JPH0660420B2 - 成膜製品の製造法、この製造法を用いて得られた薄壁成膜したシリンダおよび該シリンダから成るインキ移転ロ−ラ - Google Patents
成膜製品の製造法、この製造法を用いて得られた薄壁成膜したシリンダおよび該シリンダから成るインキ移転ロ−ラInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、金属から成る密着層および少なくともセラミ
ックとフルオロカーボン重合体とを含む膜をプラズマ溶
射により形成して成る成膜製品の製造法に関するもので
ある。
ックとフルオロカーボン重合体とを含む膜をプラズマ溶
射により形成して成る成膜製品の製造法に関するもので
ある。
プラズマ溶射による成膜製品の製造法は米国特許第4,
566,938号に開示されている。米国特許第4,5
66,938号には、金属とフルオロカーボン重合体と
の混合物をローラに施し、その後セラミックとフルオロ
カーボン重合体とを含む膜を形成することが開示されて
いる。しかしながら、上記方法は、通常の状態では機械
的に変形し得ない剛性製品に成膜する場合のみにしか用
いることができないという欠点があった。このような方
法を用いて可撓性製品に成膜した場合には、該製品の使
用中に成膜系と基体との間の密着性の問題が生じ、それ
により成膜層の亀裂、そしてさらには成膜層の部分的な
剥離が生じる惧れがあった。
566,938号に開示されている。米国特許第4,5
66,938号には、金属とフルオロカーボン重合体と
の混合物をローラに施し、その後セラミックとフルオロ
カーボン重合体とを含む膜を形成することが開示されて
いる。しかしながら、上記方法は、通常の状態では機械
的に変形し得ない剛性製品に成膜する場合のみにしか用
いることができないという欠点があった。このような方
法を用いて可撓性製品に成膜した場合には、該製品の使
用中に成膜系と基体との間の密着性の問題が生じ、それ
により成膜層の亀裂、そしてさらには成膜層の部分的な
剥離が生じる惧れがあった。
本発明の目的は、上記問題を解決しようとするものであ
って、成膜した可撓性製品の通常の使用中に成膜層が亀
裂、剥離することがないように可撓性製品に成膜する方
法を提供するものである。
って、成膜した可撓性製品の通常の使用中に成膜層が亀
裂、剥離することがないように可撓性製品に成膜する方
法を提供するものである。
本発明による上記目的解決のための方法は、成膜すべき
製品の表面に金属のみからなる密着層を設け、つぎに少
なくともセラミックとフルオロカーボン重合体とを含む
膜を形成すると共に、該金属密着層は、プラズマ溶射条
件下で相互に発熱的に反応する少なくとも二種類以上の
金属を使用して形成されることを特徴としている。発熱
的に反応するとは、二種類以上の金属が化学反応をする
ことにより熱を生ずることを言う。
製品の表面に金属のみからなる密着層を設け、つぎに少
なくともセラミックとフルオロカーボン重合体とを含む
膜を形成すると共に、該金属密着層は、プラズマ溶射条
件下で相互に発熱的に反応する少なくとも二種類以上の
金属を使用して形成されることを特徴としている。発熱
的に反応するとは、二種類以上の金属が化学反応をする
ことにより熱を生ずることを言う。
驚くべきことに、プラズマ溶射状態において相互に発熱
的に反応する二種以上の金属のみから成る密着層を用い
ると、上記米国特許第4,566,938号に開示され
ているフルオロカーボン重合体と金属との混合物から成
る密着層を用いた場合に比べ、セラミックとフルオロカ
ーボン重合体とを含む膜の、基体の変形に対する安定性
が非常に増すことがわかった。プラズマ溶射状態の下で
金属が発熱反応を起こすことにより、該熱の作用により
基体と密着層の間に物理治金学的な接着が生まれるもの
と考えられる。また二種以上の金属が発熱反応により合
金化することにより溶射金属の粒子間の密着性が増し、
該密着層の密度も増すものと考えられる。この改善され
た安定性は特に、密着層およびセラミックとフルオロカ
ーボン重合体とを含む膜が形成された基体が変形するよ
うな場合において明らかである。基体の通常の弾性変形
では、亀裂、ましてや剥離はもはや生じない。
的に反応する二種以上の金属のみから成る密着層を用い
ると、上記米国特許第4,566,938号に開示され
ているフルオロカーボン重合体と金属との混合物から成
る密着層を用いた場合に比べ、セラミックとフルオロカ
ーボン重合体とを含む膜の、基体の変形に対する安定性
が非常に増すことがわかった。プラズマ溶射状態の下で
金属が発熱反応を起こすことにより、該熱の作用により
基体と密着層の間に物理治金学的な接着が生まれるもの
と考えられる。また二種以上の金属が発熱反応により合
金化することにより溶射金属の粒子間の密着性が増し、
該密着層の密度も増すものと考えられる。この改善され
た安定性は特に、密着層およびセラミックとフルオロカ
ーボン重合体とを含む膜が形成された基体が変形するよ
うな場合において明らかである。基体の通常の弾性変形
では、亀裂、ましてや剥離はもはや生じない。
上記二種類の金属から成る密着層は、有利にはニッケル
・チタン合金から成る。また、別の非常に有利な密着層
はニッケル・アルミニウム合金から成る。上記ニッケル
・チタンおよびニッケル・アルミニウムの分子比率はは
有利にはそれぞれ30:70および70:30の間であ
る。
・チタン合金から成る。また、別の非常に有利な密着層
はニッケル・アルミニウム合金から成る。上記ニッケル
・チタンおよびニッケル・アルミニウムの分子比率はは
有利にはそれぞれ30:70および70:30の間であ
る。
本発明による方法においてセラミックとフルオロカーボ
ン重合体とを含む膜のセラミック成分はアモルファス金
属酸化物、金属炭化物、金属窒素物および金属珪化物ま
たはこれらの物質の混合物を使用することが有利であ
る。
ン重合体とを含む膜のセラミック成分はアモルファス金
属酸化物、金属炭化物、金属窒素物および金属珪化物ま
たはこれらの物質の混合物を使用することが有利であ
る。
セラミックとフルオロカーボン重合体とを含む膜の機械
的性質を考慮すれば、セラミック成分にはアモルファス
出発原料を用いるのが有利である。特に結晶性のセラミ
ック材料の代わりにアモルファスセラミック材料を用い
た場合に膜の弾性が増加することがわかった。また出発
原料のアモルファス特性はプラズマ溶射処理およびさら
に他の処理においても保持されることもわかった。
的性質を考慮すれば、セラミック成分にはアモルファス
出発原料を用いるのが有利である。特に結晶性のセラミ
ック材料の代わりにアモルファスセラミック材料を用い
た場合に膜の弾性が増加することがわかった。また出発
原料のアモルファス特性はプラズマ溶射処理およびさら
に他の処理においても保持されることもわかった。
本発明による方法の実施例では、成膜すべき製品は厚さ
10〜1000μmの金属から成り、その上にまず50
モル%のNiと50モル%のTiとから成り厚さ25〜
500μmのNi・Ti密着層がプラズマ溶射によって
形成され、その後セラミックとフルオロカーボン重合体
と金属とから成る厚さ75〜800μmの膜が形成され
る。この場合、該金属は50モル%のNiと50モル%
のTi合金から成り、該セラミックは1〜80重量%の
アモルファス二酸化チタンと99〜20重量%のアモル
ファス酸化アルミニウムとから成る。また膜の厚さ方向
における成膜の組成は、上記Ni・Ti密着層側から見
て、85〜0%の金属から10〜95%のセラミックま
で変化し、また常に少なくとも5重量%のポリテトラフ
ルオロエチレンが存在している。
10〜1000μmの金属から成り、その上にまず50
モル%のNiと50モル%のTiとから成り厚さ25〜
500μmのNi・Ti密着層がプラズマ溶射によって
形成され、その後セラミックとフルオロカーボン重合体
と金属とから成る厚さ75〜800μmの膜が形成され
る。この場合、該金属は50モル%のNiと50モル%
のTi合金から成り、該セラミックは1〜80重量%の
アモルファス二酸化チタンと99〜20重量%のアモル
ファス酸化アルミニウムとから成る。また膜の厚さ方向
における成膜の組成は、上記Ni・Ti密着層側から見
て、85〜0%の金属から10〜95%のセラミックま
で変化し、また常に少なくとも5重量%のポリテトラフ
ルオロエチレンが存在している。
上記、セラミックとフルオロカーボン重合体とを含む膜
の形成は、従来のプラズマ溶射の手段により行うことが
できる。すなわち、電気アークで熱ガスを作り、これを
溶射に用いるものであり、溶射材料はガンに送られ該熱
ガスにより溶融され、溶融した粒子はプラズマジェット
により噴射される。この場合、セラミック粒子とフルオ
ロカーボン重合体の粒子とを別の容器に入れ、別個独立
にガンに供給し、ガンの中のプラズマガスの熱量と温度
を調節し、別個独立に噴射することによりフルオロカー
ボン重合体が燃焼、分解することを避けることができ
る。プラズマ溶射においては、ガンの移行速度の管理、
冷却方法等によりプラズマ溶射中における基体の温度管
理を行うことにより、基体の過熱を防止することができ
る。
の形成は、従来のプラズマ溶射の手段により行うことが
できる。すなわち、電気アークで熱ガスを作り、これを
溶射に用いるものであり、溶射材料はガンに送られ該熱
ガスにより溶融され、溶融した粒子はプラズマジェット
により噴射される。この場合、セラミック粒子とフルオ
ロカーボン重合体の粒子とを別の容器に入れ、別個独立
にガンに供給し、ガンの中のプラズマガスの熱量と温度
を調節し、別個独立に噴射することによりフルオロカー
ボン重合体が燃焼、分解することを避けることができ
る。プラズマ溶射においては、ガンの移行速度の管理、
冷却方法等によりプラズマ溶射中における基体の温度管
理を行うことにより、基体の過熱を防止することができ
る。
本発明において、基体の金属は、例えば、スチール、
銅、ニッケル、アルミニウムおよびその他の普通に用い
られる金属並びに金属合金である。
銅、ニッケル、アルミニウムおよびその他の普通に用い
られる金属並びに金属合金である。
セラミックとフルオロカーボン重合体とを含む膜を設け
た可撓性の金属製品は多様に用いられ、上記方法は、薄
くて可撓性の金属に、密着性が非常に強く、亀裂がな
く、電気的に絶縁性であり、耐摩耗性であり、かつ摩擦
係数の低い膜層を設けなければならない場合に用いるこ
とができる。一例としては、多くの種類の機器における
機械的に負荷の掛かる表面の成膜があり、特にローラの
表面の全体または部分成膜においては、上記の方法で得
られた製品は非常に利用性か高いものとなる。
た可撓性の金属製品は多様に用いられ、上記方法は、薄
くて可撓性の金属に、密着性が非常に強く、亀裂がな
く、電気的に絶縁性であり、耐摩耗性であり、かつ摩擦
係数の低い膜層を設けなければならない場合に用いるこ
とができる。一例としては、多くの種類の機器における
機械的に負荷の掛かる表面の成膜があり、特にローラの
表面の全体または部分成膜においては、上記の方法で得
られた製品は非常に利用性か高いものとなる。
本発明の方法による別の実施例では成膜する製品は壁厚
50〜250μmの薄壁をもつニッケル製の継ぎ目なし
シリンダである。
50〜250μmの薄壁をもつニッケル製の継ぎ目なし
シリンダである。
このような継ぎ目なしシリンダは、当該技術分野におけ
る公知の適当な手段によって例えばローラ上にライニン
グとして応用される。該シリンダを外嵌するローラの端
部の少なくとも一方には多数のガス流出開口が設けてあ
り、該ガス流出開口はローラの内部を介して加圧下のガ
スの供給源に接続される。薄壁シリンダをローラ上に僅
かな距離嵌め込ませてガス流出開口を覆い、ガスの供給
源を開けば、ニッケル製の薄壁シリンダは弾性的に僅か
に伸張するので、簡単な手段で薄壁シリンダを支持ロー
ラの全長にわたって嵌め込むことができる。尚、僅かに
円錐状に形成され支持ローラには、該支持ローラ上に嵌
め込むことのできる僅かに円錐状に形成された薄壁シリ
ンダも選択され得る。
る公知の適当な手段によって例えばローラ上にライニン
グとして応用される。該シリンダを外嵌するローラの端
部の少なくとも一方には多数のガス流出開口が設けてあ
り、該ガス流出開口はローラの内部を介して加圧下のガ
スの供給源に接続される。薄壁シリンダをローラ上に僅
かな距離嵌め込ませてガス流出開口を覆い、ガスの供給
源を開けば、ニッケル製の薄壁シリンダは弾性的に僅か
に伸張するので、簡単な手段で薄壁シリンダを支持ロー
ラの全長にわたって嵌め込むことができる。尚、僅かに
円錐状に形成され支持ローラには、該支持ローラ上に嵌
め込むことのできる僅かに円錐状に形成された薄壁シリ
ンダも選択され得る。
上記に関連して、金属製品に密着性のセラミックとフル
オロカーボン重合体とを有する膜を施すことにより非常
に良好な多くの応用の可能性が得られる。しかしなが
ら、本発明に係る方法の利用は金属製品へのこのような
膜の形成に限定されるものではない。金属のみからなる
密着層を用いた非常に密着性の強いセラミックとフルオ
ロカーボン重合体とを有する膜を施す方法は、プラスチ
ックからなる基体にも適用される。プラスチックを材料
とする基体の場合、材料は例えばガラス繊維強化ポリエ
ステルであり、その場合ガラス繊維の含有量はプラズマ
溶射条件を考慮してできるだけ高くされる。
オロカーボン重合体とを有する膜を施すことにより非常
に良好な多くの応用の可能性が得られる。しかしなが
ら、本発明に係る方法の利用は金属製品へのこのような
膜の形成に限定されるものではない。金属のみからなる
密着層を用いた非常に密着性の強いセラミックとフルオ
ロカーボン重合体とを有する膜を施す方法は、プラスチ
ックからなる基体にも適用される。プラスチックを材料
とする基体の場合、材料は例えばガラス繊維強化ポリエ
ステルであり、その場合ガラス繊維の含有量はプラズマ
溶射条件を考慮してできるだけ高くされる。
また、本発明は、上記方法を用いて得られた薄壁成膜シ
リンダであって、セラミックとフルオロカーボン重合体
とを有する膜を施した後、該膜にビーム処理によって所
望の形状の空洞の表面パターンが形成されることを特徴
とする薄壁シリンダに関するものである。
リンダであって、セラミックとフルオロカーボン重合体
とを有する膜を施した後、該膜にビーム処理によって所
望の形状の空洞の表面パターンが形成されることを特徴
とする薄壁シリンダに関するものである。
このような薄壁成膜シリンダは特に以下に記載するよう
なインキ移転ローラに用いられる。インキ移転ローラの
形状および適用は上述の米国特許第4,566,938
号において公知である。本発明による方法で製造した薄
壁シリンダは、空洞の表面パターンを備えていない薄壁
シリンダについて既に説明したと同様にしてローラ形状
の基体に設けられる。
なインキ移転ローラに用いられる。インキ移転ローラの
形状および適用は上述の米国特許第4,566,938
号において公知である。本発明による方法で製造した薄
壁シリンダは、空洞の表面パターンを備えていない薄壁
シリンダについて既に説明したと同様にしてローラ形状
の基体に設けられる。
このような薄壁成膜シリンダをインキ移転ローラに用い
る場合には、薄壁成膜シリンダに必要な剛性を与える他
の緊締手段も設けられる。支持ローラのような支持部材
による緊締手段の代わりに、シリンダの端部に固定され
る緊張手段によりシリンダを緊張させ、インキ移転ロー
ラとして使用できるように表面に十分な剛性を与えるよ
うにすることもできる。また、必要な剛性を得るため
に、シリンダの内部に液体またはガス圧力を加えること
ができるようにする緊締手段をシリンダに対して用いる
こともできる。尚、ガス圧力による場合には当然適切な
安全規定を守る必要がある。
る場合には、薄壁成膜シリンダに必要な剛性を与える他
の緊締手段も設けられる。支持ローラのような支持部材
による緊締手段の代わりに、シリンダの端部に固定され
る緊張手段によりシリンダを緊張させ、インキ移転ロー
ラとして使用できるように表面に十分な剛性を与えるよ
うにすることもできる。また、必要な剛性を得るため
に、シリンダの内部に液体またはガス圧力を加えること
ができるようにする緊締手段をシリンダに対して用いる
こともできる。尚、ガス圧力による場合には当然適切な
安全規定を守る必要がある。
空洞の表面パターンを備えた薄壁成膜シリンダの使用に
関しては本出願人のオランダ国特許出願第8,401,
401号においても参照され、このオランダ国特許出願
の明細書にはスクリーンローラの製造方法が記載されて
いる。上記のオランダ国特許出願の明細書には薄壁円筒
状網目部材が記載されており、この薄壁円筒状網目部材
は、まず網目部材の孔をシールし、上述の空気嵌め込み
法によって開口を有するローラの周りに嵌め込み、その
後網目部材の孔をシールした充填材を除去することによ
って支持シリンダに緊締させて嵌め込められる。このよ
うにして得られたインキ移転ローラは薄壁で継ぎ目なし
のシリンダとして全体に孔の開いたシリンダを使用して
おり、シリンダにおける空洞パターンは薄壁シリンダ自
体の性質によって決まる。これに対し、本発明による方
法は、孔を全く有しない薄壁シリンダを用いるものであ
り、この薄壁シリンダの周りに非常に密着性の強く、機
械的に耐久性のあるセラミックとフルオロカーボン重合
体とを有する成る膜が施され、セラミックとフルオロカ
ーボン重合体とを有する膜を施した後、空洞の表面パタ
ーンの形状および細かさを自由に選択することができ
る。
関しては本出願人のオランダ国特許出願第8,401,
401号においても参照され、このオランダ国特許出願
の明細書にはスクリーンローラの製造方法が記載されて
いる。上記のオランダ国特許出願の明細書には薄壁円筒
状網目部材が記載されており、この薄壁円筒状網目部材
は、まず網目部材の孔をシールし、上述の空気嵌め込み
法によって開口を有するローラの周りに嵌め込み、その
後網目部材の孔をシールした充填材を除去することによ
って支持シリンダに緊締させて嵌め込められる。このよ
うにして得られたインキ移転ローラは薄壁で継ぎ目なし
のシリンダとして全体に孔の開いたシリンダを使用して
おり、シリンダにおける空洞パターンは薄壁シリンダ自
体の性質によって決まる。これに対し、本発明による方
法は、孔を全く有しない薄壁シリンダを用いるものであ
り、この薄壁シリンダの周りに非常に密着性の強く、機
械的に耐久性のあるセラミックとフルオロカーボン重合
体とを有する成る膜が施され、セラミックとフルオロカ
ーボン重合体とを有する膜を施した後、空洞の表面パタ
ーンの形状および細かさを自由に選択することができ
る。
本発明はまた、金属から成る密着層とセラミックとフル
オロカーボン重合体とを有する膜とが形成された基体か
ら成り、セラミックとフルオロカーボン重合体とを有す
る膜の形成後、ビーム処理によってこの膜に空洞の表面
パターンが形成されたインキローラに関し、このインキ
ローラは、所望の形状の孔の表面パターンが形成された
薄壁成膜シリンダで構成され、そして上述のようにイン
キ移転ローラとして使用できるようにするべく上記シリ
ンダに剛性を与える緊締手段およびシール手段を有する
ことを特徴としている。
オロカーボン重合体とを有する膜とが形成された基体か
ら成り、セラミックとフルオロカーボン重合体とを有す
る膜の形成後、ビーム処理によってこの膜に空洞の表面
パターンが形成されたインキローラに関し、このインキ
ローラは、所望の形状の孔の表面パターンが形成された
薄壁成膜シリンダで構成され、そして上述のようにイン
キ移転ローラとして使用できるようにするべく上記シリ
ンダに剛性を与える緊締手段およびシール手段を有する
ことを特徴としている。
好ましくは、上記インキローラは、少なくとも、支持ロ
ーラとシリンダとの間からのインキの浸透を防ぐシール
要素と、上記シール要素に対する押圧部材とを備えたシ
ール手段を有している。シール手段は例えばインキロー
ラの軸に固定される板状部材を有し、板状部材が環状シ
ール要素を薄壁シリンダとその支持部材との間の分かれ
た継ぎ目に対して押圧するようになっている。
ーラとシリンダとの間からのインキの浸透を防ぐシール
要素と、上記シール要素に対する押圧部材とを備えたシ
ール手段を有している。シール手段は例えばインキロー
ラの軸に固定される板状部材を有し、板状部材が環状シ
ール要素を薄壁シリンダとその支持部材との間の分かれ
た継ぎ目に対して押圧するようになっている。
特に、インキ移転ローラは、支持ローラの軸に固定され
るディスクと、該ディスクに垂直に嵌められ、支持ロー
ラに固定された継ぎ目なしシリンダの外表面に接続され
るフランジとから形成された押圧部材を有し、シリンダ
表面とフランジの内側との間に設けた少なくとも一つの
環状シール要素がシール作用を確実にしている。
るディスクと、該ディスクに垂直に嵌められ、支持ロー
ラに固定された継ぎ目なしシリンダの外表面に接続され
るフランジとから形成された押圧部材を有し、シリンダ
表面とフランジの内側との間に設けた少なくとも一つの
環状シール要素がシール作用を確実にしている。
環状シール要素は有利には少なくともその表面上におい
てポリテトラフルオロエチレンから成る。ポリテトラフ
ルオロエチレンの使用は、溶剤のような攻撃性成分を含
み得るインキを用いるインキローラの使用を考えると非
常に有利である。
てポリテトラフルオロエチレンから成る。ポリテトラフ
ルオロエチレンの使用は、溶剤のような攻撃性成分を含
み得るインキを用いるインキローラの使用を考えると非
常に有利である。
上述のように支持ローラに取付けた薄壁シリンダから成
る本発明のインキ移転ローラの使用においては、ローラ
に添加したインキがシリンダと支持ローラとの間の毛管
現象により滲み出るという問題が生じ得る。この場合、
滲み出したインキは乾燥することとなるが、その量が多
いと、スリーブとしての薄壁シリンダの表面に不規則性
を生じさせる惧れがある。このようなインキローラの使
用中、ローラーは一般にインキまたは染料の入ったタン
ク内で回転し、染料は例えば鋼製のスキージで余分な染
料をかき落としながら取り上げられていくが、インキの
浸透による薄壁シリンダの表面におけるむらはスキー
ジ、シリンダの過剰な摩耗となり、場合によっては支持
ローラの表面から薄壁シリンダが引き裂かれてしまう惧
れがある。しかるに、いずれの場合においても薄壁シリ
ンダと支持ローラとの間にインキが浸透していくことは
避けなければならないが、上述のシール手段を用いるこ
とによりインキの浸透は効果的に避けられる。上述のシ
ール手段は本発明によって形成されたインキ移転ローラ
と共に非常に有利に用いられ得るが、その利用はこれに
限定されるものではなく、取り外し可能なインキ着け面
を備えた他のローラにも利用することができる。
る本発明のインキ移転ローラの使用においては、ローラ
に添加したインキがシリンダと支持ローラとの間の毛管
現象により滲み出るという問題が生じ得る。この場合、
滲み出したインキは乾燥することとなるが、その量が多
いと、スリーブとしての薄壁シリンダの表面に不規則性
を生じさせる惧れがある。このようなインキローラの使
用中、ローラーは一般にインキまたは染料の入ったタン
ク内で回転し、染料は例えば鋼製のスキージで余分な染
料をかき落としながら取り上げられていくが、インキの
浸透による薄壁シリンダの表面におけるむらはスキー
ジ、シリンダの過剰な摩耗となり、場合によっては支持
ローラの表面から薄壁シリンダが引き裂かれてしまう惧
れがある。しかるに、いずれの場合においても薄壁シリ
ンダと支持ローラとの間にインキが浸透していくことは
避けなければならないが、上述のシール手段を用いるこ
とによりインキの浸透は効果的に避けられる。上述のシ
ール手段は本発明によって形成されたインキ移転ローラ
と共に非常に有利に用いられ得るが、その利用はこれに
限定されるものではなく、取り外し可能なインキ着け面
を備えた他のローラにも利用することができる。
添付図面を参照して本発明を説明する。
第1図はいわゆるシールカフを備えた本発明によるイン
キローラの横断図面である。
キローラの横断図面である。
第2図は本発明における薄壁シリンダ壁の拡大横断図面
である。
である。
第1図においてインキローラ1は、ローラ要素2、軸ジ
ャーナル3および軸4を有し、ローラ要素2上には空洞
パターンを備えた薄壁シリンダ5が設けてある。シール
カフは、ディスク6とシリンダ5の外表面に接続してい
るフランジ7から成る押圧部材を有し、押圧部材がロー
ラ要素2を構成する支持ローラと支持ローラに外嵌され
た薄壁シリンダ5との間からのインキの浸透を防ぐシー
ルリング8を押圧している。
ャーナル3および軸4を有し、ローラ要素2上には空洞
パターンを備えた薄壁シリンダ5が設けてある。シール
カフは、ディスク6とシリンダ5の外表面に接続してい
るフランジ7から成る押圧部材を有し、押圧部材がロー
ラ要素2を構成する支持ローラと支持ローラに外嵌され
た薄壁シリンダ5との間からのインキの浸透を防ぐシー
ルリング8を押圧している。
第2図は第1図に示す薄壁シリンダ5の壁を示し、シリ
ンダ5には上述の金属から成る密着層11が、そして密
着層11にはセラミックとフルオロカーボン重合体とを
含む膜12が形成されている。
ンダ5には上述の金属から成る密着層11が、そして密
着層11にはセラミックとフルオロカーボン重合体とを
含む膜12が形成されている。
Claims (12)
- 【請求項1】金属から成る密着層(11)と少なくとも
セラミックとフルオロカーボン重合体とを含む膜(1
2)をプラズマ溶射により設ける成膜製品の製造法にお
いて、成膜すべき可撓性製品(5)の表面に全体として
金属のみからなる密着層(11)を設け、つぎに、上記
セラミックとフルオロカーボン重合体とを含む膜(1
2)を形成すると共に、該金属密着層(11)は、プラ
ズマ溶射条件下で相互に発熱的に反応する少なくとも二
種類の金属を使用して形成されることを特徴とする成膜
製品の製造法。 - 【請求項2】密着層(11)がニッケル・チタン合金で
あることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の製造
法。 - 【請求項3】密着層(12)がニッケル・アルミニウム
合金であることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の
製造法。 - 【請求項4】分子比率Ni:TiおよびNi:Alが有
利にはそれぞれ30:70の間、70:30の間である
ことを特徴とする請求の範囲第2項または第3項に記載
の製造法。 - 【請求項5】セラミックとフルオロカーボン重合体とを
含む膜(12)のセラミック成分がアモルファス金属酸
化物、金属炭化物、金属窒化物および金属珪化物または
これらの混合物から選択されることを特徴とする請求の
範囲前各項の一つまたはそれ以上に記載の製造法。 - 【請求項6】成膜すべき製品(5)が厚さ10〜100
0μmの金属から成り、その上に、まず50モル%のN
iと50モル%のTiとから成り厚さ25〜500μm
のNi・Ti密着層(11)がプラズマ溶射によって形
成され、ついで形成される少なくともセラミックとフル
オロカーボン重合体とを含む膜(12)はセラミックと
フルオロカーボン重合体と金属との混合物から成る厚さ
75〜800μmの膜であり、該混合物中の金属は50
モル%のNiと50モル%のTiとのNi・Ti合金か
ら成り、セラミックは1〜80重量%のアモルファス二
酸化チタンと99〜20重量%のアモルファス酸化アル
ミニウムとから成り、上記Ni・Ti密着層(11)か
ら見た膜の厚さ方向における組成が85〜0%の金属か
ら10〜95%のセラミックまで変化し、常に少なくと
も5重量%のポリテトラフルオロエチレンが存在してい
ることを特徴とする請求項1に記載の製造法。 - 【請求項7】成膜すべき可撓性製品は壁厚50〜250
μmの薄壁をもつニッケル製の継ぎ目なしシリンダ
(5)であることを特徴とする請求の範囲第1項〜第6
項に記載の製造法。 - 【請求項8】全体として金属のみから成る金属密着層を
成膜すべき可撓性製品の表面と少なくともセラミックと
フルオロカーボン重合体とを含む膜との間に形成すると
共に、該金属密着層は、プラズマ溶射条件下で相互に発
熱的に反応する少なくとも二種類の金属を使用して形成
されることを特徴とする成膜製品の製造法を使用して得
られた薄壁成膜シリンダであって、上記セラミックとフ
ルオロカーボン重合体とを含む膜を形成したのち、この
膜にビーム処理によって所望の形状の空洞の表面パター
ンが形成されることを特徴とする薄壁成膜シリンダ。 - 【請求項9】請求の範囲第8項に記載の薄壁成膜シリン
ダには、インキ移転ローラとして使用できるよう剛性を
与える緊締手段と、シール手段とを設けたことを特徴と
するインキ移転ローラ。 - 【請求項10】上記シール手段は、少なくとも、緊締手
段である支持ローラ(2)と上記薄壁成膜シリンダ
(5)との間のインキの浸透を防ぐシール要素(8)
と、上記シール要素(8)に対する押圧部材とを有して
いることを特徴とする請求の範囲第9項に記載のインキ
移転ローラ。 - 【請求項11】上記押圧部材は、上記支持ローラの軸
(4)に固定されるディスク(6)と、該ディスク
(6)に垂直に嵌められ、かつ支持ローラ(2)を内側
に固定した薄壁成膜シリンダ(5)の外表面に接続した
フランジ(7)とから成り、薄壁成膜シリンダ(5)の
表面と該フランジ(7)との間には少なくとも一つの環
状シール要素(8)が設けてあることを特徴とする請求
の範囲第10項に記載のインキ移転ローラ。 - 【請求項12】シール要素(8)が少なくともその表面
上においてポリテトラフルオロエチレンからなることを
特徴とする請求の範囲第9項、第11項に記載のインキ
移転ローラ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8601119A NL8601119A (nl) | 1986-05-01 | 1986-05-01 | Werkwijze voor het vervaardigen van een bekleed voortbrengsel, onder toepassing van deze werkwijze verkregen dunwandige beklede cylinder, en een dergelijke cylinder omvattende inktoverdrachtswals. |
NL8601119 | 1986-05-01 | ||
PCT/NL1987/000009 WO1987006627A1 (en) | 1986-05-01 | 1987-05-04 | Process for the production of a coated product, thin-walled coated cylinder obtained by using said process, and an ink transfer roller comprising such a cylinder |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01500202A JPH01500202A (ja) | 1989-01-26 |
JPH0660420B2 true JPH0660420B2 (ja) | 1994-08-10 |
Family
ID=19847962
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62502788A Expired - Lifetime JPH0660420B2 (ja) | 1986-05-01 | 1987-05-04 | 成膜製品の製造法、この製造法を用いて得られた薄壁成膜したシリンダおよび該シリンダから成るインキ移転ロ−ラ |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4963404A (ja) |
EP (1) | EP0267225B1 (ja) |
JP (1) | JPH0660420B2 (ja) |
AT (1) | ATE60372T1 (ja) |
AU (1) | AU595322B2 (ja) |
DE (1) | DE3767657D1 (ja) |
NL (1) | NL8601119A (ja) |
WO (1) | WO1987006627A1 (ja) |
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US4912824A (en) * | 1989-03-14 | 1990-04-03 | Inta-Roto Gravure, Inc. | Engraved micro-ceramic-coated cylinder and coating process therefor |
JPH04261855A (ja) * | 1991-02-15 | 1992-09-17 | Tokyo Electric Co Ltd | オフセット印刷機 |
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-
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- 1987-05-04 JP JP62502788A patent/JPH0660420B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-04 DE DE8787902785T patent/DE3767657D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-05-04 EP EP87902785A patent/EP0267225B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-04 AU AU73512/87A patent/AU595322B2/en not_active Ceased
- 1987-05-04 AT AT87902785T patent/ATE60372T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-05-04 WO PCT/NL1987/000009 patent/WO1987006627A1/en active IP Right Grant
- 1987-05-04 US US07/148,214 patent/US4963404A/en not_active Expired - Fee Related
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---|---|
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