JPH0669094A - マウス、マウステーブルおよび露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体装置の製造効率を向上させる。 【構成】 マウスまたはマウステーブルにおいて、マウ
ス操作により発生する塵を吸引する手段を備える。また
は、与えられたステップサイズおよびウエハサイズに応
じてショット配列を定める演算手段、それによって定め
られたショット配列を表示する表示手段、および、その
定められたショット配列に従ってステップ・アンド・リ
ピート方式によりウエハの露光を行なう露光手段を備え
た露光装置において、演算手段はショット配列を求める
際に未露光エリアをも求め、あるいはさらにその未露光
エリアを埋めるべくショットを追加し、表示手段はその
求められた未露光エリアあるいは追加されたショットを
も表示するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、装置からの発塵を嫌忌
する産業分野、例えばクリーンルーム内で半導体素子を
製造する半導体製造装置の分野や無菌環境の必要な生化
学の分野におけるコンピュータへの入力機器として好ま
しいマウスおよびマウステーブルならびに、これが好ま
しく用いられる露光装置、特に半導体露光装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、座標入力用のマウスとしては、例
えば、転がり部を持つマウスが知られている。それは、
マウス内部に発泡樹脂等でコーティングされた転がりボ
ールをもつもので、テーブルとの摩擦によりボールは回
転する。その回転量は、マウス内部の２軸ロータリエン
コーダでｘ，ｙ移動量としてパルスカウントされ、コン
ピュータ内の信号処理によりＣＲＴ上のカーソルの動き
に変換される。このマウスの場合、テーブルには転がり
部が滑ることの無いよう摩擦係数の高い材質が用いられ
ている。例えばゴムシートやウレタン発泡材の専用テー
ブル等が使用されている。

【０００３】また、転がり部の無いマウスもある。例え
ばマウス下面に発光部と受光部をもち、微細格子状に反
射部が構成された特殊なマウステーブル上での移動量を
カウントする光学式マウスなどがある。このマウスの場
合、上記のマウスに比べ転がり部を持たないため機構的
に簡素化でき軽量小型化や、耐久性の向上が望める。ま
た、マウスケーブルの無いマウスもある。例えばマウス
に赤外線等の発光部をもち、移動量に相当するパルスを
赤外線の断続発光による光通信で近くの受光部に信号を
送るものである。

【０００４】一方、ステッパと呼ばれるステップ・アン
ド・リピート方式の露光装置は、前もって決まっている
ウエハ上の各配列位置に、ウエハを移動しながら、次々
に、レチクル上に描かれた回路パターンを焼き付けてい
くものである。そして、１回の露光で焼き付けられる各
部分をショットと呼んでいる。このショットをウエハ上
にどのように配列するかを決定するレイアウトエディタ
の機能は、ステッパのコンソール（マンマシンインター
フェース部分）に設けられている。レイアウトエディタ
はステップサイズ（ショット中心からその隣りのショッ
ト中心までの距離）、行と列のショット数、中心等を入
力することによってウエハ内のショット配列を自動的に
作り、コンソールのＣＲＴ上に表示するようになってい
る。また、ウエハの外周から内または外へどのくらいま
でショットが入っていればショット配列を作るかを指定
することもできるようになっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のマウスおよびマウステーブルは、操作性や汎用性は
考慮されたものではあるが、以下に述べるように発塵性
について特別に考慮したものではないため、特に発塵が
問題となっている半導体製造の分野での適用が妨げられ
ている。

【０００６】すなわち、現在半導体チップの製造過程に
於けるコンタミネーションの問題は超ＬＳＩの集積度が
世代を追って上がる中、その重要度をますます上げる傾
向にある。実際、最先端のＤＲＡＭ製造では回路線幅は
ハーフミクロン以下となり、０．１ミクロン粒径のゴミ
さえもがＤＲＡＭ不良率を上げ、製造工程の歩留り悪化
の原因になっている。そして今後も集積度の向上に伴っ
て更に厳しいコンタミネーション管理が必要となり装置
毎にその設計段階から発塵性について十分考慮する必要
がでてきた。

【０００７】このような状況下、半導体製造に使われる
各種の製造装置では、工場内の省人化、省力化および高
度な製造技術に対応し、高機能のコンピュータが種々使
われている。このコンピュータへの入力デバイスとして
キーボードをはじめ、ジョイスティック、タッチパネ
ル、そしてトラックボール等が利用されている。ところ
が、クリーン空間では入力デバイスとしては、もはや一
般的となったマウスを使用する装置の例はまだ少ない。
その主たる理由は、操作性では卓越しているにも関わら
ず、摺動部や転がり部に起因した発塵が敬遠されている
ことによる。

【０００８】一方、前記従来のステッパでは、ショット
配列の外に露光されない未露光エリアを生じることに起
因した問題がある。すなわち、未露光エリアと接してい
るショットは、接していないショットとは周りの状況が
異なり、これが問題となる場合がある。また、レジスト
を現像するときにむらができる等のため、未露光エリア
があることが問題になる場合がある。さらに、ショット
配列を作る場合において未露光エリアができても小さな
ときは、そこが未露光エリアであることがコンソールの
ＣＲＴ上に描かれたレイアウト図を見ても分からないと
いう欠点がある。そのため、未露光エリアを知るために
は、焼いてみるか、手計算してみるしかなく、手間がか
かる。

【０００９】本発明の目的は、前記従来技術の問題点に
鑑み、半導体装置の製造効率をより向上させるようなマ
ウスおよびマウステーブルならびに露光装置を提供する
ことにある。より具体的には、第１に、マウスおよびマ
ウステーブルからの発塵を防止してこれら操作性の良好
な入力手段を発塵を嫌忌する露光装置等に適用し得るよ
うにすることであり、第２に、露光装置において、未露
光エリアを簡単に認識して除去できるようにすることで
ある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るため本発明のマウスは、マウス操作により発生する塵
をマウス内を介して吸引する手段を備える。また、本発
明のマウステーブルはマウス操作により発生する塵をを
テーブル面を介して吸引する手段を備える。吸引手段と
しては、マウス内を負圧にして塵を吸引するもの、マウ
ステーブル表面に多数設けた穴を介し、負圧により塵を
吸引するもの、マウステーブル表面に多数設けた穴を介
し、静電気により塵を吸引するもの等がある。また、マ
ウステーブル上の空間を覆うフードを有するのが好まし
い。

【００１１】また上記第２の目的を達成するため本発明
では、与えられたステップサイズおよびウエハサイズに
応じてショット配列を定める演算手段、それによって定
められたショット配列を表示する表示手段、および、そ
の定められたショット配列に従ってステップ・アンド・
リピート方式によりウエハの露光を行なう露光手段を備
えた露光装置において、演算手段はショット配列を求め
る際に未露光エリアをも求め、あるいはさらにその未露
光エリアを埋めるべくショットを追加し、表示手段はそ
の求められた未露光エリアあるいは追加されたショット
をも表示するものであることを特徴とする。未露光エリ
アあるいは追加されたショットの表示は、拡大、彩色、
マーク、ブリンク、メッセージ等によって、他の部分と
異なることを強調してなされるのが好ましい。

【００１２】

【作用】本発明のマウスおよびマウステーブルは、マウ
ス操作による発塵をマウス内またはテーブル面から吸引
する手段を備え、これによって吸引された塵は、装置内
部のフィルタで浄化あるいは誘導排気され、それにより
防塵空間への発塵が防止される。したがって、マウス操
作による発塵の心配なく防塵空間においてもマウスが使
用され、半導体装置の製造においてもマウスが利用でき
るようになり、生産性が向上する。

【００１３】また、本発明の露光装置においては、演算
手段はショット配列を求める際に未露光エリアをも求
め、あるいはさらにその未露光エリアを埋めるべくショ
ットを追加し、表示手段はその求められた未露光エリア
あるいは追加されたショットをも表示するようにし、あ
るいはさらに未露光エリアあるいは追加されたショット
の表示は、拡大、彩色、マーク、ブリンク、メッセージ
等によって、他の部分と異なることを強調して行なうよ
うにしたため、小さな未露光エリアでも、その発生が防
止される。すなわち、未露光エリアが一目で分かるよう
にオペレータに表示されると、それに対し、オペレータ
の指示により、ショット配列を移動したり、ショットを
追加したりしてショット配列を変更し、未露光エリアの
発生が確実に防止される。また、未露光エリアにショッ
トが自動的に追加される場合も、その表示によりオペレ
ータによりその追加が確認され、未露光エリアの発生が
確実に防止される。これにより、露光装置における生産
性が向上する。

【００１４】

【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。実施例１ 図１は本発明の第１の実施例に係るマウスおよびマウス
テーブルを備えた装置のマウステーブル部の断面図であ
る。図中、１はマウス、２はマウス操作の時テーブルと
して機能するところのマウステーブル、３はマウステー
ブル裏面に結合され負圧力を蓄積する負圧容器、４は負
圧容器３に結合され負圧容器３内に負圧を発生させるた
めの負圧発生器である。負圧発生器４としては安価な軸
流ファンやシロッコファンなどを用いるほかに、工場設
備のバキュウムを直結利用することも可能である。マウ
ステーブル２の材質は、アルミ板の他、他の金属やガラ
ス、樹脂等が使用可能である。テーブル２表面には、マ
ウス１内部の転がりボール径に比べ十分小さい径の細孔
（不図示）が全域にわたって多数開いている。この穴形
状については丸穴に限らず吸引空気の通り得るものであ
れば角穴や角溝、またはメッシュ形状でも良い。吸引さ
れた塵の処理が問題になる場合には負圧発生器４の前段
または後段にフィルタ５を挿入しても良い。なお、図中
矢印は空気の流れの概略を表している。

【００１５】上記構成によると、まず負圧発生器４の作
用により負圧容器３の内部が環境圧よりも低圧空間とな
る。そのため細孔のあるマウステーブル２上面から空気
が吸引される。マウス１をマウステーブル２上で操作す
る際に、マウス１内のボール部や摺動部またはマウス操
作をする人の手やマウスケーブルの周辺から発生する塵
は、吸引作用によりマウステーブル下部に吸引され防塵
環境への流出を防ぐことができる。

【００１６】実施例２ 本実施例では実施例１と同じ構成に加え、図２の通りマ
ウステーブル２およびマウス１可動域を更にフード６で
囲っている。マウス１を使用する場合は、フード６の開
口部から手を挿入して操作する。こうすることで、操作
部全体が閉空間となるため、クリーンルームの気流の影
響を受ける事なく発塵を吸引することができ、またマウ
ス周辺からの発塵のみならず人間の動作による発塵をも
効果的に吸引することができる。

【００１７】実施例３ 本実施例は実施例１における負圧をベルヌーイの定理を
利用して高速流による圧力降下により得るよう工夫した
ものである。本実施例を図３で説明する。実施例１と同
様に、マウス１と、多穴穿孔された薄板のマウステーブ
ル２、そしてテーブル２と平行に隙間を持たせた平板７
により構成されている。図中横矢印で示す空気の流れの
下流には流れを発生させる負圧発生器（不図示）があ
る。この負圧発生器としては、ファンやポンプによるも
ののほかに、工場設備のバキュウムまたは装置の空冷の
ためのファンなどと兼用したものでも良い。

【００１８】この構成によれば、負圧発生器によりマウ
ステーブル２と平板７との間に空気の流れが作られる。
それにより流速の２乗に比例した負圧が発生する。この
負圧によりマウステーブル上で発生する塵を吸引するこ
とができる。本実施例の場合、実施例１の負圧容器のよ
うな密閉空間が不要で、上流側が解放でき、冷却空気と
の併用を容易にできる利点がある。

【００１９】実施例４ 図４は本発明の第４の実施例に係るマウスの断面図であ
る。このマウスは負圧吸引機能を有することを特徴とす
る。図中、１−２はマウスに一端が取り付けられ他端は
装置内の負圧発生器（不図示）に接続されているダクト
ホースである。マウス内部の空間は、ダクトホース１−
２と気道連結されている。ダクトホース１−２とマウス
ケーブルは兼用したり、ホース内部にケーブルを入れて
も良い。またダクト接続による吸引のほかにも、直接マ
ウス内部にファンなどの負圧発生器を内蔵しても良い。

【００２０】この構成によると、負圧発生器により、マ
ウス内部の空間は負圧になる。そのためマウスボール１
−３周辺の開口部や任意に開けた開口部１−４から空気
を吸引することができる。これにより転がりや摺動によ
り発生する塵を吸引することができる。この例は、ハウ
ジング固定型のトラックボールにも応用が可能で、トラ
ックボールを内蔵するハウジング部に負圧吸引用の発生
器やダクトを接続することで実現できる。

【００２１】実施例５ 図５は本発明の第５の実施例を示す概念図である。本実
施例は静電気力を利用して塵を吸引することを特徴とす
る。図５に示すように、導体材質のマウステーブル２を
直流電源９を用いて平板電極として帯電させる。テーブ
ル２表面には不導体シート８や絶縁塗装等がなされ外部
との電気的導通はないようにしてある。マウスから発生
する発塵物質１０、特にプラスティック等の誘電物質は
帯電する電極の影響により、その塵内部で誘電分極を起
こす。このため塵の表面には電極と反対の電荷が現れ
る。このため塵にはマウステーブル２の方向へ静電気に
よる吸引力が働きマウステーブル２表面に吸着する。こ
れにより防塵空間への塵の流出を防ぐことができる。

【００２２】さらに、前記実施例の負圧吸引を併用して
吸引効果を高めても良い。また、図６に示すように、テ
ーブル２の下面とある間隙をおいて電極１１を配置し、
塵がテーブル２の細穴を通り抜けて電極１１に吸引され
るようにすることも有効である。

【００２３】実施例６ 図７は本発明の第６の実施例に係るステッパシステムの
概略構成図である。同図に示すように、このシステム
は、ステッパ本体７１、これに接続されＣＰＵ７３およ
びメモリ７４を有するコンソール本体７２、これに接続
されたＣＲＴ７８、キーボード７７、マウス７６、外部
記憶装置７５を備える。コンソール本体７２〜ＣＲＴ７
８によりレイアウトエディタが構成される。ＣＰＵ７３
は与えられたステップサイズおよびウエハサイズに基づ
いてショット配列位置を算出し、これに基づきショット
配列がＣＲＴ７８に表示されるようになっている。

【００２４】図８はコンソール上のレイアウトエディタ
のキーボード７７およびＣＲＴ７８部分を示す該略図で
ある。ＣＲＴ７８にはショット配列が表示されている。

【００２５】レイアウトエディタにおけるショット配列
位置の計算は、外部記憶装置７５からメモリ７４に読み
込まれたプログラムにより行われる。このプログラム
は、ステップサイズ、ウエハサイズ等のレイアウト作成
に必要な計算パラメータがキーボード７７、マウス７６
等の入力装置を介して入力されるようにプログラムされ
ている。計算結果であるショット配列は、上述のよう
に、ＣＲＴ７８上にグラフィックディスプレイされる。
なお、ＣＲＴ７８としては、ＣＲＴ表示装置に限らず、
液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置等の表示
装置を使用してもよい。

【００２６】レイアウトエディタは、入力されたステッ
プサイズＸ，Ｙ、レイアウトのウエハ中心からのオフセ
ット量、ウエハサイズ、およびＸ方向とＹ方向のショッ
ト数からショット数を最大にするようにショット配列を
計算する。

【００２７】図９は、ステップサイズをＳｘ，Ｓｙ、ウ
エハサイズをＷｒ、ウエハ中心Ｃｗからショットレイア
ウト中心Ｃｓまでのオフセット量をＯｘ，Ｏｙ、Ｘ方向
のショット数Ｘｎを１０、Ｙ方向のショット数Ｙｎを１
０とした場合のレイアウトエディタによる計算結果を示
す。このように計算されたショット配列は、上述のよう
にＣＲＴ７８上にグラフィックディスプレイされ、ステ
ッパのオペレータはウエハの露光シーケンスを実行する
前に、露光されるショット配列を確認することができ
る。

【００２８】ここで、ウエハ外周の微細なエリア７９，
８０等は、オペレータが見逃してしまい、露光シーケン
スを実行した場合、未露光エリアとして残ってしまうこ
とになる。この場合、未露光エリア周辺のショットは、
露光プロセスの条件が変化してしまうため、不良ショッ
トとなり、歩留りを悪化させる大きな原因となってしま
う。

【００２９】そこで、未露光エリアとなってしまうウエ
ハ外周の微細なエリアをあらかじめ計算により探し出
し、探し出したエリアをオペレータに知らせて、未露光
エリアが露光シーケンスにより発生しないようにしてい
る。

【００３０】図１１はこの未露光エリアを算出するアル
ゴリズムにおける処理の流れを示すフローチャートであ
る。これに従えば、まず、ステップ１０１において、ス
テップサイズＳｘ，Ｓｙ、レイアウト中心Ｏｘ，Ｏｙ、
ウエハサイズＷｒ、Ｘ方向ショット数Ｘｎ、Ｙ方向ショ
ット数Ｙｎ、ウエハ中心からオリフラまでの長さＷＯｒ
が入力されると、ステップ１０２において、Ｘ方向ショ
ット数ＸｎおよびＹ方向ショット数Ｙｎの入力が省略さ
れずに入力されたか否かを判定する。そして、省略され
ずに入力されたと判定した場合はステップ１０４へ進
み、省略されていると判定した場合はステップ１０３に
おいて、ステップサイズＳｘ，Ｓｙ、レイアウト中心Ｏ
ｘ，Ｏｙ、およびウエハサイズＷｒからＸ方向ショット
数ＸｎおよびＹ方向ショット数Ｙｎを計算してからステ
ップ１０４へ移行する。

【００３１】ステップ１０４〜１０６では、Ｘ方向ショ
ット数Ｘｎから、中心ショットのＸショット座標ｎ０
と、座標オフセットΔＸを計算する。すなわち、ステッ
プ１０４においてＸ方向ショット数Ｘｎが偶数か否かを
判定し、偶数のときはステップ１０５においてｎ０＝Ｘ
ｎ÷２，ΔＸ＝Ｓｘ÷２とし、奇数のときはステップ１
０６においてｎ０＝（Ｘｎ−１）÷２＋１，ΔＸ＝０と
してステップ１０７へ進む。

【００３２】ステップ１０７〜１０９では、Ｙ方向ショ
ット数Ｙｎから、中心ショットのＹショット座標ｍ０
と、座標オフセットΔＹを計算する。すなわち、ステッ
プ１０７において方向ショット数Ｘｎが偶数か否かを判
定し、偶数のときはステップ１０８においてｍ０＝Ｙｎ
÷２，ΔＹ＝Ｓｙ÷２とし、奇数のときはステップ１０
９においてｍ０＝（Ｙｎ−１）÷２＋１，ΔＹ＝０とし
て、ステップ１１０へ進む。

【００３３】ステップ１１０〜１１６では、各ショット
について未露光エリアのあるショットであるか否かを判
断する。すなわち、まずステップ１１０においてｎ＝
１，ｍ＝１とし、初期化を行う。次に、ステップ１１１
において、数１式により、ショット配列中心から、現在
のｎ，ｍで示されるショットの中心までの距離Ｒを求め
る。

【００３４】

【数１】 次に、ステップ１１２において、距離Ｒ、ステップサイ
ズＳｘ，Ｓｙ、レイアウト中心Ｏｘ，Ｏｙより、そのシ
ョットの４端の座標と、その４端からウエハ中心までの
距離Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４を計算し、ステップ１１３
において、Ｒ１〜Ｒ４のうち最大のものをＲｆａｒ、最
小ものをＲｎｅａｒとする。そして次のステップ１１４
において、Ｒｆａｒ＞ＷｒかつＲｎｅａｒ＜Ｗｒで、そ
のショットが露光しないショットであるならば、そのシ
ョットは、未露光エリアがあるショットであると判断す
る。また、オリフラ方向で、Ｒｆａｒ＞ＷＯｒかつＲｎ
ｅａｒ＜ＷＯｒであれば、そのショットはオリフラにか
かったショットであり、そして露光しないショットであ
れば、未露光エリアのあるショットであると判断する。
そして次に、ステップ１１５において、Ｘｎとｎが等し
くかつＹｎとｍが等しいか否かを判定し、等しくなけれ
ばステップ１１６でｎまたはｍをインクリメントして、
ステップ１１１へ戻り、等しければ処理を終了する。

【００３５】このアルゴリズムで求められた未露光エリ
アは、図１０に示すように、ＣＲＴ７８上で、未露光部
分８１，８２を背景色とは異なる色で塗りつぶして表示
することにより、未露光部分があることを強調し、露光
シーケンスを実行する前にオペレータに知らせることが
できる。また、強調の手段としては他に、未露光部分の
拡大表示やメッセージを出力する方法、ブリンク表示す
る方法などがある。

【００３６】このような強調表示により未露光エリアの
存在が認められた場合、オペレータは再度、レイアウト
エディタにより未露光エリアがなくなるようにショット
配列を作成する必要がある。そこで、前記ステップ１１
４において未露光エリアが存在すると判断された場合、
その未露光エリアに自動的にショットを追加して、ショ
ット配列が作成されるようにすると便利である。その場
合、図１２に示すように自動的に追加したショット８
３，８４は、オペレータにわかるように、グラフィック
による塗りつぶし等の強調表示方法により表示する。こ
れにより、未露光となってしまうエリアのあるショット
配列のまま露光シーケンスを実行してしまうのを防止す
ることができる。

【００３７】

【発明の効果】本発明のマウスおよびマウステーブルに
よれば、吸引手段を設けたため、防塵空間においても摺
動や転がりによる原理的発塵性のあるマウスを発塵の心
配無く使用することができる。

【００３８】また本発明の露光装置によれば、演算手段
はショット配列を求める際に未露光エリアをも求め、あ
るいはさらにその未露光エリアを埋めるべくショットを
追加し、表示手段はその求められた未露光エリアあるい
は追加されたショットをも表示するようにしたため、小
さな未露光エリアでも、その発生を防止することができ
る。すなわち、未露光エリアが強調して表示されるとそ
の存在がオペレータに一目で分かり、それに対し、オペ
レータはその場でショット配列を変更して未露光エリア
を簡単になくすことができる。また、未露光エリアにシ
ョットが自動的に追加される場合も、その表示によりオ
ペレータはその追加を確認でき、未露光エリアの発生を
確実に防止することができる。

【００３９】さらに、ウエハの外形を測定して得たウエ
ハサイズに基づいてショット配列を作成するため、実際
のウエハに即したショット配列を作成することができ、
より確実に未露光エリアをなくすことができる。

【００４０】したがって、本発明によれば、半導体装置
の製造の生産性を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施例に係るマウスおよびマ
ウステーブルを備えた装置のマウステーブル部の断面図
である。

【図２】 本発明の第２の実施例に係るマウスおよびマ
ウステーブルを備えた装置のマウステーブル部の断面図
である。

【図３】 本発明の第３の実施例に係るマウステーブル
部分の断面図である。

【図４】 本発明の第４の実施例に係るマウスの断面図
である。

【図５】 本発明の第５の実施例を示す概念図である。

【図６】 本発明の第５の実施例に係るマウステーブル
部分の断面図である。

【図７】 本発明の第６の実施例に係るステッパシステ
ムの概略的な構成図である。

【図８】 図７の装置のコンソール上のレイアウトエデ
ィタのキーボードおよびＣＲＴ部分を示す該略図であ
る。

【図９】 図７の装置のレイアウトエディタによる計算
結果を示す模式図である。

【図１０】 図７の装置におけるアルゴリズムで求めら
れた未露光エリアを示す模式図である。

【図１１】 図７の装置における未露光エリアを算出す
るアルゴリズムにおける処理の流れを示すフローチャー
トである。

【図１２】 図７の装置において自動的に追加したショ
ットを強調して表示する方法を示す模式図である。

【符号の説明】

１：マウス、２：マウステーブル、３：負圧容器、４：
負圧発生器、５：フィルタ、６：フード、７：平板、
８：不導体シート、９：直流電源、１０：発塵物質、１
１：電極、７１：ステッパ本体、７２：コンソール本
体、７３：ＣＰＵ、７４：メモリ、７５：外部記憶装
置、７６：マウス、７７：キーボード、７８：ＣＲＴ、
７９，８０，８１，８２：エリア、８３，８４：追加し
たショット。

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 マウス操作により発生する塵をマウス内
   を介して吸引する手段を備えることを特徴とするマウ
   ス。
2. 【請求項２】 マウス操作により発生する塵をテーブル
   面を介して吸引する手段を備えることを特徴とするマウ
   ステーブル。
3. 【請求項３】 与えられたステップサイズおよびウエハ
   サイズに応じてショット配列を定める演算手段、それに
   よって定められたショット配列を表示する表示手段、お
   よび、その定められたショット配列に従ってステップ・
   アンド・リピート方式によりウエハの露光を行なう露光
   手段を備えた露光装置において、演算手段はショット配
   列を求める際に未露光エリアをも求めるものであり、表
   示手段はその求められた未露光エリアをも表示するもの
   であることを特徴とする露光装置。
4. 【請求項４】 演算手段は、求めた未露光エリアを埋め
   るべくショットを追加したショット配列を定めるもので
   ある、請求項３記載の露光装置。
5. 【請求項５】 与えられたステップサイズおよびウエハ
   サイズに応じてショット配列を定める演算手段、それに
   よって定められたショット配列を表示する表示手段、お
   よび、その定められたショット配列に従ってステップ・
   アンド・リピート方式によりウエハの露光を行なう露光
   手段を備えた露光装置において、演算手段はショット配
   列を求める際に未露光エリアを求め、その未露光エリア
   を埋めるべくショットを追加するものであることを特徴
   とする露光装置。
6. 【請求項６】 表示手段は、追加されたショットを強調
   して表示するものである請求項５記載の露光装置。
7. 【請求項７】 追加されたショットの表示は、拡大、彩
   色、マーク、ブリンク、メッセージ等によって、他の部
   分と異なることを強調してなされる、請求項６記載の露
   光装置。
8. 【請求項８】 未露光エリアの表示は、拡大、彩色、マ
   ーク、ブリンク、メッセージ等によって、他の部分と異
   なることを強調してなされる、請求項３記載の露光装
   置。
9. 【請求項９】 吸引手段は、マウス内を負圧にして塵を
   吸引するものである請求項１記載のマウス。
10. 【請求項１０】 吸引手段は、マウステーブル表面に設
    けた多数の穴を介し負圧により塵を吸引するものである
    請求項２記載のマウステーブル。
11. 【請求項１１】 吸引手段は、マウステーブル表面に設
    けた多数の穴を介し静電気により塵を吸引するものであ
    る請求項２記載のマウステーブル。
12. 【請求項１２】 マウステーブル上の空間を覆うフード
    を有する請求項２記載のマウステーブル。