２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジル−Ｌ−ラムノピラノシ
ル ジメチルホスフィノチオエ−ト２．２ｇ（８９％）
が得られた。
ラムノピラノ−ス２ｇ（４．７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１６
ｍｌに溶解し、−３０℃で氷冷下１．５Ｍのヘキサン溶
液としたブチルリチウム４．１ｍｌ（６．１ｍｍｏｌ）
を加え、１５分攪はんし塩化ジメチルホスフィノチオイ
ル０．７８ｇ（６．１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ６ｍｌに溶解
して加える。２時間０℃で攪はんし、水を加えてジクロ
ロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロマト
（展開剤；ヘキサン：エ−テル＝８：１）で精製して
２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジル−Ｌ−ラムノピラノシ
ル ジメチルホスフィノチオエ−ト２．２ｇ（８９％）
が得られた。
【００２１】1Ｈ ＮＭＲ； １．６４（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１３Ｈｚ，Ｐ−ＣＨ3）、１．７５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１３Ｈｚ，Ｐ−ＣＨ3）、６．８７〜７．２７（１５
Ｈ，ｍ）
＝１３Ｈｚ，Ｐ−ＣＨ3）、１．７５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１３Ｈｚ，Ｐ−ＣＨ3）、６．８７〜７．２７（１５
Ｈ，ｍ）
【００２２】
【参考例３】４−Ｏ−ベンゾイル−２，３−ジ−Ｏ−ベ
ンジル−Ｌ−ラムノピラノシル ジメチルホスフィノチ
オエ−ト
ンジル−Ｌ−ラムノピラノシル ジメチルホスフィノチ
オエ−ト
【化４】
【００２３】２，３−ジ−Ｏ−ベンジル−Ｌ−ラムノピ
ラノ−ス２９６．７ｇ（０．８６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ４
ｍｌに溶解し、−３０℃で氷冷下１．６Ｍのヘキサン溶
液としたブチルリチウム０．５３ｍｌ（０．８７ｍｍｏ
ｌ）を加え、１５分攪はんし塩化ジメチルホスフィノチ
オイル１１１ｍｇ（０．８６ｍｍｏｌ）をＴＨＦｍｌに
溶解して加える。２時間０℃で攪はんし、水を加えてジ
クロロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロ
マト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製
し、２，３−じ−Ｏ−ベンジル−Ｌ−ラムノピラノシル
ジメチルホスフィノチオエ−ト２２９．２ｍｇ（６１
％）が得られた。これに塩化ベンゾイル２２６ｍｇ
（１．６ｍｍｏｌ）を２ｍｌベンゼンに溶解して加え、
さらに２１０ｍｇのピリジン２１０ｍｇ（２．７ｍｍｏ
ｌ）を２ｍｌベンゼンに溶解して加え一晩攪はんした。
１Ｎ塩酸溶液を１０ｍｌ加え酢酸エチルで抽出し、有機
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し
調製用シリカゲル薄層クロマト（展開剤；ヘキサン：エ
−テル＝８：１）で精製して４−Ｏ−ベンゾイル−２，
３−ジ−Ｏ−ベンジル−Ｌ−ラムノピラノシル ジメチ
ルホスフィノチオエ−ト２８７ｍｇ（１００％）が得ら
れた。
ラノ−ス２９６．７ｇ（０．８６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ４
ｍｌに溶解し、−３０℃で氷冷下１．６Ｍのヘキサン溶
液としたブチルリチウム０．５３ｍｌ（０．８７ｍｍｏ
ｌ）を加え、１５分攪はんし塩化ジメチルホスフィノチ
オイル１１１ｍｇ（０．８６ｍｍｏｌ）をＴＨＦｍｌに
溶解して加える。２時間０℃で攪はんし、水を加えてジ
クロロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロ
マト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製
し、２，３−じ−Ｏ−ベンジル−Ｌ−ラムノピラノシル
ジメチルホスフィノチオエ−ト２２９．２ｍｇ（６１
％）が得られた。これに塩化ベンゾイル２２６ｍｇ
（１．６ｍｍｏｌ）を２ｍｌベンゼンに溶解して加え、
さらに２１０ｍｇのピリジン２１０ｍｇ（２．７ｍｍｏ
ｌ）を２ｍｌベンゼンに溶解して加え一晩攪はんした。
１Ｎ塩酸溶液を１０ｍｌ加え酢酸エチルで抽出し、有機
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し
調製用シリカゲル薄層クロマト（展開剤；ヘキサン：エ
−テル＝８：１）で精製して４−Ｏ−ベンゾイル−２，
３−ジ−Ｏ−ベンジル−Ｌ−ラムノピラノシル ジメチ
ルホスフィノチオエ−ト２８７ｍｇ（１００％）が得ら
れた。
【００２４】13Ｃ ＮＭＲ；９４．４ｐｐｍ．（Ｃ−１
位）
位）
【００２５】
【実施例２】３β−コレスタニル−２，３，４，６−テ
トラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−マンノピラノシド
トラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−マンノピラノシド
【化５】
【００２６】参考例１で合成した２，３，４，６−テト
ラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−マンノピラノシル ジメチルホ
スフィノチオエ−ト１２６．５ｍｇ（０．２ｍｍｏ
ｌ）、３β−コレスタノール７７．７ｍｇ（０．２ｍｍ
ｏｌ）、過塩素酸トリチル３．４ｍｇ（０．０１ｍｍｏ
ｌ）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン２ｍｌに懸
濁させ、０．１Ｍヨウ素ベンゼン溶液を２ｍｌ（０．２
ｍｍｏｌ）滴下して加え、室温で一晩攪はんしたのち、
５％チオ硫酸ナトリウム水溶液５ｍｌを加え反応を停止
する。反応混合物をろ過後塩化メチレンで抽出し、有機
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し
調製用シリカゲル薄層クロマト（展開剤；ヘキサン：酢
酸エチル＝６：１）で精製したところ目的のグリコシル
化合物が９１．３ｍｇ（５０％，α/β＝３/７）得られ
た。
ラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−マンノピラノシル ジメチルホ
スフィノチオエ−ト１２６．５ｍｇ（０．２ｍｍｏ
ｌ）、３β−コレスタノール７７．７ｍｇ（０．２ｍｍ
ｏｌ）、過塩素酸トリチル３．４ｍｇ（０．０１ｍｍｏ
ｌ）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン２ｍｌに懸
濁させ、０．１Ｍヨウ素ベンゼン溶液を２ｍｌ（０．２
ｍｍｏｌ）滴下して加え、室温で一晩攪はんしたのち、
５％チオ硫酸ナトリウム水溶液５ｍｌを加え反応を停止
する。反応混合物をろ過後塩化メチレンで抽出し、有機
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し
調製用シリカゲル薄層クロマト（展開剤；ヘキサン：酢
酸エチル＝６：１）で精製したところ目的のグリコシル
化合物が９１．３ｍｇ（５０％，α/β＝３/７）得られ
た。
【００２７】13Ｃ ＮＭＲ；９５．７ｐｐｍ．（Ｃ−１
位α体）、９９．２ｐｐｍ．（Ｃ−１位β体）
位α体）、９９．２ｐｐｍ．（Ｃ−１位β体）
【００２８】
【実施例２】３β−コレスタニル−２，３，４−トリ−
Ｏ−ベンジル−Ｌ−ラムノピラノシド
Ｏ−ベンジル−Ｌ−ラムノピラノシド
【化６】
【００２９】参考例２で合成した２，３，４−トリ−Ｏ
−ベンジル−Ｌ−ラムノピラノシルジメチルホスフィノ
チオエ−ト１０９．９ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）、３β−
コレスタノール８０．５ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）、過塩
素酸トリチル３．５ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）、モレキ
ュラーシーブス粉末をベンゼン２ｍｌに懸濁させ、０．
１Ｍヨウ素ベンゼン溶液を２ｍｌ（０．２ｍｍｏｌ）滴
下して加え、室温で一晩攪はんしたのち、５％チオ硫酸
ナトリウム水溶液５ｍｌを加え反応を停止する。反応混
合物をろ過後塩化メチレンで抽出し、有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカ
ゲル薄層クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝
６：１）で精製したところ目的のグリコシル化合物が１
２７．７ｍｇ（７６％，α／β＝４／６）得られた。
−ベンジル−Ｌ−ラムノピラノシルジメチルホスフィノ
チオエ−ト１０９．９ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）、３β−
コレスタノール８０．５ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）、過塩
素酸トリチル３．５ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）、モレキ
ュラーシーブス粉末をベンゼン２ｍｌに懸濁させ、０．
１Ｍヨウ素ベンゼン溶液を２ｍｌ（０．２ｍｍｏｌ）滴
下して加え、室温で一晩攪はんしたのち、５％チオ硫酸
ナトリウム水溶液５ｍｌを加え反応を停止する。反応混
合物をろ過後塩化メチレンで抽出し、有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥して、溶媒を減圧留去し調製用シリカ
ゲル薄層クロマト（展開剤；ヘキサン：酢酸エチル＝
６：１）で精製したところ目的のグリコシル化合物が１
２７．７ｍｇ（７６％，α／β＝４／６）得られた。
【００３０】13Ｃ ＮＭＲ；９５．７ｐｐｍ．（Ｃ−１
位α体）、９９．２ｐｐｍ．（Ｃ−１位β体）
位α体）、９９．２ｐｐｍ．（Ｃ−１位β体）
【００３１】実施例２で過塩素酸トリチルだけのモル数
を変えて行った結果を下に示す。
を変えて行った結果を下に示す。
【００３２】 過塩素酸トリチル／ｍｍｏｌ 収率／％ α／β ０．０２ ９３ ６／４ ０．００５ ８４ ８／２
【００３３】実施例２で溶媒だけを変えて行った結果を
下に示す。
下に示す。
【００３４】
【００３５】実施例２で過塩素酸塩だけを変えて行った
結果を下に示す。
結果を下に示す。
【００３６】 過塩素酸塩名／ｍｍｏｌ 収率／％ α／β 過塩素酸テトラブチルアンモニウム／０．１ ６８ ７／３ 過塩素酸テトラブチルアンモニウム／０．２ ４３ ６／４ 過塩素酸リチウム／０．０１ ７３ ８／２
【００３６】
【実施例３】３β−コレスタニル−４−Ｏ−ベンゾイル
−２，３−ジ−Ｏ−ベンジル−Ｌ−ラムノピラノシド
−２，３−ジ−Ｏ−ベンジル−Ｌ−ラムノピラノシド
【化７】
【００３７】参考例３で合成した４−Ｏ−ベンゾイル−
２，３−ジ−Ｏ−ベンジル−Ｌ−ラムノピラノシル ジ
メチルホスフィノチオエ−ト１０３．２ｍｇ（０．１９
ｍｍｏｌ）、３β−コレスタノール７４．４ｍｇ（０．
１９ｍｍｏｌ）、過塩素酸トリチル６．７ｍｇ（０．０
２ｍｍｏｌ）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン２
ｍｌに懸濁させ、０．１Ｍヨウ素ベンゼン溶液を１．９
ｍｌ（０．１９ｍｍｏｌ）滴下して加え、室温で一晩攪
はんしたのち、５％チオ硫酸ナトリウム水溶液５ｍｌを
加え反応を停止する。反応混合物をろ過後塩化メチレン
で抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶
媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロマト（展開
剤；ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）で精製したところ
目的のグリコシル化合物が１０２．７ｍｇ（６６％，α
／β＝３／７）得られた。
２，３−ジ−Ｏ−ベンジル−Ｌ−ラムノピラノシル ジ
メチルホスフィノチオエ−ト１０３．２ｍｇ（０．１９
ｍｍｏｌ）、３β−コレスタノール７４．４ｍｇ（０．
１９ｍｍｏｌ）、過塩素酸トリチル６．７ｍｇ（０．０
２ｍｍｏｌ）、モレキュラーシーブス粉末をベンゼン２
ｍｌに懸濁させ、０．１Ｍヨウ素ベンゼン溶液を１．９
ｍｌ（０．１９ｍｍｏｌ）滴下して加え、室温で一晩攪
はんしたのち、５％チオ硫酸ナトリウム水溶液５ｍｌを
加え反応を停止する。反応混合物をろ過後塩化メチレン
で抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶
媒を減圧留去し調製用シリカゲル薄層クロマト（展開
剤；ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）で精製したところ
目的のグリコシル化合物が１０２．７ｍｇ（６６％，α
／β＝３／７）得られた。
【００３８】13Ｃ ＮＭＲ；９６．７ｐｐｍ．（Ｃ−１
位α体）、９９．４ｐｐｍ．（Ｃ−１位β体）
位α体）、９９．４ｐｐｍ．（Ｃ−１位β体）
【００３９】実施例３で過塩素酸トリチルだけのモル数
を変えて行った結果を下に示す。
を変えて行った結果を下に示す。
【００４０】 過塩素酸トリチル／ｍｍｏｌ 収率／％ α／β ０．２ ６６ ７／３ ０．０１ ８５ ２／８
【００４１】
【発明の効果】本発明はこのように有用な化合物を収率
良く、緩和な条件下で製造でき、副生成物も少なく、そ
の工業的価値は大である。
良く、緩和な条件下で製造でき、副生成物も少なく、そ
の工業的価値は大である。
Claims (3)
- 【請求項１】 Ｃ−２位にアキシャル水酸基をもつマン
ノ−ス系糖のヘミアセタール位がアセタール結合してい
る糖の水酸基の水素が一般式 【化１】 （式中Ｒ1 ， Ｒ2は非置換または置換されたアルキル基
あるいはアリール基を示す。）で表されるホスフィノチ
オイル基で置換されたマンノシド系糖のアセタール位チ
オホスフィン酸エステル誘導体と、脂肪族アルコール、
芳香族アルコール、ステロイドアルコール、グリセロー
ル誘導体、糖誘導体、アミノ酸誘導体から選ばれるアル
コ−ルまたはそのトリメチルシリルエ−テル体とをヨウ
素と触媒量の過塩素酸塩を共存させ反応させることを特
徴とするβ−マンノシド系化合物の製造法。 - 【請求項２】 マンノ−ス系糖のアセタール位チオホス
フィン酸エステルとしてジメチルチオホスフィン酸エス
テル誘導体を用いることを特徴とする請求項１の製造
法。 - 【請求項３】 過塩素酸塩として過塩素酸トリチル、過
塩素酸テトラブチルアンモニウム、過塩素酸リチウムを
用いることを特徴とする請求項１の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8941392A JPH05255370A (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | β−マンノシド系化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8941392A JPH05255370A (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | β−マンノシド系化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05255370A true JPH05255370A (ja) | 1993-10-05 |
Family
ID=13969964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8941392A Pending JPH05255370A (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | β−マンノシド系化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05255370A (ja) |
-
1992
- 1992-03-13 JP JP8941392A patent/JPH05255370A/ja active Pending
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