JPH0666358B2 - 高密度ソルダ・バンプの製造方法と高密度ソルダ・バンプ用基板ソケット - Google Patents
高密度ソルダ・バンプの製造方法と高密度ソルダ・バンプ用基板ソケットInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、一般的にソルダ・バンプに関し、さらに詳し
くは、高密度ソルダ・バンプの製造方法およびソルダ
(半田)の隆起部を有する部材を受け入れるために基板
上にソケットを設ける方法に関する。
くは、高密度ソルダ・バンプの製造方法およびソルダ
(半田)の隆起部を有する部材を受け入れるために基板
上にソケットを設ける方法に関する。
背景技術 リフロー・プロセスによって第2基板に取り付けるため
に第1基板上でソルダ・バンプを使用することは技術的
に知られている。ソルダ・バンプは、パッド・グリッド
・アレイ基板とともに用いると特に有用である。ソルダ
・パッドの接近性すなわち密度は、周知の技術を使用し
た場合、高密度のソルダ・バンプを設ける際の問題やリ
フロー時にソルダ・バンプが共に流れ出したりパッドや
バンプをショートさせるのを防止する際の問題のため、
制限されている。ソルダ・バンプを設けるための1つの
アプローチには、ステンシル・プロセスを使用するもの
であり、この場合ステンシルは基板上に載置され、ソル
ダ・ペーストは、スクィージー(Squeegee)を使用する
場合のようにステンシルを介して基板に塗布される。こ
のアプローチでは、ステンシルが移動する際にソルダ・
ペーストがつぶれて広がるため、密度が限定される。
に第1基板上でソルダ・バンプを使用することは技術的
に知られている。ソルダ・バンプは、パッド・グリッド
・アレイ基板とともに用いると特に有用である。ソルダ
・パッドの接近性すなわち密度は、周知の技術を使用し
た場合、高密度のソルダ・バンプを設ける際の問題やリ
フロー時にソルダ・バンプが共に流れ出したりパッドや
バンプをショートさせるのを防止する際の問題のため、
制限されている。ソルダ・バンプを設けるための1つの
アプローチには、ステンシル・プロセスを使用するもの
であり、この場合ステンシルは基板上に載置され、ソル
ダ・ペーストは、スクィージー(Squeegee)を使用する
場合のようにステンシルを介して基板に塗布される。こ
のアプローチでは、ステンシルが移動する際にソルダ・
ペーストがつぶれて広がるため、密度が限定される。
別のアプローチでは、基板上に正確に載置することので
きるソルダ・ボールを使用する。ソルダ・ボールの載置
には時間がかかり、信頼性の問題も発生する可能性があ
る。仮に1つのボールを間違って載置したとすると、基
板に対して正しい半田付けを行うことができなくなる。
きるソルダ・ボールを使用する。ソルダ・ボールの載置
には時間がかかり、信頼性の問題も発生する可能性があ
る。仮に1つのボールを間違って載置したとすると、基
板に対して正しい半田付けを行うことができなくなる。
発明の開示 高密度のソルダ・バンプを設ける本方法によって、半田
(ソルダ)を信頼性のある方法で塗布できると共にソル
ダの間隔を接近させることが可能になる。ソルダの隆起
した部材を基板に取り付ける本方法によって、ソルダの
隆起した部材の自己整合用のソケットが提供される。
(ソルダ)を信頼性のある方法で塗布できると共にソル
ダの間隔を接近させることが可能になる。ソルダの隆起
した部材を基板に取り付ける本方法によって、ソルダの
隆起した部材の自己整合用のソケットが提供される。
ソルダ・バンプを形成する本方法は、基板にソルダ・レ
ジストの厚い層を設ける段階を含む。このソルダ・レジ
ストは選択的に除去されて、基板上のソルダ・パッドに
ウェルを設ける。次にソルダを付けてパッド上にソルダ
・バンプを形成する。ソルダ・バンプの形成後、残った
レジストを除去することができる。
ジストの厚い層を設ける段階を含む。このソルダ・レジ
ストは選択的に除去されて、基板上のソルダ・パッドに
ウェルを設ける。次にソルダを付けてパッド上にソルダ
・バンプを形成する。ソルダ・バンプの形成後、残った
レジストを除去することができる。
本発明の1つの特徴によれば、ソルダ・ペーストは基板
のウェルの中に付けられ、このソルダ・ペーストはリフ
ローされてソルダ・バンプを形成する。本発明の他の特
徴によれば、ソルダ・ペーストは、スクィージーで基板
に直接付けられる。本発明のさらに他の特徴によれば、
ウェルはソルダ・パッドより大きくなるよう形成され
る。本発明の1つの特徴によれば、ソルダ・レジスト層
は少なくとも10ミルの厚さである。
のウェルの中に付けられ、このソルダ・ペーストはリフ
ローされてソルダ・バンプを形成する。本発明の他の特
徴によれば、ソルダ・ペーストは、スクィージーで基板
に直接付けられる。本発明のさらに他の特徴によれば、
ウェルはソルダ・パッドより大きくなるよう形成され
る。本発明の1つの特徴によれば、ソルダ・レジスト層
は少なくとも10ミルの厚さである。
基板にソルダの隆起した部材を取り付ける方法は、この
部材のソルダ・バンプに対応する金属化パッドを有する
基板を設ける段階を含む。ソルダ・レジストの厚い層が
基板に設けられる。このソルダ・レジストは選択的に除
去されて基板上の金属化パッドにウェルを設ける。ソル
ダ・ペーストがウェルに堆積される。ソルダの隆起した
部材が取り付けられ、その結果、ソルダ・バンプはウェ
ル内に位置する。ソルダ・ペーストはリフローされて濡
らされ、ソルダ・バンプと金属化パッドに接着される。
本発明の1つの特徴によれば、ソルダ・ペーストは、ソ
ルダ・バンプよりも低い溶融温度を持つように選択され
る。加熱段階の間、ソルダ・ペーストは、ソルダ・バン
プの溶融温度よりも低いが、ソルダ・ペーストを溶融す
るには十分に高く、より高い溶融温度を有するソルダ・
バンプと基板の金属化パッドの両方に冶金的接合を生じ
る温度に加熱される。
部材のソルダ・バンプに対応する金属化パッドを有する
基板を設ける段階を含む。ソルダ・レジストの厚い層が
基板に設けられる。このソルダ・レジストは選択的に除
去されて基板上の金属化パッドにウェルを設ける。ソル
ダ・ペーストがウェルに堆積される。ソルダの隆起した
部材が取り付けられ、その結果、ソルダ・バンプはウェ
ル内に位置する。ソルダ・ペーストはリフローされて濡
らされ、ソルダ・バンプと金属化パッドに接着される。
本発明の1つの特徴によれば、ソルダ・ペーストは、ソ
ルダ・バンプよりも低い溶融温度を持つように選択され
る。加熱段階の間、ソルダ・ペーストは、ソルダ・バン
プの溶融温度よりも低いが、ソルダ・ペーストを溶融す
るには十分に高く、より高い溶融温度を有するソルダ・
バンプと基板の金属化パッドの両方に冶金的接合を生じ
る温度に加熱される。
図面の簡単な説明 第1図は、本発明を適用しうる金属化パッドを有する基
板のアレイの上部平面図である。
板のアレイの上部平面図である。
第2図は、第1図のアレイにソルダ・ペーストを塗布し
た後の基板のアレイの配置の上部平面図である。
た後の基板のアレイの配置の上部平面図である。
第3図は、本発明に従ってソルダ・レジストを被覆した
基板の断面図である。
基板の断面図である。
第4図は、レジストを選択的にパター化しこれを除去し
た後の第3図の基板の断面図である。
た後の第3図の基板の断面図である。
第5図は、ソルダ・ペーストを塗布した後の第3図の基
板の断面図である。
板の断面図である。
第6図は、ペーストのリフロー後の第3図の基板の断面
図である。
図である。
第7図は、残っているレジストを除去した後の第3図の
基板の断面図である。
基板の断面図である。
第8図は、本発明に従いソルダ・レジストで被覆して図
示したソルダ・バンプ部材用のソケットとして使用する
ことのできる基板の断面図である。
示したソルダ・バンプ部材用のソケットとして使用する
ことのできる基板の断面図である。
第9図は、レジストを選択的にパターン化しこれを除去
した後の第8図の基板の断面図である。
した後の第8図の基板の断面図である。
第10図は、ソルダ・ペーストを塗布した後の第8図の
基板の断面図である。
基板の断面図である。
第11図は、所定の位置にソルダ・バンプ部材を載せた
第8図の基板の断面図である。
第8図の基板の断面図である。
第12図は、ペーストのリフロー後の第8図の基板の断
面図である。
面図である。
発明を実施するための最良の形態 第1図は基板10を示し、この基板10は1つの基板上
にパッド・グリッド・アレイ11を15個有する。各パ
ッド・グリッド・アレイ11は、マトリックス列に配列
された複数の金属化パッド12を有する。各パッド・グ
リッド・アレイ11の周囲は、複数の側面パッド13と
コーナー・パッド14がある。基板10はセラミックの
ようないかなる所望の金属でもよい。個々のパッド・グ
リッド・アレイは、切り離されると、集積回路チップ・
キャリアのような電子部品に使用することができる。
にパッド・グリッド・アレイ11を15個有する。各パ
ッド・グリッド・アレイ11は、マトリックス列に配列
された複数の金属化パッド12を有する。各パッド・グ
リッド・アレイ11の周囲は、複数の側面パッド13と
コーナー・パッド14がある。基板10はセラミックの
ようないかなる所望の金属でもよい。個々のパッド・グ
リッド・アレイは、切り離されると、集積回路チップ・
キャリアのような電子部品に使用することができる。
第2図は、光によって形成可能なソルダ・レジストを塗
布した後の基板10を示し、このソルダ・レジストは露
光および処理されて、金属化パッド12、13および1
4の周囲にこれらの金属化パッドよりも若干大きな領域
を設ける。次に論じるように、それらの領域にはソルダ
・ペースト16が充填される。
布した後の基板10を示し、このソルダ・レジストは露
光および処理されて、金属化パッド12、13および1
4の周囲にこれらの金属化パッドよりも若干大きな領域
を設ける。次に論じるように、それらの領域にはソルダ
・ペースト16が充填される。
第3図は基板20を示し、この基板20は明確にするた
め2つの金属化パッド21のみを示し、これらの金属化
パッド21は半田(ソルダ)の薄い層を含むことができ
る。基板20は、いずれの所望のパターンの金属化パッ
ド21を有することも可能であり、これらのパッドはソ
ルダの薄い層を含むことができる。光によって形成可能
なソルダ・レジスト22の厚層が基板20に塗布され
る。レジスト22は少なくとも10ミルの厚さであるこ
とが望ましく、15ミルの厚さであることが望ましい。
適当な光によって形成可能なソルダ・レジストは、ペン
シルベニア州、ランカスターのアームストロング・ワー
ルド・インダストリーズによって製造され、FANTO
N.106、306、370、または363の登録商標
で販売されている。レジスト22は、マスタ・ステンシ
ルを介して紫外線の放射によって露光され、このマスタ
・ステンシルはレジストを感光させることによって金属
化パッド21よりも大きい領域を金属化パッド21上に
形成し、次にレジストを選択的に除去する。
め2つの金属化パッド21のみを示し、これらの金属化
パッド21は半田(ソルダ)の薄い層を含むことができ
る。基板20は、いずれの所望のパターンの金属化パッ
ド21を有することも可能であり、これらのパッドはソ
ルダの薄い層を含むことができる。光によって形成可能
なソルダ・レジスト22の厚層が基板20に塗布され
る。レジスト22は少なくとも10ミルの厚さであるこ
とが望ましく、15ミルの厚さであることが望ましい。
適当な光によって形成可能なソルダ・レジストは、ペン
シルベニア州、ランカスターのアームストロング・ワー
ルド・インダストリーズによって製造され、FANTO
N.106、306、370、または363の登録商標
で販売されている。レジスト22は、マスタ・ステンシ
ルを介して紫外線の放射によって露光され、このマスタ
・ステンシルはレジストを感光させることによって金属
化パッド21よりも大きい領域を金属化パッド21上に
形成し、次にレジストを選択的に除去する。
レジスト22を選択的に除去することによって、第4図
で示すようにウェル23が設けられる。ソルダ・ペース
トは、次にスクィージーによって直接基板20に塗布さ
れる。残るレジスト22は、第5図で示すように、ウェ
ル23の中でソルダ・ペースト24を捕捉するステンシ
ルとして基本的に作用する。ウェル23のサイズは、各
ウェルで適量のソルダ・ペースト24が捕捉されるよう
に選択される。ソルダ・ペースト24は、次に加熱され
てソルダをリフローし、第6図で示すように、ソルダ・
バンプ25を形成する。ソルダ・バンプの高さはソルダ
・ペースト24の組成、金属化パッド21の領域とウェ
ル23の寸法によって決定される。高いソルダ・バンプ
25が希望される場合には、より多くのソルダ・ペース
ト23がリフローに使用されるように、より大きなウェ
ル23を設けることができる。ソルダ・ペースト24
は、リフローすると、濡れて金属化パッド21の芯にな
る。リフロー動作の後、残るソルダ・レジスト22は、
第7図で示すように、最終のソルダ・バンプ基板を設け
るために基板からはがしたり除去したりすることができ
る。
で示すようにウェル23が設けられる。ソルダ・ペース
トは、次にスクィージーによって直接基板20に塗布さ
れる。残るレジスト22は、第5図で示すように、ウェ
ル23の中でソルダ・ペースト24を捕捉するステンシ
ルとして基本的に作用する。ウェル23のサイズは、各
ウェルで適量のソルダ・ペースト24が捕捉されるよう
に選択される。ソルダ・ペースト24は、次に加熱され
てソルダをリフローし、第6図で示すように、ソルダ・
バンプ25を形成する。ソルダ・バンプの高さはソルダ
・ペースト24の組成、金属化パッド21の領域とウェ
ル23の寸法によって決定される。高いソルダ・バンプ
25が希望される場合には、より多くのソルダ・ペース
ト23がリフローに使用されるように、より大きなウェ
ル23を設けることができる。ソルダ・ペースト24
は、リフローすると、濡れて金属化パッド21の芯にな
る。リフロー動作の後、残るソルダ・レジスト22は、
第7図で示すように、最終のソルダ・バンプ基板を設け
るために基板からはがしたり除去したりすることができ
る。
同様のアプローチを使用して、ソルダ・バンプ基板20
を取り付けるとこれと対になる基板を作ることができ
る。自己固定基板は、第8図の基板30によって設ける
ことができる。基板30はセラミック、ポリイミド、プ
リント回路板もしくはその他の基板でもよい。基板30
は、第7図の基板のように、これが結合されるソルダ・
バンプ基板のパターンに対応するパターンを有する金属
化パッ31を含む。
を取り付けるとこれと対になる基板を作ることができ
る。自己固定基板は、第8図の基板30によって設ける
ことができる。基板30はセラミック、ポリイミド、プ
リント回路板もしくはその他の基板でもよい。基板30
は、第7図の基板のように、これが結合されるソルダ・
バンプ基板のパターンに対応するパターンを有する金属
化パッ31を含む。
光によって形成可能なソルダ・レジスト32(レジスト
22と同様のものでもよい)を第9図に示すように、基
板30の上に塗布し、これはフォト・レジスト32内に
ウェル33を形成するためにパターン化される。ソルダ
・ペースト34は、スクィージーで直接塗布され、第1
0図に示すように、ウェル33に充満される。ソルダ・
バンプ37を有するソルダ・バンプ部材36(第7図の
ソルダ・バンプ基板20で良い)が、基板30の上に載
置され、その結果、そのソルダ・バンプ37はソルダ・
ペースト34の中に落ち着く。ウェル33は、高さが約
10ミル(0.01インチ)であることが望ましく、こ
れによってソルダ・バンプ部材36の自己整合すなわち
自己固定が行われる。ソルダ・バンプ37は、重力を受
けてソルダ・ペースト34内に落ち着く傾向がある。こ
のアッセンブリは、次に加熱されてソルダ・ペースト3
4をリフローさせこれをソルダ・バンプ37と接着させ
部材36を基板30に相互結合させる。その結果得られ
たソルダの相互結合を、第12図の半田38として示
す。
22と同様のものでもよい)を第9図に示すように、基
板30の上に塗布し、これはフォト・レジスト32内に
ウェル33を形成するためにパターン化される。ソルダ
・ペースト34は、スクィージーで直接塗布され、第1
0図に示すように、ウェル33に充満される。ソルダ・
バンプ37を有するソルダ・バンプ部材36(第7図の
ソルダ・バンプ基板20で良い)が、基板30の上に載
置され、その結果、そのソルダ・バンプ37はソルダ・
ペースト34の中に落ち着く。ウェル33は、高さが約
10ミル(0.01インチ)であることが望ましく、こ
れによってソルダ・バンプ部材36の自己整合すなわち
自己固定が行われる。ソルダ・バンプ37は、重力を受
けてソルダ・ペースト34内に落ち着く傾向がある。こ
のアッセンブリは、次に加熱されてソルダ・ペースト3
4をリフローさせこれをソルダ・バンプ37と接着させ
部材36を基板30に相互結合させる。その結果得られ
たソルダの相互結合を、第12図の半田38として示
す。
ソルダ・ペースト34は、ソルダ・バンプ37のソルダ
よりも低い溶融温度を持つように選択されることが望ま
しい。ソルダ・ペースト34をこれをリフローさせるの
には十分だが、ソルダ・バンプ37の溶融温度よりも低
い温度に加熱することによって、ソルダ・ペースト34
は流動化して金属化パッド31とソルダ・バンプ37に
対して濡れ、ソルダ・バンプ37に混じる。ソルダ・バ
ンプ37をリフローさせることも可能であるが、隣接す
るソルダ・バンプへの不注意なショートの可能性を避け
るため、これらをリフローさせないことが望ましい。
よりも低い溶融温度を持つように選択されることが望ま
しい。ソルダ・ペースト34をこれをリフローさせるの
には十分だが、ソルダ・バンプ37の溶融温度よりも低
い温度に加熱することによって、ソルダ・ペースト34
は流動化して金属化パッド31とソルダ・バンプ37に
対して濡れ、ソルダ・バンプ37に混じる。ソルダ・バ
ンプ37をリフローさせることも可能であるが、隣接す
るソルダ・バンプへの不注意なショートの可能性を避け
るため、これらをリフローさせないことが望ましい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 サペルサ,アンソニー・ビー アメリカ合衆国フロリダ州コーラル・スプ リングス、ノース・ウエスト・エイティエ イス・ウェイ1839 (72)発明者 マレン,ウィリアム・ビー・ザ・サード アメリカ合衆国フロリダ州ボカ・ラトン、 サウス・ウエスト・トウェルフス・コート 9651 (56)参考文献 特開 昭61−296729(JP,A) 特開 昭63−54738(JP,A)
Claims (5)
- 【請求項1】基板上に少なくとも10ミルの厚さのレジ
スト層を適用する段階; 前記基板上のソルダ・パッド上方の前記レジストを選択
的に除去して、前記レジスト内にウェルを設ける段階; 前記ウェル内にのみソルダ・ペイストを適用してソルダ
・パッドに接触させる段階;および 前記ソルダ・ペイストをリフローして前記ソルダ・パッ
ド上にソルダ・バンプを形成する段階; によって構成されることを特徴とするソルダ・バンプの
形成方法。 - 【請求項2】前記レジストの厚さが約15ミルであるこ
とを特徴とする請求項1記載のソルダ・バンプの形成方
法。 - 【請求項3】ソルダ・バンプを形成した部材を基板へ取
付ける方法であって: 前記部材のソルダ・バンプに対応する金属化パッドを有
する基板を設ける段階; レジストの厚い層を基板に適用する段階; レジストを選択的に除去して基板上の前記金属化パッド
のところにウェルを設ける段階; ソルダ・ペーストをウェル内に付着させる段階; 前記ソルダ・バンプがウェル内にくるように前記のソル
ダ・バンプを形成した部材を位置づける段階;および ソルダ・ペーストを加熱してリフローさせ、ソルダ・バ
ンプおよび金属化パッドに接合させる段階; によって構成されることを特徴とする取付け方法。 - 【請求項4】ソルダ・ペーストをスクィージーで適用す
ることを特徴とする請求項3記載の取付け方法。 - 【請求項5】前記ソルダ・ペーストは前記ソルダ・バン
プの溶融温度以下の溶融温度を有するように選択され;
かつ 加熱段階の期間中、ソルダ・ペーストはソルダ・バンプ
の溶融温度以下の温度に加熱される; ことを特徴とする請求項4記載の取付け方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US142,447 | 1988-01-11 | ||
US29298889A | 1989-01-03 | 1989-01-03 | |
US292,988 | 1989-01-03 | ||
PCT/US1989/005528 WO1990007792A1 (en) | 1989-01-03 | 1989-12-15 | Method of making high density solder bumps and a substrate socket for high density solder bumps |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10049656A Division JPH10267914A (ja) | 1988-01-11 | 1998-03-02 | 2型真性糖尿病の処置 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03501611A JPH03501611A (ja) | 1991-04-11 |
JPH0666358B2 true JPH0666358B2 (ja) | 1994-08-24 |
Family
ID=23127128
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP90501655A Pending JPH03504064A (ja) | 1989-01-03 | 1989-12-15 | 高密度ソルダ・バンプの製造方法と高密度ソルダ・バンプ用基板ソケット |
JP2501655A Expired - Lifetime JPH0666358B2 (ja) | 1989-01-03 | 1989-12-15 | 高密度ソルダ・バンプの製造方法と高密度ソルダ・バンプ用基板ソケット |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP90501655A Pending JPH03504064A (ja) | 1989-01-03 | 1989-12-15 | 高密度ソルダ・バンプの製造方法と高密度ソルダ・バンプ用基板ソケット |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
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JP (2) | JPH03504064A (ja) |
KR (1) | KR940000747B1 (ja) |
AT (1) | ATE126395T1 (ja) |
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WO (1) | WO1990007792A1 (ja) |
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US5611140A (en) * | 1989-12-18 | 1997-03-18 | Epoxy Technology, Inc. | Method of forming electrically conductive polymer interconnects on electrical substrates |
US5060844A (en) * | 1990-07-18 | 1991-10-29 | International Business Machines Corporation | Interconnection structure and test method |
ZA915965B (en) * | 1990-07-30 | 1992-04-29 | South Africa Ind Dev Corp | Attaching integrated circuits to circuit boards |
GB2255672B (en) * | 1991-05-10 | 1994-11-30 | Northern Telecom Ltd | Opto-electronic components |
US5261155A (en) * | 1991-08-12 | 1993-11-16 | International Business Machines Corporation | Method for bonding flexible circuit to circuitized substrate to provide electrical connection therebetween using different solders |
US6077725A (en) * | 1992-09-03 | 2000-06-20 | Lucent Technologies Inc | Method for assembling multichip modules |
US5406701A (en) * | 1992-10-02 | 1995-04-18 | Irvine Sensors Corporation | Fabrication of dense parallel solder bump connections |
DE4310930A1 (de) * | 1993-04-02 | 1994-10-06 | Siemens Ag | Leiterplattenanordnung und Verfahren zur Herstellung einer bestückten Leiterplatte |
US5346118A (en) * | 1993-09-28 | 1994-09-13 | At&T Bell Laboratories | Surface mount solder assembly of leadless integrated circuit packages to substrates |
EP0841840A1 (en) * | 1996-11-12 | 1998-05-13 | Hewlett-Packard Company | Method for the manufacture of micro solder bumps on copper pads |
US6023029A (en) * | 1998-03-19 | 2000-02-08 | International Business Machines Corporation | Use of blind vias for soldered interconnections between substrates and printed wiring boards |
JPH11297889A (ja) | 1998-04-16 | 1999-10-29 | Sony Corp | 半導体パッケージおよび実装基板、ならびにこれらを用いた実装方法 |
US6137693A (en) * | 1998-07-31 | 2000-10-24 | Agilent Technologies Inc. | High-frequency electronic package with arbitrarily-shaped interconnects and integral shielding |
JP6502337B2 (ja) * | 2013-07-03 | 2019-04-17 | アルダー・バイオファーマシューティカルズ・インコーポレーテッド | 抗cgrp抗体を使用したグルコース代謝の調整 |
JP6152816B2 (ja) * | 2014-03-26 | 2017-06-28 | ソニー株式会社 | 半導体デバイス、表示パネル、表示装置、電子装置、および、半導体デバイスの製造方法 |
DE102021133746A1 (de) * | 2021-12-17 | 2023-06-22 | Endress+Hauser SE+Co. KG | Verfahren zum Verlöten mindestens eines Bauteils mit mindestens einem Trägerelement |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US3589000A (en) * | 1969-01-13 | 1971-06-29 | Du Pont | Method for attaching integrated circuit chips to thick film circuitry |
US4032058A (en) * | 1973-06-29 | 1977-06-28 | Ibm Corporation | Beam-lead integrated circuit structure and method for making the same including automatic registration of beam-leads with corresponding dielectric substrate leads |
US3986255A (en) * | 1974-11-29 | 1976-10-19 | Itek Corporation | Process for electrically interconnecting chips with substrates employing gold alloy bumps and magnetic materials therein |
US4311267A (en) * | 1979-05-04 | 1982-01-19 | Gte Automatic Electric Laboratories, Inc. | Method of screening paste solder onto leaded hybrid substrates |
US4273859A (en) * | 1979-12-31 | 1981-06-16 | Honeywell Information Systems Inc. | Method of forming solder bump terminals on semiconductor elements |
JPS58103198A (ja) * | 1981-12-15 | 1983-06-20 | シャープ株式会社 | 電子部品の取付け方法 |
JPS59136990A (ja) * | 1983-01-26 | 1984-08-06 | オムロン株式会社 | リフロ−半田付け方法 |
JPS61296729A (ja) * | 1985-06-26 | 1986-12-27 | Fujitsu Ltd | 集積回路接続部の形成方法 |
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JPH07112041B2 (ja) * | 1986-12-03 | 1995-11-29 | シャープ株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US4739917A (en) * | 1987-01-12 | 1988-04-26 | Ford Motor Company | Dual solder process for connecting electrically conducting terminals of electrical components to printed circuit conductors |
-
1989
- 1989-12-15 EP EP90901355A patent/EP0403631B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-12-15 WO PCT/US1989/005528 patent/WO1990007792A1/en active IP Right Grant
- 1989-12-15 JP JP90501655A patent/JPH03504064A/ja active Pending
- 1989-12-15 KR KR1019900701936A patent/KR940000747B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1989-12-15 AT AT90901355T patent/ATE126395T1/de active
- 1989-12-15 DE DE68923790T patent/DE68923790T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-12-15 JP JP2501655A patent/JPH0666358B2/ja not_active Expired - Lifetime
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ATE126395T1 (de) | 1995-08-15 |
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EP0403631A4 (en) | 1992-01-02 |
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