JPH0667133A - 液晶セル基板面取装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 端部が切断された液晶セル基板の面取におい
て、端部の研磨と同時に、その洗浄を完了できる装置を
供給することを目的とする。 【構成】 切断した液晶セル基板の、切断端部を砥石に
よって研磨する工程において、研磨端部又はその付近に
洗浄水を放水する放水装置を設置し、液晶セル基板の上
側に位置する保護盤の全面又は外周囲部分、及び気体噴
出口を設け液晶セル基板を載置する基板設置盤の外周囲
部分にそれぞれ気体噴出口を設け、これ等の気体噴出口
に気体を供給する機構を備えたことに基づく液晶セル基
板面取装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、前工程において液晶セ
ル基板を切断したことによる液晶セル基板の端部の洗浄
において、使用する液晶セル基板面取装置に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】液晶セル基板を使用において面積とする
為、適切な大きさに切断することが行われているが、ガ
ラス等によって構成されている液晶セル基板の端部は、
当該切断直後においては凹凸上が形成されており、取扱
上極めて危険である為、切断端部を砥石によって摩耗す
ることが必要である。

【０００３】然るに、従来砥石によって液晶セル基板の
端部を摩耗することによって発生する砥石の粉塵、液晶
セル基板の硝子の粉塵及び洗浄水が液晶セル基板を汚す
為、後の工程で、改めて液晶セル基板の平面部分及び端
部の洗浄を余儀なくされている。

【０００４】しかしながら、このような洗浄工程は、意
外と煩雑である。

【０００５】

【発明が解決を必要とする課題】本発明は、従来技術に
おける前記の如き後の洗浄工程を不要とする、装置を提
供することを目的とするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前項の課題を解決する
為、切断した液晶セル基板の、切断端部を砥石によって
研磨する工程において、研磨端部又はその付近に洗浄水
を放水する放水装置を設置し、液晶セル基板の上側に位
置する保護盤の全面又は外周囲部分及び液晶セル基板を
載置する基板設置盤の外周囲部分にそれぞれ気体噴出口
を設け、これ等の気体噴出口に気体を供給する機構を備
えたことに基づく液晶セル基板面取装置からなる。

【０００７】

【発明の作用】本願発明の原理について説明するに、図
１に示すように、洗浄水放水装置６から、液晶セル基板
３の端部に洗浄水６１を噴射した場合、従来技術では、
これが液晶セル基板３の上側に残存することから、後の
洗浄工程が必要となった訳であるが、本願発明では、図
２に示すように上側の保護盤２の全面又は外周囲部分か
ら気体３０が噴射され（尚図２では、全面から噴射され
ている場合を示している。）、これが液晶セル基板３の
端部側に放射していく為、洗浄水６１は液晶セル基板３
の上側に残存せず、放射していく気体３０と共に外側に
飛散ることになる（尚、図２における真空配管９及び真
空装置によって気体を吸入する点については後述す
る。）。

【０００８】尚、保護盤２の全面から気体を噴射するか
又は外周囲部分から気体を噴射するかは、液晶セル基板
３の大きさにもよるが、外周囲部分から補填する場合に
は、液晶セル基板３の内側に洗浄水及び粉塵等を潜入さ
せない為に、全面から噴射する場合に比し、単位面積当
りの噴射する気体量が多量となるよう設定することが望
ましい。

【０００９】但し、単に保護盤２から気体が噴射された
だけでは、液晶セル基板３の下側面に散水された洗浄水
６１が、砥石４の粉塵、液晶セル基板３のガラスの粉塵
等を含んで、液晶セル基板３の下側面に付着する危険性
がある。

【００１０】この為、本願発明においては、図２に示す
ように、液晶セル基板２を下側から支えている基板設置
盤１の外側周辺から気体３０が噴射され、該気体３０が
液晶セル基板３の外側方向に放出される為、上側の場合
と同様洗浄水は、外側に飛散ることになる。

【００１１】従って、研磨砥石４と共に洗浄水放出装置
６を移動した場合には、洗浄した水は何れも外側に飛散
って、液晶セル基板３上に残らない為、研磨と同時に洗
浄が完了することになる。

【００１２】基板設置盤１の内側面に空気噴出孔を設け
ないのは、液晶セル基板３の下側においては、上側ほど
洗浄水６１が液晶セル基板３の内側に浸透しない為、こ
れを不要とするからである。

【００１３】

【実施例】図３（イ），（ロ）は、本願発明に用いる保
護盤２及び基板設置盤１として、空気噴出口を一様に分
布させた実施例の構成を示す（尚、図３（イ）では、保
護盤２の外周囲部分に孔を設けた場合を示す。）。

【００１４】これに対し、図４（イ），（ロ）は、多孔
質性のセラミック、金属酸化物及びプラスチックを、保
護盤２及び基板設置盤１として使用した実施例を示す
（尚、図４（イ）は、保護盤２の全面に孔を設けた場合
を示す。）。

【００１５】即ち、図４（ロ）に示す基板設置盤１で
は、外側周壁部位のみを、多孔質の素材を用い、内側平
面部は通常の板状とする訳である。

【００１６】図３，図４に示す実施例は、何れも基板設
置盤１の内側面は、何ら気体３０を流出させない構成で
あるが、図５（イ）に示す実施例は、基板設置盤１の内
側面において、気体を吸引する孔を持った実施例を示
し、図５（ロ）は基板設置盤１全体を、多孔質性のセラ
ミック、金属酸化物、プラスチックを使用して、内側領
域では気体を吸引させることができる構成を示す。

【００１７】即ち、図５（イ），（ロ）に示す基板設置
盤１の場合には、図２に示すように、基板設置盤１の外
側周囲は、保護盤２と同様気体を噴出するも、内側面に
おいては気体３０を吸引して、液晶セル基板３を十分固
着させることができる。

【００１８】無論、気体３０の噴出量は、面取を行う液
晶セル基板３の大きさ、研磨砥石４の回転の度合い、洗
浄水の大きさによって最適量が存在することから、噴出
する気体量は、供給ポンプ等を通じて、その量を調整す
ることが望ましい。

【００１９】

【発明の効果】以上の構成による本願発明においては、
液晶セル基板の端部の研磨を行うと同時に、その洗浄を
完了とすることが可能となり、従来技術のように後に改
めて砥石、液晶セル基板等の各粉塵を洗浄することは不
要となり、液晶セル基板の面取作業を効率的に行うこと
ができる。

【００２０】このような長所を有する本願の液晶セル基
板面取装置の価値は絶大である。

【００２１】

【図面の簡単な説明】

【図１】：側面図 本願発明の技術的前提である液晶セル基板面取装置の全
体の構成を示す。

【図２】：側面図 本願発明の作用原理を示す。

【図３（イ），図３（ロ）】：平面図 本願発明の保護盤及び基板設置盤の実施例を示す。

【図４（イ），図４（ロ）】：平面図 本願発明の保護盤及び基板設置盤の実施例を示す。

【図５（イ）、図５（ロ）】：平面図 本願発明に使用する基板設置盤の実施例を示す。

【符合の説明】

１：基板設置盤 ２：保護盤 ３：液晶セル基板 ４：研磨砥石 ５：スピンドルモーター ６：洗浄水放水装置 ６１：洗浄水 ７：空気供給管 ８：減圧弁 ９：真空配管 １０：真空ポンプ １１，２１：気体噴射孔 １２：気体吸入口 ３０：気体

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 切断した液晶セル基板の、切断端部を砥
   石によって研磨する工程において、研磨端部又はその付
   近に洗浄水を放水する放水装置を設置し、液晶セル基板
   の上側に位置する保護盤の全面又は外周囲部分及び液晶
   セル基板を載置する基板設置盤の外周囲部分にそれぞれ
   気体噴出口を設け、これ等の気体噴出口に気体を供給す
   る機構を備えたことに基づく液晶セル基板面取装置
2. 【請求項２】 基板設置盤の内側平面部に気体吸引用の
   孔を設け、該孔が、減圧機構と連通していることを特長
   とする請求項１記載の液晶セル基板面取装置
3. 【請求項３】 噴射口の孔を、保護盤及び基板設置盤
   に、一様に設けたことを特長とする請求項１記載の液晶
   セル基板面取装置
4. 【請求項４】 多孔質性のセラミック、金属酸化物又は
   プラスチックを保護盤及び基板設置盤に使用したことを
   特長とする請求項１記載の液晶セル基板面取装置
5. 【請求項５】 気体吸引用の孔を、保護盤及び基板設置
   盤に、一様に設けたことを特長とする請求項２記載の液
   晶セル基板面取装置
6. 【請求項６】 多孔質性のセラミック、金属酸化物、プ
   ラスチックを保護盤及び基板設置盤に使用したことを特
   長とする請求項２記載の液晶セル基板面取装置
7. 【請求項７】 噴出する気体の量を、液晶セル基板の面
   積、洗浄水量に応じて調整することを特長とする請求項
   １記載の液晶セル基板面取装置