JPH065666B2 - ウェーハ熱処理用治具 - Google Patents
ウェーハ熱処理用治具Info
- Publication number
- JPH065666B2 JPH065666B2 JP28068987A JP28068987A JPH065666B2 JP H065666 B2 JPH065666 B2 JP H065666B2 JP 28068987 A JP28068987 A JP 28068987A JP 28068987 A JP28068987 A JP 28068987A JP H065666 B2 JPH065666 B2 JP H065666B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- lower plate
- heat treatment
- support
- shaped body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【発明の詳細な説明】 (1)発明の目的 ［産業上の利用分野］ 本発明は、ウェーハ熱処理用治具に関し、特にウェーハ
支持部の下部板状体の下面のうち下部板状体の下面中央
部と下部板状体の下面に対する複数のウェーハ支持柱体
の投影とをそれぞれ結ぶ放射線上あるいは下部板状体の
下面に対する複数のウェーハ支持柱体の投影のそれぞれ
少なくとも一部をテーブル部の複数の支持柱体によって
それぞれ支持せしめてなるウェーハ熱処理用治具に関す
るものである。 ［従来の技術］ 従来この種のウェーハ熱処理用治具としては、第５図お
よび第６図に示すように、ウェーハ支持部110に対する
支持を容易に安定化するために、テーブル部120の複数
の支持柱体123a,〜,123fのうち３本だけすなわち支持柱
体123a,123c,123eだけがウェーハ支持部110の下部板状
体121の下面に当接されており、かつその支持柱体123a,
123c,123eの当接位置が下部板状体121の下面に対する複
数のウェーハ支持柱体111の投影と下部板状体121の下面
の中央部すなわち位置決穴112aとをそれぞれ結ぶ放射線
上から離間しており、またその支持柱体123a,123c,123e
の当接位置が下部板状体121の下面に対する複数のウェ
ーハ支持柱体111の投影からそれぞれ離間してなるもの
が提案されていた。 ［解決すべき問題点］ しかしながら従来のウェーハ熱処理用治具では、縦型熱
処理炉の処理温度が900℃の温度をこえる温度まで上昇
すると、支持柱体123a,〜,123fの支持点が３つと少なく
かつウエーハ支持柱体111の投影位置すなわち最大荷重
位置およびその投影と下部板状体112の下面中央部とを
それぞれ結ぶ放射線から離間せしめられていたので、下
部板状体112がウェーハ支持部110の自荷重および半導体
ウェーハに伴なう荷重に相俟って熱変形してしまう欠点
があり、ひいては反復して使用できない欠点があった。 そこで本発明は、これらの欠点を解決すべく、ウェーハ
支持部の下部板状体の下面のうちその下面中央部とその
下面に対する複数のウェーハ支持柱体の投影とをそれぞ
れ結ぶ放射線上あるいはその投影の少なくとも一部をテ
ーブル部の複数の支持柱体によってそれぞれ支持せしめ
てなるウェーハ熱処理用治具を提供せんとするものであ
る。 (2)発明の構成 ［問題点の解決手段］ 本発明は上部板状体と下部板状体との間に配設された複
数のウェーハ支持柱体のスリット溝に対し半導体ウェー
ハが挿入載置されるウェーハ支持部を、前記下部板状体
の下面に対しテーブル部の複数の支持柱体の頭部を当接
せしめることにより支持してなるウェーハ熱処理用治具
において、前記下部板状体の下面中央部と下部板状体の
下面に対する前記複数のウエーハ支持柱体の投影とをそ
れぞれ結ぶ放射線上を前記テーブル部の複数の支持柱体
によってそれぞれ支持し、しかも、前記支持柱体が前記
下部板状体の下面に対する複数のウェーハ支持柱体の投
影に接触するか少なくとも一部オーバーラップした位置
を支持してなることを特徴とするウェーハ熱処理用治具
を要旨とする。 ［作用］ 本発明にかかるウェーハ熱処理用治具は、ウェーハ支持
部の下部板状体の下面のうちその下面中央部とその下面
に対する複数のウェーハ支持柱体の投影とをそれぞれ結
ぶ放射線上をテーブル部の複数の支持柱体によってそれ
ぞれ支持する作用をなし、下部板状体の下面に対する支
持点を増加せしめる作用ならびに最大荷重位置に接近し
た位置を支持する作用をなし、ひいては下部板状体が熱
変形することを抑制する作用ならびに反復使用を可能と
する作用をなす。 また、本発明にかかるウエーハ熱処理用治具は、ウェー
ハ支持部の下部板状体の下面に対する複数のウェーハ支
持柱体の投影に接触するか少なくとも一部オーバーラッ
プした位置をテーブル部の複数の支持柱体によってそれ
ぞれ支持する作用をなし、下部板状体の下面に対する支
持点を増加せしめる作用ならびに最大荷重位置に一層接
近した位置を支持する作用をなし、ひいては下部板状体
が熱変形することを一層抑制する作用ならびに反復使用
を可能とする作用をなす。 ［実施例］ 次に本発明について、添付図面を参照しつつ具体的に説
明する。 第１図は、本発明にかかるウェーハ熱処理用治具の一実
施例を示す正面図である。 第２図は、第１図実施例におけるII−II線にそった断面
図である。 第３図は、本発明にかかるウェーハ熱処理用治具の他の
実施例を示す正面図である。 第４図は、第３図実施例におけるIV−IV線にそった断面
図である。 まず第１図および第２図を参照しつつ、本発明にかかる
ウェーハ熱処理用治具の一実施例について、その構成を
詳細に説明する。10 は本発明のウェーハ熱処理用治具で、半導体ウェーハ
（図示せず）を熱処理するために石英もしくは炭化珪素
などで形成されたウェーハ支持部110と、ウェーハ支持
部110を支持しかつ縦型熱処理炉（図示せず）に対する
昇降部材（図示せず）に対して載置せしめるための石英
もしくは炭化珪素などで形成されたテーブル部120とを
包有している。 ウェーハ支持部110は、半導体ウェーハが水平方向に挿
入載置されるスリット溝111aがそれぞれ穿設された複数
（たとえば４本）のウェーハ支持柱体111と、複数のウ
ェーハ支持柱体111の下端部が結合された下部板状体112
と、複数のウェーハ支持柱体111の上端部が結合された
上部板状体113とを包有している。複数のウェーハ支持
柱体111と下部板状体112および上部板状体113との間の
結合は、たとえば溶接によればよい。 テーブル部120は、テーブル基板121と、テーブル基板12
1の中央部に植設されかつ下部板状体112の下面中央部に
形成された位置決穴112aに対し頭部が挿入される位置決
柱体122と、テーブル基板121の周囲部に適宜の間隔（た
とえば等角度）を隔てて植設された複数（たとえば６
本）の支持柱体123a,〜,123fと、テーブル基板121の下
方に配設された所望数の熱遮蔽板124と、熱遮蔽板124を
貫通しテーブル基板121を支持している少なくとも１本
の連結柱体125と、連結柱体125の下端部に配設されたテ
ーベル下板126と、テーブル下板126の中央部に形成され
た位置決孔127と、テーブル下板126の下面に配設された
複数（たとえば６本）の支持柱体128とを包有してい
る。支持柱体123a,〜,123fの頭部は、下部板状体112の
下面中央部と下部板状体112の下面に対する複数のウェ
ーハ支持柱体111の投影（すなわち最大荷重位置）とを
それぞれ結ぶ放射線Ｌ１，〜，Ｌ４上に対しそれぞれ当
接されている。 更に第１図および第２図を参照しつつ、本発明にかかる
ウェーハ熱処理用治具の一実施例について、その作用を
詳細に説明する。 昇降部材（図示せず）の上面に支持柱体128および位置
決孔127によって支持されたテーブル部120に対し、適宜
の支持部材（図示せず）によって把持されたウェーハ支
持部110を載置する（第１図参照）。すなわち下部板状
体112の下面に穿設された位置決穴112aに対し位置決柱
体122の頭部すなわち先端部が挿入され、かつ複数の支
持柱体123a,〜,123fの頭部すなわち先端部が下部板状体
112の下部中央部すなわち位置決穴112aと下部板状体112
の下面に対する複数のウェーハ支持柱体111の投影とを
それぞれ結ぶ放射線Ｌ１，〜，Ｌ４上に少なくとも位置
するようそれぞれ支持せしめる（第２図参照）。 これにより複数のウェーハ支持柱体111から下部板状体1
12に対して印加された荷重（すなわち複数のウェーハ支
持柱体111および上部板状体113の自荷重と複数のウェー
ハ支持柱体111のスリット溝111aに対して載置された半
導体ウェーハの荷重との和）が下部板状対112を介して
ほぼ鉛直方向に複数の支持柱体123a,〜,123dに対して印
加されており、かつ複数のウェーハ支持柱体111の形成
されていない下部板状体112の部分を支持柱体123eおよ
び123fによって支持することができる。 換言すれば下部板状体112に対して複数のウェーハ支持
柱体111および上部板状体113ないし半導体ウェーハによ
って与えられた荷重が、テーブル部120の複数の支持柱
体123a,〜,123fおよび位置決柱体122によってほぼ均等
に分担されており、かつ複数の支持柱体123a,〜,123fお
よび位置決柱体122の分担する荷重がそれぞれ軽減され
ているので、下部板状体112が縦型熱処理炉内に挿入さ
れて加熱されてもほとんど変形しない。 加えて第３図および第４図を参照しつつ、本発明にかか
るウェーハ熱処理用治具の他の実施例について、その構
成および作用を詳細に説明する。 第３図および第４図に示した実施例は、第１図および第
２図に示した実施例とほぼ同一の構成および作用を有し
ているので、説明を簡潔とするために、その相異する点
のみを説明する。 複数の支持柱体123a,〜,123fが、第１図および第２図に
示した実施例に比し、位置決柱体122に対して放射方向
に向け離間されており、ひいてはその頭部が下部板状体
112を介して複数のウェーハ支持柱体111の下面と少なく
とも一部で重なる（すなわち下部板状体112の下面に対
する複数のウェーハ支持柱体111の投影のそれぞれ少な
くとも一部を支持する）よう配慮されている（第４図参
照）。これにより複数の支持柱体123a,〜,123fのうちの
一部すなわち支持柱体123a,〜,123dが下部板状体112を
介して複数のウェーハ支持柱体111から与えられた荷重
を実質的にその直下で支持するようにでき、ひいては下
部板状体112の変形を第１図および第２図に示した実施
例に比し更に抑制することができる。 その他の参照番号については、第１図および第２図に示
した実施例の説明と重複するので、省略する。 なお第３図および第４図の実施例にあっては、複数の支
持柱体123a,〜,123dが、下部板状体112を介してウェー
ハ支持柱体111から与えられた荷重を実質的にその直下
で支持している限り、換言すれば下部板状体112の下面
に対する複数のウェーハ支持柱体111の投影の一部に対
応し重なる位置で下部板状体112の下面をそれぞれ支持
する限り、下部板状体112の下面中央部すなわち位置決
穴112aと下部板状体112の下面に対する複数のウエーハ
支持柱体111の投影とをそれぞれ結ぶ放射線Ｌ１，〜，
Ｌ４上からそれぞれ若干円周方向へ回転した位置へ移動
してもよい。 加えて本発明にかかるウェーハ熱処理用治具の特徴を、
一層十分に理解できるよう具体的な数値を挙げて説明す
る。 （実施例１） 第１図および第２図に示した実施例において、ウェーハ
熱処理用治具10のウェーハ支持部110が、ウェーハ支持
柱体111の直径を12mmとし、下部板状体112および上部板
状体113の厚さを6mmとし、下部板状体112の下面から上
部板状体113の上面までの距離（すなわちウェーハ支持
部110の高さ）を150mmとし、更にウェーハ支持柱体111
の中心を位置決穴112aを中心とした半径７８mmの円周上
に配置することにより、石英によって形成された。 ウェーハ熱処理用治具10のテーブル部120が、位置決柱
体122の直径を16mmとし、かつ支持柱体123a,〜,123fの
直径を14mmとし、更に支持柱体123aの中心を位置決柱体
122を中心とした半径65mmの円周上に配置することによ
り、石英によって形成された。 このウェーハ熱処理用治具10を、半導体ウェーハを２kg
だけ挿入載置したのち、縦型熱処理炉に対して挿入し、
室温から1125℃の温度まで３時間かけて昇温し、その11
25℃の温度に22時間にわたり保持し、そののち1125℃の
温度から室温まで７時間かけて降温した。 このとき、下部板状体112の下面の上方へのそりは、0.3
4mmであった。 （実施例２） 下部板状体112の厚みを10mmとしたことを除き、実施例
１が反復された。 このとき、下部板状体112の上方へのそりは、0.2mmであ
った。 （実施例３） 支持柱体１２３ａ、〜、１２３ｆの中心を位置決め穴１
１２ａを中心とした半径７３ｍｍの円周上に配置せしめ
たことを除き、実施例１が反復された。 このとき、下部板状体112の上方へのそりは、0.32mmで
あった。 （実施例４） 下部板状体112の肉厚を10mmとしたことを除き、実施例
３が反復された。 このとき、下部板状体112の上方へのそりは、0.2mmであ
った。 （比較例） 第５図および第６図に示すように、テーブル部の支持柱
体が120度の角度間隔でかつ下部板状体の下面に対する
ウェーハ支持柱体の投影の中間位置に相当する位置する
支持していたところ、下部板状体の上方へのそりは、２
mmであった。 (3)発明の効果 上述より明らかなように、本発明にかかるウェーハ熱処
理治具は、下部板状体の下面中央部と下部板状体の下面
に対する前記複数のウェーハ支持柱体の投影とをそれぞ
れ結ぶ放射線上を前記テーブル部の複数の支持柱体によ
ってそれぞれ支持しているので、 （ｉ）下部板状体の下面に対する支持点を増加せしめる
ことができる効果 ならびに （ｉｉ）下部板状体の下面のうち最大荷重位置に接近し
た位置を支持できる効果 を有し、ひいては （ｉｉｉ）熱処理温度が高温となっても下部板状体の熱
変形を抑制することができる効果 を有し、結果的に （ｉｖ）反復作用を可能とできる効果 を有する。 さらに、本発明にかかるウェーハ熱処理用治具には、下
部板状体の下面に対する複数のウェーハ支持柱体の投影
に接触するか少なくとも一部オーバーラップした位置を
前記テーブル部の複数の支持柱体によってそれぞれ支持
しているので、上記（ｉ）〜（ｉｖ）の効果のうち特に
（ｉｉ）の効果を増進でき、ひいては（ｉｉｉ）及び
（ｉｖ）の効果を一層改善できる。
支持部の下部板状体の下面のうち下部板状体の下面中央
部と下部板状体の下面に対する複数のウェーハ支持柱体
の投影とをそれぞれ結ぶ放射線上あるいは下部板状体の
下面に対する複数のウェーハ支持柱体の投影のそれぞれ
少なくとも一部をテーブル部の複数の支持柱体によって
それぞれ支持せしめてなるウェーハ熱処理用治具に関す
るものである。 ［従来の技術］ 従来この種のウェーハ熱処理用治具としては、第５図お
よび第６図に示すように、ウェーハ支持部110に対する
支持を容易に安定化するために、テーブル部120の複数
の支持柱体123a,〜,123fのうち３本だけすなわち支持柱
体123a,123c,123eだけがウェーハ支持部110の下部板状
体121の下面に当接されており、かつその支持柱体123a,
123c,123eの当接位置が下部板状体121の下面に対する複
数のウェーハ支持柱体111の投影と下部板状体121の下面
の中央部すなわち位置決穴112aとをそれぞれ結ぶ放射線
上から離間しており、またその支持柱体123a,123c,123e
の当接位置が下部板状体121の下面に対する複数のウェ
ーハ支持柱体111の投影からそれぞれ離間してなるもの
が提案されていた。 ［解決すべき問題点］ しかしながら従来のウェーハ熱処理用治具では、縦型熱
処理炉の処理温度が900℃の温度をこえる温度まで上昇
すると、支持柱体123a,〜,123fの支持点が３つと少なく
かつウエーハ支持柱体111の投影位置すなわち最大荷重
位置およびその投影と下部板状体112の下面中央部とを
それぞれ結ぶ放射線から離間せしめられていたので、下
部板状体112がウェーハ支持部110の自荷重および半導体
ウェーハに伴なう荷重に相俟って熱変形してしまう欠点
があり、ひいては反復して使用できない欠点があった。 そこで本発明は、これらの欠点を解決すべく、ウェーハ
支持部の下部板状体の下面のうちその下面中央部とその
下面に対する複数のウェーハ支持柱体の投影とをそれぞ
れ結ぶ放射線上あるいはその投影の少なくとも一部をテ
ーブル部の複数の支持柱体によってそれぞれ支持せしめ
てなるウェーハ熱処理用治具を提供せんとするものであ
る。 (2)発明の構成 ［問題点の解決手段］ 本発明は上部板状体と下部板状体との間に配設された複
数のウェーハ支持柱体のスリット溝に対し半導体ウェー
ハが挿入載置されるウェーハ支持部を、前記下部板状体
の下面に対しテーブル部の複数の支持柱体の頭部を当接
せしめることにより支持してなるウェーハ熱処理用治具
において、前記下部板状体の下面中央部と下部板状体の
下面に対する前記複数のウエーハ支持柱体の投影とをそ
れぞれ結ぶ放射線上を前記テーブル部の複数の支持柱体
によってそれぞれ支持し、しかも、前記支持柱体が前記
下部板状体の下面に対する複数のウェーハ支持柱体の投
影に接触するか少なくとも一部オーバーラップした位置
を支持してなることを特徴とするウェーハ熱処理用治具
を要旨とする。 ［作用］ 本発明にかかるウェーハ熱処理用治具は、ウェーハ支持
部の下部板状体の下面のうちその下面中央部とその下面
に対する複数のウェーハ支持柱体の投影とをそれぞれ結
ぶ放射線上をテーブル部の複数の支持柱体によってそれ
ぞれ支持する作用をなし、下部板状体の下面に対する支
持点を増加せしめる作用ならびに最大荷重位置に接近し
た位置を支持する作用をなし、ひいては下部板状体が熱
変形することを抑制する作用ならびに反復使用を可能と
する作用をなす。 また、本発明にかかるウエーハ熱処理用治具は、ウェー
ハ支持部の下部板状体の下面に対する複数のウェーハ支
持柱体の投影に接触するか少なくとも一部オーバーラッ
プした位置をテーブル部の複数の支持柱体によってそれ
ぞれ支持する作用をなし、下部板状体の下面に対する支
持点を増加せしめる作用ならびに最大荷重位置に一層接
近した位置を支持する作用をなし、ひいては下部板状体
が熱変形することを一層抑制する作用ならびに反復使用
を可能とする作用をなす。 ［実施例］ 次に本発明について、添付図面を参照しつつ具体的に説
明する。 第１図は、本発明にかかるウェーハ熱処理用治具の一実
施例を示す正面図である。 第２図は、第１図実施例におけるII−II線にそった断面
図である。 第３図は、本発明にかかるウェーハ熱処理用治具の他の
実施例を示す正面図である。 第４図は、第３図実施例におけるIV−IV線にそった断面
図である。 まず第１図および第２図を参照しつつ、本発明にかかる
ウェーハ熱処理用治具の一実施例について、その構成を
詳細に説明する。10 は本発明のウェーハ熱処理用治具で、半導体ウェーハ
（図示せず）を熱処理するために石英もしくは炭化珪素
などで形成されたウェーハ支持部110と、ウェーハ支持
部110を支持しかつ縦型熱処理炉（図示せず）に対する
昇降部材（図示せず）に対して載置せしめるための石英
もしくは炭化珪素などで形成されたテーブル部120とを
包有している。 ウェーハ支持部110は、半導体ウェーハが水平方向に挿
入載置されるスリット溝111aがそれぞれ穿設された複数
（たとえば４本）のウェーハ支持柱体111と、複数のウ
ェーハ支持柱体111の下端部が結合された下部板状体112
と、複数のウェーハ支持柱体111の上端部が結合された
上部板状体113とを包有している。複数のウェーハ支持
柱体111と下部板状体112および上部板状体113との間の
結合は、たとえば溶接によればよい。 テーブル部120は、テーブル基板121と、テーブル基板12
1の中央部に植設されかつ下部板状体112の下面中央部に
形成された位置決穴112aに対し頭部が挿入される位置決
柱体122と、テーブル基板121の周囲部に適宜の間隔（た
とえば等角度）を隔てて植設された複数（たとえば６
本）の支持柱体123a,〜,123fと、テーブル基板121の下
方に配設された所望数の熱遮蔽板124と、熱遮蔽板124を
貫通しテーブル基板121を支持している少なくとも１本
の連結柱体125と、連結柱体125の下端部に配設されたテ
ーベル下板126と、テーブル下板126の中央部に形成され
た位置決孔127と、テーブル下板126の下面に配設された
複数（たとえば６本）の支持柱体128とを包有してい
る。支持柱体123a,〜,123fの頭部は、下部板状体112の
下面中央部と下部板状体112の下面に対する複数のウェ
ーハ支持柱体111の投影（すなわち最大荷重位置）とを
それぞれ結ぶ放射線Ｌ１，〜，Ｌ４上に対しそれぞれ当
接されている。 更に第１図および第２図を参照しつつ、本発明にかかる
ウェーハ熱処理用治具の一実施例について、その作用を
詳細に説明する。 昇降部材（図示せず）の上面に支持柱体128および位置
決孔127によって支持されたテーブル部120に対し、適宜
の支持部材（図示せず）によって把持されたウェーハ支
持部110を載置する（第１図参照）。すなわち下部板状
体112の下面に穿設された位置決穴112aに対し位置決柱
体122の頭部すなわち先端部が挿入され、かつ複数の支
持柱体123a,〜,123fの頭部すなわち先端部が下部板状体
112の下部中央部すなわち位置決穴112aと下部板状体112
の下面に対する複数のウェーハ支持柱体111の投影とを
それぞれ結ぶ放射線Ｌ１，〜，Ｌ４上に少なくとも位置
するようそれぞれ支持せしめる（第２図参照）。 これにより複数のウェーハ支持柱体111から下部板状体1
12に対して印加された荷重（すなわち複数のウェーハ支
持柱体111および上部板状体113の自荷重と複数のウェー
ハ支持柱体111のスリット溝111aに対して載置された半
導体ウェーハの荷重との和）が下部板状対112を介して
ほぼ鉛直方向に複数の支持柱体123a,〜,123dに対して印
加されており、かつ複数のウェーハ支持柱体111の形成
されていない下部板状体112の部分を支持柱体123eおよ
び123fによって支持することができる。 換言すれば下部板状体112に対して複数のウェーハ支持
柱体111および上部板状体113ないし半導体ウェーハによ
って与えられた荷重が、テーブル部120の複数の支持柱
体123a,〜,123fおよび位置決柱体122によってほぼ均等
に分担されており、かつ複数の支持柱体123a,〜,123fお
よび位置決柱体122の分担する荷重がそれぞれ軽減され
ているので、下部板状体112が縦型熱処理炉内に挿入さ
れて加熱されてもほとんど変形しない。 加えて第３図および第４図を参照しつつ、本発明にかか
るウェーハ熱処理用治具の他の実施例について、その構
成および作用を詳細に説明する。 第３図および第４図に示した実施例は、第１図および第
２図に示した実施例とほぼ同一の構成および作用を有し
ているので、説明を簡潔とするために、その相異する点
のみを説明する。 複数の支持柱体123a,〜,123fが、第１図および第２図に
示した実施例に比し、位置決柱体122に対して放射方向
に向け離間されており、ひいてはその頭部が下部板状体
112を介して複数のウェーハ支持柱体111の下面と少なく
とも一部で重なる（すなわち下部板状体112の下面に対
する複数のウェーハ支持柱体111の投影のそれぞれ少な
くとも一部を支持する）よう配慮されている（第４図参
照）。これにより複数の支持柱体123a,〜,123fのうちの
一部すなわち支持柱体123a,〜,123dが下部板状体112を
介して複数のウェーハ支持柱体111から与えられた荷重
を実質的にその直下で支持するようにでき、ひいては下
部板状体112の変形を第１図および第２図に示した実施
例に比し更に抑制することができる。 その他の参照番号については、第１図および第２図に示
した実施例の説明と重複するので、省略する。 なお第３図および第４図の実施例にあっては、複数の支
持柱体123a,〜,123dが、下部板状体112を介してウェー
ハ支持柱体111から与えられた荷重を実質的にその直下
で支持している限り、換言すれば下部板状体112の下面
に対する複数のウェーハ支持柱体111の投影の一部に対
応し重なる位置で下部板状体112の下面をそれぞれ支持
する限り、下部板状体112の下面中央部すなわち位置決
穴112aと下部板状体112の下面に対する複数のウエーハ
支持柱体111の投影とをそれぞれ結ぶ放射線Ｌ１，〜，
Ｌ４上からそれぞれ若干円周方向へ回転した位置へ移動
してもよい。 加えて本発明にかかるウェーハ熱処理用治具の特徴を、
一層十分に理解できるよう具体的な数値を挙げて説明す
る。 （実施例１） 第１図および第２図に示した実施例において、ウェーハ
熱処理用治具10のウェーハ支持部110が、ウェーハ支持
柱体111の直径を12mmとし、下部板状体112および上部板
状体113の厚さを6mmとし、下部板状体112の下面から上
部板状体113の上面までの距離（すなわちウェーハ支持
部110の高さ）を150mmとし、更にウェーハ支持柱体111
の中心を位置決穴112aを中心とした半径７８mmの円周上
に配置することにより、石英によって形成された。 ウェーハ熱処理用治具10のテーブル部120が、位置決柱
体122の直径を16mmとし、かつ支持柱体123a,〜,123fの
直径を14mmとし、更に支持柱体123aの中心を位置決柱体
122を中心とした半径65mmの円周上に配置することによ
り、石英によって形成された。 このウェーハ熱処理用治具10を、半導体ウェーハを２kg
だけ挿入載置したのち、縦型熱処理炉に対して挿入し、
室温から1125℃の温度まで３時間かけて昇温し、その11
25℃の温度に22時間にわたり保持し、そののち1125℃の
温度から室温まで７時間かけて降温した。 このとき、下部板状体112の下面の上方へのそりは、0.3
4mmであった。 （実施例２） 下部板状体112の厚みを10mmとしたことを除き、実施例
１が反復された。 このとき、下部板状体112の上方へのそりは、0.2mmであ
った。 （実施例３） 支持柱体１２３ａ、〜、１２３ｆの中心を位置決め穴１
１２ａを中心とした半径７３ｍｍの円周上に配置せしめ
たことを除き、実施例１が反復された。 このとき、下部板状体112の上方へのそりは、0.32mmで
あった。 （実施例４） 下部板状体112の肉厚を10mmとしたことを除き、実施例
３が反復された。 このとき、下部板状体112の上方へのそりは、0.2mmであ
った。 （比較例） 第５図および第６図に示すように、テーブル部の支持柱
体が120度の角度間隔でかつ下部板状体の下面に対する
ウェーハ支持柱体の投影の中間位置に相当する位置する
支持していたところ、下部板状体の上方へのそりは、２
mmであった。 (3)発明の効果 上述より明らかなように、本発明にかかるウェーハ熱処
理治具は、下部板状体の下面中央部と下部板状体の下面
に対する前記複数のウェーハ支持柱体の投影とをそれぞ
れ結ぶ放射線上を前記テーブル部の複数の支持柱体によ
ってそれぞれ支持しているので、 （ｉ）下部板状体の下面に対する支持点を増加せしめる
ことができる効果 ならびに （ｉｉ）下部板状体の下面のうち最大荷重位置に接近し
た位置を支持できる効果 を有し、ひいては （ｉｉｉ）熱処理温度が高温となっても下部板状体の熱
変形を抑制することができる効果 を有し、結果的に （ｉｖ）反復作用を可能とできる効果 を有する。 さらに、本発明にかかるウェーハ熱処理用治具には、下
部板状体の下面に対する複数のウェーハ支持柱体の投影
に接触するか少なくとも一部オーバーラップした位置を
前記テーブル部の複数の支持柱体によってそれぞれ支持
しているので、上記（ｉ）〜（ｉｖ）の効果のうち特に
（ｉｉ）の効果を増進でき、ひいては（ｉｉｉ）及び
（ｉｖ）の効果を一層改善できる。
第１図は本発明にかかるウェーハ熱処理用治具の一実施
例を示す正面図、第２図は同II−II線にそった断面図、
第３図は本発明にかかるウェーハ熱処理用治具の他の実
施例を示す正面図、第４図は同IV−IV線にそった断面
図、第５図は従来例を示す正面図、第６図は同VI−VI線
にそった断面図である。10…… ウェーハ熱処理用治具 110……ウェーハ支持部 111……支持柱体 111a……スリット溝 112……下部板状体 112a……位置決穴 113……上部板状体 120……テーブル部 121……テーブル基板 122……位置決柱体 123a,〜,123f……支持柱体 124……熱遮蔽板 125……連結柱体 126……テーブル下板 127……位置決孔 128……支持柱体
例を示す正面図、第２図は同II−II線にそった断面図、
第３図は本発明にかかるウェーハ熱処理用治具の他の実
施例を示す正面図、第４図は同IV−IV線にそった断面
図、第５図は従来例を示す正面図、第６図は同VI−VI線
にそった断面図である。10…… ウェーハ熱処理用治具 110……ウェーハ支持部 111……支持柱体 111a……スリット溝 112……下部板状体 112a……位置決穴 113……上部板状体 120……テーブル部 121……テーブル基板 122……位置決柱体 123a,〜,123f……支持柱体 124……熱遮蔽板 125……連結柱体 126……テーブル下板 127……位置決孔 128……支持柱体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池亀 良雄 山形県西置賜郡小国町大字小国町378 東 芝セラミックス株式会社小国製造所内 (72)発明者 小田 宗隆 千葉県千葉市川崎町１番地 川崎製鉄株式 会社技術研究本部内 (72)発明者 佐藤 伸良 千葉県千葉市川崎町１番地 川崎製鉄株式 会社技術研究本部内
Claims (1)
- 【請求項１】上部板状体と下部板状体との間に配設され
た複数のウェーハ支持柱体のスリット溝に対し半導体ウ
ェーハが挿入載置されるウェーハ支持部を、前記下部板
状体の下面に対しテーブル部の複数の支持柱体の頭部を
当接せしめることにより支持してなるウェーハ熱処理用
治具において、前記下部板状体の下面中央部と前記下部
板状体の下面に対する前記複数のウェーハ支持柱体の投
影とをそれぞれ結ぶ放射線上を前記テーブル部の複数の
支持柱体によってそれぞれ支持し、しかも、前記支持柱
体が前記下部板状体の下面に対する複数のウェーハ支持
柱体の投影に接触するか少なくとも一部オーバーラップ
した位置を支持してなることを特徴とするウェーハ熱処
理用治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28068987A JPH065666B2 (ja) | 1987-11-06 | 1987-11-06 | ウェーハ熱処理用治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28068987A JPH065666B2 (ja) | 1987-11-06 | 1987-11-06 | ウェーハ熱処理用治具 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01123415A JPH01123415A (ja) | 1989-05-16 |
| JPH065666B2 true JPH065666B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=17628568
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28068987A Expired - Lifetime JPH065666B2 (ja) | 1987-11-06 | 1987-11-06 | ウェーハ熱処理用治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH065666B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6505001B2 (ja) * | 2015-11-18 | 2019-04-24 | 東京エレクトロン株式会社 | ウエハボート支持台及びこれを用いた熱処理装置 |
-
1987
- 1987-11-06 JP JP28068987A patent/JPH065666B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01123415A (ja) | 1989-05-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH065666B2 (ja) | ウェーハ熱処理用治具 | |
| JP3388668B2 (ja) | 熱処理用ボ−ト及び縦型熱処理装置 | |
| JPS61247048A (ja) | 縦型拡散炉用ボ−ト | |
| JPH0213453Y2 (ja) | ||
| JPS61267317A (ja) | 縦型拡散炉用ボ−ト | |
| JPH0519952Y2 (ja) | ||
| JPH10270369A (ja) | ウェハ支持体及び縦型ボート | |
| JPH04304652A (ja) | 熱処理装置用ボート | |
| JPS62128633U (ja) | ||
| JPH01145807A (ja) | ウェーハ熱処理用治具 | |
| JP2552094B2 (ja) | 縦型熱処理炉用ボート | |
| JPH06349758A (ja) | 縦型半導体製造装置用ボート | |
| JP2615081B2 (ja) | 縦型熱処理炉 | |
| JP2594717Y2 (ja) | ウェーハ保持装置 | |
| JPH11130181A (ja) | ウエハー積載用ボート | |
| KR100462732B1 (ko) | 더미 웨이퍼 및 더미 웨이퍼를 사용한 열처리 방법 | |
| JPH028620Y2 (ja) | ||
| JPH0625830Y2 (ja) | 焼成用台車の棚組 | |
| JPH0119429Y2 (ja) | ||
| JPH0595040A (ja) | シリコンウエーハの支持治具 | |
| JPH10289882A (ja) | ウェハ載置用縦型ボート | |
| JPH06151347A (ja) | 縦型熱処理炉用ボート | |
| JPH1140659A (ja) | 半導体ウエハの熱処理用縦型ボート | |
| JPH10141867A (ja) | 熱処理治具 | |
| JPH10335434A (ja) | ウェーハ保持具 |