JPH0664759B2 - 非晶質磁気光学層 - Google Patents
非晶質磁気光学層Info
- Publication number
- JPH0664759B2 JPH0664759B2 JP58233663A JP23366383A JPH0664759B2 JP H0664759 B2 JPH0664759 B2 JP H0664759B2 JP 58233663 A JP58233663 A JP 58233663A JP 23366383 A JP23366383 A JP 23366383A JP H0664759 B2 JPH0664759 B2 JP H0664759B2
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- JP
- Japan
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- magneto
- optical layer
- film
- amorphous
- atomic
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Description
【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は光磁気記録媒体に用いられる非晶質磁気光学層
に関する。
に関する。
従来、光磁気ディスク、磁気バブルメモリーなどに用い
られる膜面と垂直な方向に磁化容易軸を有する強磁性薄
膜としてMnBiに代表される多結晶合金薄膜、Gd−Co、Gd
−Feの非結晶合金薄膜、GIGに代表される化合物単結晶
薄膜が知られている。これらの薄膜は種々の利点を有す
るが、MnBiはキュリー点が高いために薄膜の作製が技術
的に困難であり、また光磁気ディスクに利用した場合書
き込みに大きなエネルギーを必要とするという欠点があ
る。また、Gd−Co、Gd−Feの非晶質合金薄膜は室温にお
ける保磁力が小さく（300〜500 Oe）記録された情報が
不安定であるという欠点を有している。
られる膜面と垂直な方向に磁化容易軸を有する強磁性薄
膜としてMnBiに代表される多結晶合金薄膜、Gd−Co、Gd
−Feの非結晶合金薄膜、GIGに代表される化合物単結晶
薄膜が知られている。これらの薄膜は種々の利点を有す
るが、MnBiはキュリー点が高いために薄膜の作製が技術
的に困難であり、また光磁気ディスクに利用した場合書
き込みに大きなエネルギーを必要とするという欠点があ
る。また、Gd−Co、Gd−Feの非晶質合金薄膜は室温にお
ける保磁力が小さく（300〜500 Oe）記録された情報が
不安定であるという欠点を有している。
そこで、上記のような従来の磁性薄膜記録媒体の欠点を
除去する新しい磁性薄膜記録媒体としてTbDyFe非晶質薄
膜を有するもの（特開昭57−169945号公報参照）が提案
されている。しかしながら、このものはキュリー温度が
比較的小さいため小さなレーザパワーで書き込むことが
可能である等の利点を有するにもかかわらず、カー回転
角が0.2deg位と小さく光再生特性の点でいまだ満足のい
くものでない。
除去する新しい磁性薄膜記録媒体としてTbDyFe非晶質薄
膜を有するもの（特開昭57−169945号公報参照）が提案
されている。しかしながら、このものはキュリー温度が
比較的小さいため小さなレーザパワーで書き込むことが
可能である等の利点を有するにもかかわらず、カー回転
角が0.2deg位と小さく光再生特性の点でいまだ満足のい
くものでない。
本発明は上記現状に鑑みてなされたものであって、その
目的はカー回転角θｋが大きく且つ保磁力Hcが大きい非
晶質磁気光学層を提供することである。
目的はカー回転角θｋが大きく且つ保磁力Hcが大きい非
晶質磁気光学層を提供することである。
本発明の非晶質磁気光学層は、膜面と垂直な方向に磁化
容易軸を有するTb−Dy−Fe膜に0.5原子％以上１原子％
未満の銅を含むものである。本発明において銅の含有量
を0.5原子％以上１原子％未満と限定するのは、保磁力H
cの大きな値を維持しつつ大きなカー回転角を得るため
であり、0.5原子％未満では充分なカー回転角が得られ
ず本発明の効果が達成されない。
容易軸を有するTb−Dy−Fe膜に0.5原子％以上１原子％
未満の銅を含むものである。本発明において銅の含有量
を0.5原子％以上１原子％未満と限定するのは、保磁力H
cの大きな値を維持しつつ大きなカー回転角を得るため
であり、0.5原子％未満では充分なカー回転角が得られ
ず本発明の効果が達成されない。
本発明の磁気光学層はガラス、プラスチック、セラミッ
クなどからなる非磁性基板上にスパッタ法、蒸着法、イ
オンプレーティング法などにより、0.5原子％以上１原
子％未満のCuを含むTb−Dy−Fe−Cu膜を形成させること
により作製することができる。膜の作製はスパッタ法に
よって行うのが望ましい。ターゲットは例えばコンポジ
ット法を用い、Feの円板の上にTb、DyおよびCuチップを
のせて構成しそして組成はターゲット表面の面積比でコ
ントロールする。また、本発明の磁気光学層を光磁気記
録媒体に使用する場合はそれを単独で用いてもよいしあ
るいは他の膜と一緒に用いてもよい。例えばSiO２、Si
O、Si３Ｏ４などからなる保護膜をTb−Dy−Fe−Cu膜の
上または下にスパッタ法、蒸着法、イオンプレーティン
グ法などにより設けることができる。
クなどからなる非磁性基板上にスパッタ法、蒸着法、イ
オンプレーティング法などにより、0.5原子％以上１原
子％未満のCuを含むTb−Dy−Fe−Cu膜を形成させること
により作製することができる。膜の作製はスパッタ法に
よって行うのが望ましい。ターゲットは例えばコンポジ
ット法を用い、Feの円板の上にTb、DyおよびCuチップを
のせて構成しそして組成はターゲット表面の面積比でコ
ントロールする。また、本発明の磁気光学層を光磁気記
録媒体に使用する場合はそれを単独で用いてもよいしあ
るいは他の膜と一緒に用いてもよい。例えばSiO２、Si
O、Si３Ｏ４などからなる保護膜をTb−Dy−Fe−Cu膜の
上または下にスパッタ法、蒸着法、イオンプレーティン
グ法などにより設けることができる。
以下に実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、こ
れに限定されるものではない。
れに限定されるものではない。
本実施例では以下の作製条件でスライドガラス上に約20
00Åの膜厚のTb−Dy−Fe−Cu膜を作製し、Hcの大きい補
償組成付近のFe0.79（Tb0.5Dy0.5）0.21の組成において
（Tb0.5Dy0.5）に一部をCuで置換するという形でFe0.79
｛（Tb0.5Dy0.5）１−ＸCuＸ｝0.21の中のｘを変化させ
ていく場合のカー回転角θｋおよび保磁力Hcの変化をみ
た。
00Åの膜厚のTb−Dy−Fe−Cu膜を作製し、Hcの大きい補
償組成付近のFe0.79（Tb0.5Dy0.5）0.21の組成において
（Tb0.5Dy0.5）に一部をCuで置換するという形でFe0.79
｛（Tb0.5Dy0.5）１−ＸCuＸ｝0.21の中のｘを変化させ
ていく場合のカー回転角θｋおよび保磁力Hcの変化をみ
た。
＜作製条件＞ 残 留 ガ ス 圧：×10− ７Torr Ａ ｒ ガ ス 圧:1.5×10− ２Torr 放 電 電 力 :400W プレスパッタ時間 :60分 メインスパッタ時間:8分 膜の評価はλ＝633nmでのカー回転角θｋおよび保磁力H
cを求めて行った。なお、θｋは基板側からHe−Neレー
ザを照射してカー効果により求めた。
cを求めて行った。なお、θｋは基板側からHe−Neレー
ザを照射してカー効果により求めた。
Fe0.79｛（Tb0.5Dy0.5）１−ＸCuＸ｝0.21中のCuの添加
量ｘとθｋおよびHcとの関係を求めた図の結果から、Cu
の添加量ｘを増していくとHcは小さくなるが、一定の範
囲（0.5原子％以上１原子％未満）においてはHcの低下
量が少なく、θｋは大きいことがわかる。
量ｘとθｋおよびHcとの関係を求めた図の結果から、Cu
の添加量ｘを増していくとHcは小さくなるが、一定の範
囲（0.5原子％以上１原子％未満）においてはHcの低下
量が少なく、θｋは大きいことがわかる。
実際にθｋの比較を行ったところ、 Fe0.79（Tb0.5Dy0.5）0.21のときθｋ＝0.20deg Fe0.79｛（Tb0.5Dy0.5）0.96Cu0.04｝0.21のときθｋ＝
0.27deg となり、θｋがCuを添加することにより約35％大きくな
ることが明らかであった。
0.27deg となり、θｋがCuを添加することにより約35％大きくな
ることが明らかであった。
本発明の非晶質磁気光学層はTb−Dy−Fe膜に0.5原子％
以上１原子％未満の銅を含ませたので、カー回転角θｋ
が大きく且つ保磁力のHcの大きい光磁気記録媒体を提供
できる。
以上１原子％未満の銅を含ませたので、カー回転角θｋ
が大きく且つ保磁力のHcの大きい光磁気記録媒体を提供
できる。
図は本発明の磁気光学層の最適条件を決定するにあたっ
ての組成変化に対するカー回転角と保磁力との関係を示
す図である。
ての組成変化に対するカー回転角と保磁力との関係を示
す図である。
Claims (1)
- 【請求項１】膜面と垂直な方向に磁化容易軸を有するTb
−Dy−Fe膜に0.5原子％以上１原子％未満の銅を含むこ
とを特徴とする、非晶質磁気光学層。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58233663A JPH0664759B2 (ja) | 1983-12-13 | 1983-12-13 | 非晶質磁気光学層 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58233663A JPH0664759B2 (ja) | 1983-12-13 | 1983-12-13 | 非晶質磁気光学層 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60128244A JPS60128244A (ja) | 1985-07-09 |
| JPH0664759B2 true JPH0664759B2 (ja) | 1994-08-22 |
Family
ID=16958574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58233663A Expired - Lifetime JPH0664759B2 (ja) | 1983-12-13 | 1983-12-13 | 非晶質磁気光学層 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0664759B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2601796B2 (ja) * | 1985-12-05 | 1997-04-16 | 日立マクセル株式会社 | 光磁気記録媒体 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5968854A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-18 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 光磁気記録媒体 |
-
1983
- 1983-12-13 JP JP58233663A patent/JPH0664759B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60128244A (ja) | 1985-07-09 |
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