JPH0669102A - X線リソグラフィ装置 - Google Patents

X線リソグラフィ装置

Info

Publication number
JPH0669102A
JPH0669102A JP4221518A JP22151892A JPH0669102A JP H0669102 A JPH0669102 A JP H0669102A JP 4221518 A JP4221518 A JP 4221518A JP 22151892 A JP22151892 A JP 22151892A JP H0669102 A JPH0669102 A JP H0669102A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
window
sor
beam line
intensity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4221518A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuyuki Furuse
一幸 古瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP4221518A priority Critical patent/JPH0669102A/ja
Publication of JPH0669102A publication Critical patent/JPH0669102A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】SOR光をX線ミラーで集光反射し、かつ露光
面積拡大のため揺動した際に、このX線ミラー揺動速度
の制御を、容易、かつ条件の変化に直ちに対応して、露
光ムラを補正し、露光精度の向上化を図ったX線リソグ
ラフィ装置を提供する。 【構成】SORリング1、ビームライン2、X線ミラー
3、Be窓4、露光装置5とからなるX線リソグラフィ
装置であり、上記Be窓に対して垂直方向にX線が走査
されるとき、その走査方向に沿うBe窓の上下部にそれ
ぞれ設けられ、それぞれがX線の強度を計測する一対の
X線検出素子7a,7bと、これらX線検出素子から送
られるX線強度結果を受けて、これらが等しくなるよう
に、X線ミラーの揺動速度を制御するX線測定系8とミ
ラー揺動制御系9とを具備した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、SOR(シンクロトロ
ン放射X線)光を用いてパターン転写をなすX線リソグ
ラフィ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】SOR(シンクロトロン放射X線)光
は、高速に近い速さをもった電子(一般には荷電粒子)
が円軌道のような加速度を受ける運動を行う際に放出す
る電磁波である。
【0003】このようなSOR光は、はじめ、原子核実
験用のシンクロトロンにおいて観測された。その後、電
子を数時間安定に周回させることができる電子蓄積リン
グが作られて、物性実験用の極端紫外線や軟X線領域の
光源として利用されている。そして、近時、X線リソグ
ラフィ装置の線源としても注目されるようになってい
る。
【0004】この種の装置は、SORリングからSOR
光を超高真空のビームラインに取出し、SOR光から短
波長のX線成分をX線ミラーが除去して反射し、ビーム
ライン側の超高真空領域と露光装置側の大気圧領域ない
し減圧雰囲気とを区分してX線を取出し、露光させるX
線透過膜であるBe(ベリリウム)窓とからなる。
【0005】上記ビームラインにおけるX線は、軌道面
に対して垂直方向に指向性が高く、露光に用いるには、
露光面積拡大のため、垂直方向に拡大する必要があり、
それには、上記X線ミラーを垂直方向に揺動して、X線
ビームを走査する手段が多く採用されている。
【0006】なお説明すれば、SORリングから露光装
置までの距離を10mとした場合において、取出された
X線は格段に緩いものとなる。この場合、X線は上下方
向に5mm程度のスリット状にしかならないので、広い面
積を露光するのに、機構的に簡素ですむ、上記X線ミラ
ーの揺動が行われる。
【0007】しかしながら、X線ミラーを揺動すれば、
このミラーへのSOR光の斜入射角が変化し、X線反射
率が変動するため、一様な速度で揺動しただけでは強度
の不均一性を生じる。
【0008】そのために、X線ミラーは、X線反射率の
変化に対応して、その揺動速度を変化させ、補正する必
要がある。このような揺動速度を補正する制御をなすに
あたって、理論的な反射率変化を計算によって求める
か、あるいはレジスト等による予備露光実験の残膜厚の
評価などによって得られるデータをフィードバックする
ことが考えられる。
【0009】しかしながら、理論的な計算では、実際の
装置とに大きな差異があって、現状にそぐわないことが
多い。また、実験データをフィードバックすることで
は、ビームライン等の条件が変化した場合に、即座に対
応できない欠点がある。
【0010】一方、上記Be窓を構成するBe材は、X
線の透過率が高いために一般的に使われる素材であり、
スループットを上げるために、膜厚を薄くすることで対
処されている。しかるにその反面、膜厚を薄くすると、
強度的に低下することが避けられない。したがって、X
線透過膜であるBe窓の膜厚を薄くしても、所定の強度
が得られるような補強をなす工夫が、従来よりなされて
いる。
【0011】たとえば特開昭61−104620号公報
に見られるように、Be窓を備えた取出し筒を複数の小
室に分け、各室を排気することによりBe窓にかかる圧
力を低減させ、結果として窓の薄片化を可能とする手
段。特開昭62−285352号公報に見られるよう
に、Be窓を球状または突面状に成形し、差圧に対する
強度を高めることによって薄膜化を図る手段。特開平3
−38026号公報に見られるように、Be窓をX線ミ
ラー近傍に位置させることにより、窓の寸法を小さく
し、膜厚を薄くする手段などがある。
【0012】しかしながら、これら手段はいずれも不具
合な点を兼ね備えている。すなわち、Be窓の形状構造
を限定しても、露光雰囲気の圧力が定まってしまえば、
それに対して膜厚を薄くするために限界があり、極限的
にX線透過率を上げることは不可能である。また、Be
窓をX線ミラーの近傍に位置させると、ビームライン構
成が複雑になるとともに、窓破損時における真空保護が
行い難い欠点がある。あるいは、特開平2−18479
9号公報に見られるように、X線ミラーとBe窓を同期
して走査する手段。特開平3−105300号公報に見
られるように、透過孔を設けた支持部材上に、X線透過
膜を形成する手段。特開平3−108699号公報に見
られるように、窓材を円筒形状に形成し、強度を向上さ
せる手段などがある。
【0013】しかるに、X線ミラーとBe窓を同期して
揺動させても、この揺動方向と垂直方向に生じた強度の
ムラについて補正することは困難である。支持部材上に
窓を形成しても、支持部材での減衰による透過X線強度
の低下が大きくなる。円筒形状窓も同様に、それ単独で
はX線強度の均一化に寄与することができない。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】このように、X線ミラ
ーを揺動すると、SOR光の斜入射角が変化して、X線
反射率が変動するため、一様な速度で揺動しただけでは
強度の不均一性を生じるが、X線ミラーをX線反射率の
変化に対応して、その揺動速度を変化させ、補正する最
適な手段が、従来存在しない。また、X線を取出すBe
窓において、X線透過率を高くして、スループットを高
く保持するには、従来全て不充分であった。
【0015】本発明は、このような事情によりなされた
ものであり、その第1の目的とするところは、SOR光
をX線ミラーで集光反射し、かつ露光面積拡大のため揺
動した際に、このX線ミラー揺動速度の制御を、容易、
かつ条件の変化に直ちに対応して、露光ムラを補正し、
露光精度の向上化を図ったX線リソグラフィ装置を提供
することにある。
【0016】第2の目的とするとろは、ビームライン終
端部に配置されるBe窓のX線透過率を向上させ、スル
ープットの高いビームラインを得ることができ、X線強
度の増大と露光面積拡大のための薄い膜厚においても広
い面積を得られ、透過X線の面内強度を均一にするX線
リソグラフィ装置を提供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
第1の発明は、指向性が強く高強度のSOR(シンクロ
トロン放射X線)光発生源としてのSORリングから超
高真空のビームラインがSOR光を取出し、このビーム
ライン中にSOR光を集光反射し、かつ短波長のX線成
分を除去して、露光面積拡大のため揺動するX線ミラー
を配置し、上記ビームライン終端部にBe(ベリリウ
ム)窓を配置してビームライン側の超高真空領域と大気
圧領域ないし減圧雰囲気とを区分してX線を取出し、こ
のBe窓を透過したX線を受けて露光される露光装置と
を具備したX線リソグラフィ装置において、
【0018】上記Be窓に対して垂直方向にX線が走査
されるとき、その走査方向に沿うBe窓の上下部にそれ
ぞれ設けられ、それぞれがX線の強度を計測する一対の
X線検出素子と、これらX線検出素子から送られるX線
強度結果を受けて、これらが等しくなるように、X線ミ
ラーの揺動速度を制御する手段とを具備したことを特徴
とするX線リソグラフィ装置である。
【0019】第2の発明は、上記Be窓に対して垂直方
向にX線が走査されるとき、その受光範囲内で、かつ走
査方向に沿うBe窓の左右側部の少なくとも一方に設け
られ、X線の走査中は継続してその強度を計測するX線
検出用のラインセンサと、このラインセンサから送られ
るX線強度結果をリアルタイムでフィードバックして、
X線ミラーの揺動速度を制御する手段とを具備したこと
を特徴とするX線リソグラフィ装置である。
【0020】第3の発明は、上記Be窓は、極く細かい
目の網状体であり、上記ビームラインの終端部に配置さ
れ、Be窓からのリークを排気する差動排気手段と、上
記Be窓に連結され、Be窓をその網目の大きさよりも
大きなストロークで揺動させる手段とを具備したことを
特徴とするX線リソグラフィ装置である。
【0021】第4の発明は、Be窓は、膜部材と、この
膜部材の一方の側面に一体に設けられ膜部材を補強する
支持体とからなり、上記膜部材は、入射するX線強度の
ムラに反比例して、その膜厚が薄くなるよう膜厚分布を
設定したことを特徴とするX線リソグラフィ装置であ
る。
【0022】
【作用】第1の発明では、垂直方向にX線が走査され、
その走査方向に沿うBe窓の上下部にそれぞれ設けられ
る一対のX線検出素子がX線の強度を計測し、このX線
強度結果を受けて、これらが等しくなるように、X線ミ
ラーの揺動速度を制御する。
【0023】第2の発明では、X線走査範囲内で、この
方向に沿うBe窓の左右側部の少なくとも一方に設けら
れるラインセンサが、X線の走査中、継続してその強度
を計測し、これらラインセンサから送られるX線強度結
果をリアルタイムでフィードバックし、X線ミラーの揺
動速度を制御する。したがって、いずれの発明であって
も、X線ミラー揺動速度の制御を容易に、かつ条件の変
化に直ちに対応して、露光ムラを補正することができ
る。
【0024】第3の発明では、極く細かい目の網状体か
らなるBe窓をその網目の大きさよりも大きなストロー
クで揺動させ、ビームラインの終端部に、Be窓からの
リークを排気する。
【0025】第4の発明では、膜部材および膜部材の一
方の側面に一体に設けられる支持体とからなるBe窓
で、上記膜部材は、入射するX線強度のムラに反比例し
て、その膜厚が薄くなるよう膜厚分布を設定した。
【0026】したがって、いずれの発明であっても、B
e窓のX線透過率が良好となり、スループットの高いビ
ームラインとなり、かつ薄い膜厚で広い面積を得られ、
透過X線の面内強度が均一になる。
【0027】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面にもとづいて
説明する。図1ないし図3は、第1の発明に対応する。
【0028】すなわち、図中1はSORリングであり、
高強度のSOR(シンクロトロン放射X線)光の光発生
源である。これは、図示しない加速器から入射される電
子を、偏向電磁石で軌跡を曲げながら真空パイプ内を周
回させ、電子の1周期に同期してここに備えられる加速
器で所定のエネルギに加速維持する。
【0029】さらに、電子ビームを収束させるための四
極電磁石を経て、偏向電磁石で電子軌跡が曲げられる部
分から接線方向に、ビームライン2に沿ってSOR光を
取出すようになっている。
【0030】上記ビームライン2に取出されたSOR光
は、軌道面垂直方向には1mrad程度の広がりを持
ち、軌道面内ではちょうどカーブを曲る自動車のヘッド
ライトが掃くように、曲りの角に等しい頂角を持つ扇形
の範囲に広がる。実際に利用される光の軌道面内の広が
りは、放射光を取出すビームダクトの内径またはビーム
ダクト内のスリット幅で決定される。
【0031】上記ビームライン2は、SORリング1よ
りSOR光を取出すため超高真空に形成されていて、こ
の中途にX線ミラー3が配置される。このミラー3は、
ビームライン2を導かれるSOR光を集光し、短波長の
X線成分を除去する。そして、図示しない揺動駆動源に
機械的に連結されていて、露光面積拡大のため揺動する
ようになっている。
【0032】このX線ミラー3のSOR光反射側で、か
つビームライン2の終端部には、X線透過膜としてのB
e(ベリリウム)窓4が配置される。これは、超高真空
に形成されるビームライン2と、大気圧領域ないし減圧
雰囲気とを区分していて、ビームライン2を導かれるX
線を大気圧領域ないし減圧雰囲気中に透過させるもので
ある。
【0033】上記Be窓4のX線取出側には、所定のパ
ターンを備えたマスクおよびレジストが塗布されたウエ
ハ(いずれも図示しない)などを備えた露光装置5が配
置される。
【0034】基本的に、このようにして構成されるX線
リソグラフィ装置であって、特に、上記Be窓4は、図
1および図2に示すように、ここでは円形状に形成され
る。そして、Be窓4は同心円形のフランジ6に支持さ
れており、上記X線ミラーはこのBe窓4に対して垂直
方向にX線を走査するようになっている。
【0035】上記フランジ6には、X線の走査方向に沿
うBe窓4の上下部に対応する位置に、それぞれがX線
の強度を計測する、たとえば電子増倍管である一対のX
線検出素子7a,7bが設けられる。
【0036】これらX線検出素子7a,7bは、X線測
定系8を介してミラー揺動制御系9に電気的に接続され
る。上記X線測定系8は、各X線検出素子7a,7bが
計測したX線強度信号を受け、これらX線検出素子7
a,7bのX線強度結果が互いに等しくなるようにミラ
ー揺動制御系9に信号を送り、ここではX線ミラー3の
揺動速度を制御するようになっている。
【0037】しかして、X線ミラー3が揺動して露光面
積を拡大した露光が行われる。すなわち、ここで反射さ
れるSOR光は垂直方向にわずかな幅しかないので、露
光面積を拡大するため揺動駆動する。
【0038】図2に示すように、上記Be窓4に対し
て、垂直方向にX線が走査される。上部側のX線検出素
子7aは、Be窓4を走査する直前位置でX線強度を検
出し、下部側のX線検出素子7bは、Be窓4を走査す
る直後位置でX線強度を検出する。そして、図3のよう
に、各検出素子7a,7bが配置される露光面Sの上下
端部では、異なるX線強度(ガウス分布で示す)となっ
て現れる。再び図1に示すように、上述した露光を行う
前に、露光装置5側をシャッタで閉成し、この状態でX
線を等速度で走査する。
【0039】このとき、X線ミラー3の揺動にともなう
斜入射角の変化をそのまま反映し、Be窓4の上下部に
設けられるX線検出素子7a,7bの検出信号の強度が
異なる。
【0040】これらの検出信号の強度をSu,Sdと
し、それぞれの検出素子7a,7bを照射した際のX線
ミラー3の角度をQu,Qdとしたとき、この強度信号
をX線測定系8からミラー揺動制御系9にフィードバッ
クする。X線ミラー3の角度θのときの揺動速度V
(θ)は、
【0041】
【数1】 (なお、V0 は、露光感度から予め要求される窓中心を
走査する時の速度)
【0042】このような予備走査の結果から計算して、
X線ミラー3の揺動速度制御をなすことにより、Be窓
4と、ひいては露光装置5に対する走査方向に、常に均
一な露光をなすことができる。
【0043】なお、上記実施例においては、本露光前1
回の予備走査の結果から計算し、本露光時の揺動速度制
御を行うようにしたが、これに限定されるものではな
く、たとえば揺動速度を適宜制御しながら予備走査を数
回繰り返し、上下のX線検出素子7a,7bの検出強度
が等しくなるようにX線ミラー3の揺動速度を求めて
も、上記実施例と同様の作用効果が得られる。さらに、
X線検出素子7a,7bは、必ずしも光増倍管を用いる
ことに限定されず、MCPなどの軟X線の強度を測定で
きる素子であればよい。第2の発明は、図4および図5
に対応する。
【0044】すなわち、SORリング1、ビームライン
2、X線ミラー3、Be窓4と、Be窓4を支持するフ
ランジ6および露光装置5などは全て、先に図1で説明
したものと同一でよく、同番号を付して新たな説明を省
略する。
【0045】図5にも示すように、上記Be窓4を備え
たフランジ6には、Be窓4の超高真空側の開口部左右
両側に、一対のラインセンサ10a,10bが備えられ
る。これらラインセンサ10a,10bは、垂直方向に
長く、Be窓4に対して垂直方向にX線が走査されると
き、その受光範囲内に存在する位置にある。
【0046】再び図4に示すように、上記各ラインセン
サ10a,10bはラインセンサ測定系11に電気的に
接続される。一方、上記X線ミラー3は、ミラー揺動制
御系9に電気的に接続され、このミラー揺動制御系9は
ラインセンサ測定系11からの制御信号を受けるように
なっている。しかして、X線ミラー3は、Be窓4に対
し上部から下部側へ垂直方向にX線を走査する状態で、
ラインセンサ10a,10bをともに照射する。
【0047】各ラインセンサ10a,10bは、X線強
度を連続して検出し、その検出信号をラインセンサ測定
系11に送る。ここでは、ラインセンサ10a,10b
からのX線強度信号をリアルタイムでモニタしながらそ
の値が一定となるように、ミラー揺動制御系9に制御信
号を送る。
【0048】上記ミラー揺動制御系9においては、ライ
ンセンサ10a,10bから送られるX線強度結果がラ
インセンサ測定系11を介してリアルタイムでフィード
バックされ、X線ミラー3の揺動速度が一定となるよう
に速度制御する。
【0049】このことにより、露光前に何らの予備準備
も必要でなく、X線ミラー3でBe窓4を走査すると同
時に、ミラー揺動速度のフィードバック制御をなし、リ
アルタイムでのミラー反射率変化の補正が可能となり、
高い補正精度を保持する。また、リアルタイムでモニタ
−しながらの制御であるため、露光中の条件反射による
影響も即座に補正できることとなる。
【0050】このように上記実施例においては、Be窓
4の左右両側にラインセンサ10a,10bを備えたた
め、互いの照射位置の差異を見ることで、X線ビームな
いしはX線ミーラ3の傾きを検出し、その調整に供する
ことも可能である。
【0051】なお、Be窓4の左右いずれか一方にのみ
ラインセンサを備えても、ミラー3に対する速度制御の
ための強度検出の点では、両側に備えたものと略同等の
効果を得られる。
【0052】また、上記実施例においては、Be窓4が
固定のものとして説明したが、これに限定されるもので
はなく、X線ミラー3と同期的に揺動をなすものであっ
ても同様の作用効果を得られる。第3の発明は、図6な
いし図8に対応する。
【0053】すなわち、後述するBe窓4Aと、これを
支持するフランジ6Aを除いて、SORリング1、ビー
ムライン2、X線ミラー3および露光装置5などは全
て、先に図1で説明したものと同一でよく、同番号を付
して新たな説明を省略する。上記Be窓4Aは、X線透
過率の高い材料である、Be材からなり、かつ極めて細
かい目の網状体である。
【0054】そして、上記Be窓4Aには、これを斜め
45°の方向に揺動加振することにより、その網目の大
きさよりも大きなストロークで揺動させることになる加
振装置12が連結される。
【0055】上記ビームライン2の終端部に、差動排気
系13が連通される。この差動排気系13は、ビームラ
イン2における網状体であるBe窓4Aからのリークを
排気するものである。
【0056】しかして、X線ミラー3で反射されるX線
は網状体からなるBe窓4Aを透過する。このときBe
窓4Aは、斜め45°の方向に揺動加振されており、そ
の結果、網目の大きさよりも大きなストロークで揺動さ
せられることになる。
【0057】図8に示すように、Be窓4Aが一方向に
偏った際の所定の部位を透過した際のX線の透過率は、
Be窓4Aが加振されて他方向の位置に変わることによ
り、透過率も変化する。
【0058】Be窓4Aの加振ストロークは、その網目
の大きさよりも大きなストロークで揺動させられるか
ら、X線透過率が0%の部位から100%の部位まで常
に、連続的に変化する。したがって、X線透過率は、こ
れらの平均値に保持されることとなり、通常の薄膜状の
ものと同様の作用を得られる。
【0059】そしてさらに、網状体かららなるBe窓4
Aであるので、Be窓本来の機能である、ビームライン
2側の超高真空領域と大気圧領域ないし減圧雰囲気にあ
る露光装置5とを区分する機能が、そのままでは損なわ
れてしまうが、ここでは上記ビームライン2の終端部に
差動排気系13を備えて排気するようにしたので、結果
的には支障がない。
【0060】このようなビームライン2終端部のみの改
良であるため、ビームライン2全体に対する何らの制限
も生じない。そして、網状体のBe窓4Aとしたので、
必ずしも露光雰囲気圧力に耐え得る強度を有する必要が
生じないですみ、さらなる薄片化が望める。
【0061】網目の大きさについては、リーク量と差動
排気系13の排気能力との兼ね合いで決定されるサイズ
まで大きくできるため、従来のような膜厚を均一にした
ものよりも大幅な透過率の向上を見込むことができる。
【0062】なお、上記実施例においては、Be窓4A
を構成する素材として、X線透過率の高い材料とした
が、差動排気系13の排気能力を高く保持でき、網目の
大きさをより大きくできれば、素材自体の透過率が低く
ても、構造強度が強い材料で、かつ網状体として加工し
易い材料まで、その選択範囲を拡大できる。第4の発明
は、図9および図10に対応する。
【0063】ここで説明するBe窓4Bは、固定した状
態で、必要な露光面積をカバーできる寸法とし、膜部材
14と、この膜部材14の一方の側面である、X線の入
射側に一体に設けられる支持体15とからなる。
【0064】上記支持体15は、はじめ厚肉とした膜部
材14に対して、エッチングなどの手段を用いて設けら
れており、ここでは走査方向と、この走査方向とは直交
する方向とのそれぞれに沿って、所定間隔を存して一体
に設けられる。したがって、支持体15は格子状に形成
されることになる。
【0065】このような支持体15の、格子の幅および
ピッチは、光源である上記SORリング1の有源寸法
と、Be窓4Bと上記露光装置5との露光対象物との間
の距離によって生じるボケで、格子による強度のムラが
平均化されるよう設定しなければならない。さらに上記
膜部材14は、入射するX線強度のムラに反比例して、
その膜厚が薄くなるよう膜厚分布が設定されている。
【0066】なお説明すれば、図において、Be窓4B
の上部から下部方向にX線が走査されるとき、膜部材1
4として上部側を厚肉にし、上部側から下部側に亘って
漸次、直線的に薄肉化する。一方、走査方向と直交する
方向の膜部材14の膜厚分布としては、中心部を頂部と
する厚肉とし、両側端部に亘って漸次、放物線状に薄肉
化する。
【0067】すなわち、図10に示すように、X線の入
射形状は略扇状をなすが、走査にともなって全体的に面
積が縮小していく。上記X線ミラー3の斜入射角度の小
さい程X線の反射率の高く、すなわちBe窓4Bにおけ
る最も上部側の入射面積が最も大きく、ここを透過する
軟X線強度が最も大となる。以下、走査方向に沿って、
漸次その強度が弱まる。
【0068】したがって、再び図9に示すように、膜部
材14の膜厚を、上部側を厚くし、下部側を薄くすれ
ば、入射するX線の強度が常に走査方向に平均化して透
過することとなる。
【0069】一方、走査方向とは直交する方向の強度を
見てみると、扇状に形成される入射形状の、特に中心部
に集光される度合いが最も高く、両側端にかけて漸次低
くなる。
【0070】したがって、膜部材14の膜厚を、中心部
を厚くし、両側端を薄くすれば、入射するX線の強度が
常に走査方向とは直交する方向に平均化して透過するこ
ととなる。
【0071】このような形状構造のBe窓4Bを備え、
揺動することなく固定の状態で必要な面積を得ることが
できるので、露光装置5近傍に信号源を配置することに
よる悪影響がない。
【0072】また、支持体15を膜部材14と同一材か
ら形成したので、たとえばSiからなる支持部材を用い
た場合と比較して、透過X線強度の損失を低く抑えるこ
とができる。
【0073】そして、膜部材14の膜厚を、入射するX
線の強度のムラに反比例して漸次薄くしたので、膜厚分
布を2次元的にでき、露光面内の強度の均一化に対応す
ることとなる。
【0074】なお、上記実施例においては、支持体15
を正方形の格子状に形成したが、これに限定されるもの
ではなく、Be窓4Bと露光装置5である露光対象物と
の間の距離によって生じるボけの影響を無視できるよう
な幅およびピッチに形成されていれば、格子の形状につ
いて高い自由度の設計ができる。そして、膜部材14
を、支持体15に沿って開口し、すなわち網目状にする
とともに、先に説明したような膜厚分布を形成する構造
であってもよい。
【0075】
【発明の効果】以上説明したように、第1の発明によれ
ば、X線検出素子から送られるX線強度結果を受けて、
これらが等しくなるように、X線ミラーの揺動速度を速
度制御するようにしたから、
【0076】第2の発明によれば、Be窓に対して垂直
方向にX線が走査されるとき、その受光範囲内で、かつ
走査方向に沿うBe窓の左右側部の少なくとも一方にX
線の走査中は継続してその強度を計測するX線検出用の
ラインセンサを備え、これらラインセンサから送られる
X線強度結果をリアルタイムでフィードバックし、X線
ミラーの揺動速度を速度制御するようにしたから、それ
ぞれの発明では、X線ミラー揺動速度の制御を、容易、
かつ条件の変化に直ちに対応して、露光ムラを補正し、
露光精度の向上化を図れる効果を奏する。
【0077】第3の発明によれば、Be窓を、Be材か
らなる極く細かい目の網状体とし、ビームラインの終端
部にBe窓からのリークを排気する差動排気手段を配置
し、Be窓にその網目の大きさよりも大きなストローク
で揺動させる手段を連結したから、
【0078】第4の発明によれば、Be窓を、膜部材
と、膜部材を補強する支持体とから構成し、膜部材は、
入射するX線強度のムラに反比例して、その膜厚が薄く
なるよう膜厚分布を設定したから、
【0079】それぞれの発明では、Be窓のX線透過率
を向上させ、スループットの高いビームラインを得るこ
とができ、X線強度の増大と露光面積拡大のための薄い
膜厚においても広い面積を得られ、透過X線の面内強度
を均一にする効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の発明の一実施例を示す、X線リソグラフ
ィ装置の概略構成図。
【図2】同実施例の、Be窓と、このBe窓に対するX
線走査の変化説明図。
【図3】同実施例の、露光面に対する露光強度を説明す
る図。
【図4】第2の発明の一実施例を示す、X線リソグラフ
ィ装置の概略構成図。
【図5】同実施例の、Be窓と、このBe窓に対するX
線走査の変化説明図。
【図6】第3の発明の一実施例を示す、X線リソグラフ
ィ装置の概略構成図。
【図7】同実施例の、Be窓の揺動方向を説明する図。
【図8】同実施例の、Be窓の揺動運動と、それにとも
なうX線の透過率の変化を説明する図。
【図9】第4の発明の一実施例を示す、Be窓の構成
と、膜厚の変化に対するX線透過率の変化を説明する
図。
【図10】同実施例の、Be窓と、このBe窓に対する
X線走査の変化説明図。
【符号の説明】
1…SORリング、2…ビームライン、3…X線ミラ
ー、4…Be窓、5…露光装置、7a,7b…X線検出
素子、8…X線測定系、9…ミラー揺動制御系、10
a,10b…ラインセンサ、11…ラインセンサ測定
系、4A…Be窓、13…差動排気手段、12…加振装
置、4B…Be窓、14…膜部材、15…支持体。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】指向性が強く高強度のSOR(シンクロト
    ロン放射X線)光発生源としてのSORリングと、 このSORリングよりSOR光を取出す、超高真空のビ
    ームラインと、 このビームライン中に設置されSOR光を集光反射し、
    かつ短波長のX線成分を除去して、露光面積拡大のため
    揺動するX線ミラーと、 上記ビームライン終端部に配置されビームライン側の超
    高真空領域と大気圧領域ないし減圧雰囲気とを区分して
    X線を取出すBe(ベリリウム)窓と、 このBe窓を透過したX線を受け露光される露光装置と
    を具備したX線リソグラフィ装置において、 上記Be窓に対して垂直方向にX線が走査されるとき、
    その走査方向に沿うBe窓の上下部にそれぞれ設けら
    れ、それぞれがX線の強度を計測する一対のX線検出素
    子と、 これらX線検出素子から送られるX線強度結果を受け
    て、これらが等しくなるように、X線ミラーの揺動速度
    を制御する手段とを具備したことを特徴とするX線リソ
    グラフィ装置。
  2. 【請求項2】指向性が強く高強度のSOR(シンクロト
    ロン放射X線)光発生源としてのSORリングと、この
    SORリングよりSOR光を取出す、超高真空のビーム
    ラインと、このビームライン中に設置されSOR光を集
    光反射し、かつ短波長のX線成分を除去して、露光面積
    拡大のため揺動するX線ミラーと、上記ビームライン終
    端部に配置されビームライン側の超高真空領域と大気圧
    領域ないし減圧雰囲気とを区分してX線を取出すBe
    (ベリリウム)窓と、このBe窓を透過したX線を受け
    露光される露光装置とを具備したX線リソグラフィ装置
    において、 上記Be窓に対して垂直方向にX線が走査されるとき、
    その受光範囲内で、かつ走査方向に沿うBe窓の左右側
    部の少なくとも一方に設けられ、X線の走査中は継続し
    てその強度を計測するX線検出用のラインセンサと、 このラインセンサから送られるX線強度結果をリアルタ
    イムでフィードバックし、X線ミラーの揺動速度を制御
    する手段とを具備したことを特徴とするX線リソグラフ
    ィ装置。
  3. 【請求項3】指向性が強く高強度のSOR(シンクロト
    ロン放射X線)光発生源としてのSORリングと、この
    SORリングよりSOR光を取出す、超高真空のビーム
    ラインと、このビームライン中に設置されSOR光を集
    光反射し、かつ短波長のX線成分を除去して、露光面積
    拡大のため揺動するX線ミラーと、上記ビームライン終
    端部に配置されビームライン側の超高真空領域と大気圧
    領域ないし減圧雰囲気とを区分してX線を取出すBe
    (ベリリウム)窓と、このBe窓を透過したX線を受け
    露光される露光装置とを具備したX線リソグラフィ装置
    において、 上記Be窓は、極く細かい目の網状体であり、 上記ビームラインの終端部に配置され、Be窓からのリ
    ークを排気する差動排気手段と、 上記Be窓に連結され、Be窓をその網目の大きさより
    も大きなストロークで揺動させる手段とを具備したこと
    を特徴とするX線リソグラフィ装置。
  4. 【請求項4】指向性が強く高強度のSOR(シンクロト
    ロン放射X線)光発生源としてのSORリングと、この
    SORリングよりSOR光を取出す、超高真空のビーム
    ラインと、このビームライン中に設置されSOR光を集
    光反射し、かつ短波長のX線成分を除去して、露光面積
    拡大のため揺動するX線ミラーと、上記ビームライン終
    端部に配置されビームライン側の超高真空領域と大気圧
    領域ないし減圧雰囲気とを区分してX線を取出すBe
    (ベリリウム)窓と、このBe窓を透過したX線を受け
    露光される露光装置とを具備したX線リソグラフィ装置
    において、 上記Be窓は、膜部材と、この膜部材の一方の側面に一
    体に設けられ膜部材を補強する支持体とからなり、 上記膜部材は、入射するX線強度のムラに反比例して、
    その膜厚が薄くなるよう膜厚分布を設定したことを特徴
    とするX線リソグラフィ装置。
JP4221518A 1992-08-20 1992-08-20 X線リソグラフィ装置 Pending JPH0669102A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4221518A JPH0669102A (ja) 1992-08-20 1992-08-20 X線リソグラフィ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4221518A JPH0669102A (ja) 1992-08-20 1992-08-20 X線リソグラフィ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0669102A true JPH0669102A (ja) 1994-03-11

Family

ID=16767971

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4221518A Pending JPH0669102A (ja) 1992-08-20 1992-08-20 X線リソグラフィ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0669102A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5808312A (en) System and process for inspecting and repairing an original
JP3886871B2 (ja) 検出装置及びデバイス製造方法
US6834098B2 (en) X-ray illumination optical system and X-ray reduction exposure apparatus
US8164077B2 (en) Optical element for radiation in the EUV and/or soft X-ray region and an optical system with at least one optical element
JP3666951B2 (ja) マーク検出方法、これを用いた位置合わせ方法、露光方法及び装置、ならびにデバイス生産方法
Kaneko et al. High efficiency beamline for synchrotron radiation lithography
JP2002008961A (ja) 電子線露光用マスクの検査方法および電子線露光方法
JPH0669102A (ja) X線リソグラフィ装置
JP2000149853A (ja) 観察装置およびその調整方法
JP6352616B2 (ja) X線計測装置
JP2001256915A (ja) 荷電粒子ビーム装置
US6219400B1 (en) X-ray optical system and X-ray exposure apparatus
JPH10511810A (ja) X線リソグラフィー用ビームラインのための出口ウィンドウ
JP3080760B2 (ja) X線リソグラフィ装置
EP4451308A1 (en) Secondary radiation mitigation
EP4089483A1 (en) Apparatus for conditioning and directing a radiation beam
JPH06120122A (ja) X線リソグラフィ装置
JP2004335193A (ja) 電子線を用いた試料評価方法及び電子線装置
JP3733209B2 (ja) 露光装置
JP3028675B2 (ja) X線走査装置
JPH10289867A (ja) X線露光装置およびデバイス製造方法
JP2868028B2 (ja) X線照射装置
JPH01198021A (ja) X線露光装置
JP2006066181A (ja) 電子線装置及びそれを用いたデバイス製造方法
JPH11202100A (ja) シンクロトロン放射光を利用する光学装置、該光学装置を用いたx線顕微鏡及びx線露光装置