JP2615081B2 - 縦型熱処理炉 - Google Patents
縦型熱処理炉Info
- Publication number
- JP2615081B2 JP2615081B2 JP62264193A JP26419387A JP2615081B2 JP 2615081 B2 JP2615081 B2 JP 2615081B2 JP 62264193 A JP62264193 A JP 62264193A JP 26419387 A JP26419387 A JP 26419387A JP 2615081 B2 JP2615081 B2 JP 2615081B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction tube
- manifold
- furnace
- tube
- heat treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、半導体ウエハの拡散、CVD等に用いられる
縦型熱処理炉に関する。
縦型熱処理炉に関する。
（従来の技術） 従来、拡散炉などの縦型の熱処理炉は、第２図に示す
ように、石英製の外側反応管２と内側反応管３をフラン
ジ押え4,アウターマニホールド５およびインナーマニホ
ールド６を介してベース７に同心状に固定し、外側反応
管２の外周にヒータ８を配設して炉本体１を構成してい
る。
ように、石英製の外側反応管２と内側反応管３をフラン
ジ押え4,アウターマニホールド５およびインナーマニホ
ールド６を介してベース７に同心状に固定し、外側反応
管２の外周にヒータ８を配設して炉本体１を構成してい
る。
そして、炉本体１の下方には支持部材としての炉蓋９
が設けられ、この炉蓋９の上面中央に多数の半導体ウエ
ハ10を一定間隔で保持した石英ボート11を保持温筒12を
介して設置し、図示しない昇降装置により炉蓋９を上昇
させて石英ボート11を炉本体１の内部に搬入し、外側反
応管２および内側反応管３をヒータ８で加熱するととも
に、図示しない回転装置により石英ボート11を矢印で示
す如く一定速度で回転させて半導体ウエハ10に熱処理を
施すようになっている。なお、図中13,14,15は外側反応
管２および内側反応管３の内部を気密に保持するための
Ｏリングで、アウターマニホールド5,インナーマニホー
ルド６および炉蓋９の上面に形成されたリング状の溝内
にそれぞれ収容されている。
が設けられ、この炉蓋９の上面中央に多数の半導体ウエ
ハ10を一定間隔で保持した石英ボート11を保持温筒12を
介して設置し、図示しない昇降装置により炉蓋９を上昇
させて石英ボート11を炉本体１の内部に搬入し、外側反
応管２および内側反応管３をヒータ８で加熱するととも
に、図示しない回転装置により石英ボート11を矢印で示
す如く一定速度で回転させて半導体ウエハ10に熱処理を
施すようになっている。なお、図中13,14,15は外側反応
管２および内側反応管３の内部を気密に保持するための
Ｏリングで、アウターマニホールド5,インナーマニホー
ルド６および炉蓋９の上面に形成されたリング状の溝内
にそれぞれ収容されている。
（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、従来の縦型の熱処理炉は、炉本体１を
組立てる場合には、まず、外側反応管２を垂直に支持し
たアウターマニホールド５をベース７に固定されたフラ
ンジ押さえ４の下面に接合し、次に外側反応管３を垂直
に支持したインナーマニホールド６をアウターマニホー
ルド５の下面に接合して炉本体１の組立てを行うが、組
立て時に外側反応管２の管軸と内側反応管３の管軸とが
ずれることがあり、このような状態で熱処理を行うと、
炉内の温度分布が不均一となり、半導体ウエハ10の表面
に形成される成膜の厚さにムラが生じるという欠点があ
った。
組立てる場合には、まず、外側反応管２を垂直に支持し
たアウターマニホールド５をベース７に固定されたフラ
ンジ押さえ４の下面に接合し、次に外側反応管３を垂直
に支持したインナーマニホールド６をアウターマニホー
ルド５の下面に接合して炉本体１の組立てを行うが、組
立て時に外側反応管２の管軸と内側反応管３の管軸とが
ずれることがあり、このような状態で熱処理を行うと、
炉内の温度分布が不均一となり、半導体ウエハ10の表面
に形成される成膜の厚さにムラが生じるという欠点があ
った。
また、メンテナンス時には外側反応管２から内側反応
管３を抜き取って分解し、再び組立てる作業となるが、
前述のように、組立て時に外側反応管２の管軸と内側反
応管３の管軸との軸心合わせが困難で、メンテナンスに
多くの時間を費やしている。
管３を抜き取って分解し、再び組立てる作業となるが、
前述のように、組立て時に外側反応管２の管軸と内側反
応管３の管軸との軸心合わせが困難で、メンテナンスに
多くの時間を費やしている。
本発明は、前記事情に着目してなされたもので、その
目的とするところは、外側反応管と内側反応管とを容易
かつ高精度に同心的に組立てることができ、炉内の温度
分布を均一に保つことができ、またメンテナンスを容易
に行うことができる縦型熱処理炉を提供することにあ
る。
目的とするところは、外側反応管と内側反応管とを容易
かつ高精度に同心的に組立てることができ、炉内の温度
分布を均一に保つことができ、またメンテナンスを容易
に行うことができる縦型熱処理炉を提供することにあ
る。
（問題点を解決するための手段） 本発明は、前記目的を達成するために、外側反応管と
内側反応管とを同心状にほぼ垂直に配置し、前記外側反
応管の周囲にヒータを配設してなる縦型熱処理炉におい
て、前記外側反応管および内側反応管の管軸を中心軸と
する円錐状のテーパ接合面を有するベースと、前記外側
反応管に設けられ外周面に前記ベースのテーパ接合面に
対接接合するテーパ部を有し、内周面に前記外側反応管
および内側反応管の管軸を中心軸とする円錐状のテーパ
接合面を有するアウターマニホールドと、前記内側反応
管に設けられ外周面に前記アウターマニホールドのテー
パ接合面に対接接合するテーパ部を有するインナーマニ
ホールドとを具備したことを特徴とする。
内側反応管とを同心状にほぼ垂直に配置し、前記外側反
応管の周囲にヒータを配設してなる縦型熱処理炉におい
て、前記外側反応管および内側反応管の管軸を中心軸と
する円錐状のテーパ接合面を有するベースと、前記外側
反応管に設けられ外周面に前記ベースのテーパ接合面に
対接接合するテーパ部を有し、内周面に前記外側反応管
および内側反応管の管軸を中心軸とする円錐状のテーパ
接合面を有するアウターマニホールドと、前記内側反応
管に設けられ外周面に前記アウターマニホールドのテー
パ接合面に対接接合するテーパ部を有するインナーマニ
ホールドとを具備したことを特徴とする。
（作用） 炉本体を組立てる場合には、まず、外側反応管を垂直
に支持したアウターマニホルールドのテーパ部をベース
のテーパ接合面に対接接合し、次に内側反応管を垂直に
支持したインナーマニホールドのテーパ部をアウターマ
ニホールドのテーパ接合面に対接接合することにより、
外側反応管に対して内側反応管が相互のテーパによって
自然と同心的に位置決めされ、外側反応管と内側反応管
とを同心的に組立てることができる。
に支持したアウターマニホルールドのテーパ部をベース
のテーパ接合面に対接接合し、次に内側反応管を垂直に
支持したインナーマニホールドのテーパ部をアウターマ
ニホールドのテーパ接合面に対接接合することにより、
外側反応管に対して内側反応管が相互のテーパによって
自然と同心的に位置決めされ、外側反応管と内側反応管
とを同心的に組立てることができる。
（実施例） 以下、本発明の第１の実施例を第１図を参照して説明
する。
する。
炉本体21は、石英製の外側反応管22と内側反応管23を
ベース27に設けられたフランジ押え24、石英製のアウタ
ーマニホールド25およびインナーマニホールド26を介し
てベース27に同心状に固定し、外側反応管22の外周にヒ
ータ28を配設して構成されている。前記炉本体21の下方
には炉蓋29が設けられ、この炉蓋29の上面中央に多数の
半導体ウエハ30を一定間隔で保持した石英ボート31を保
温筒32を介して設置し、図示しない昇降装置により炉蓋
29を上昇させて石英ボート31を炉本体21の内部に搬入
し、外側反応管22および内側反応管23をヒータ28で加熱
するとともに、図示しない回転装置により石英ボート31
を矢印で示す如く一定速度で回転させて半導体ウエハ30
に熱処理を施すようになっている。
ベース27に設けられたフランジ押え24、石英製のアウタ
ーマニホールド25およびインナーマニホールド26を介し
てベース27に同心状に固定し、外側反応管22の外周にヒ
ータ28を配設して構成されている。前記炉本体21の下方
には炉蓋29が設けられ、この炉蓋29の上面中央に多数の
半導体ウエハ30を一定間隔で保持した石英ボート31を保
温筒32を介して設置し、図示しない昇降装置により炉蓋
29を上昇させて石英ボート31を炉本体21の内部に搬入
し、外側反応管22および内側反応管23をヒータ28で加熱
するとともに、図示しない回転装置により石英ボート31
を矢印で示す如く一定速度で回転させて半導体ウエハ30
に熱処理を施すようになっている。
また、図中33,34,35は外側反応管22および内側反応管
23の内部を気密に保持するためのＯリングで、これらの
Ｏリング33〜35はそれぞれアウターマニホールド25、イ
ンナーマニホールド26および炉蓋29の上面に形成された
Ｏリング溝に嵌め込まれている。前記フランジ押え24と
アウターマニホールド25、アウターマニホールド25とイ
ンナーマニホールド26およびインナーマニホールド26と
炉蓋29との各接合部には、外側反応管22および内側反応
管23の管軸CLを中心軸とする円錐状のテーパ部36,37,38
が設けられている。
23の内部を気密に保持するためのＯリングで、これらの
Ｏリング33〜35はそれぞれアウターマニホールド25、イ
ンナーマニホールド26および炉蓋29の上面に形成された
Ｏリング溝に嵌め込まれている。前記フランジ押え24と
アウターマニホールド25、アウターマニホールド25とイ
ンナーマニホールド26およびインナーマニホールド26と
炉蓋29との各接合部には、外側反応管22および内側反応
管23の管軸CLを中心軸とする円錐状のテーパ部36,37,38
が設けられている。
そして、アウターマニホールド25のテーパ部36はフラ
ンジ押え24に形成された円錐状のテーパ接合面に対接接
合し、インナーマニホールド26のテーパ部37はアウター
マニホールド25の内側に形成された円錐状のテーパ接合
面に対接接合し、さらに炉蓋29のテーパ部38はインナー
マニホールド26の内側に形成されたテーパ接合面に対接
接合し、接合部は密着状態に接合している。
ンジ押え24に形成された円錐状のテーパ接合面に対接接
合し、インナーマニホールド26のテーパ部37はアウター
マニホールド25の内側に形成された円錐状のテーパ接合
面に対接接合し、さらに炉蓋29のテーパ部38はインナー
マニホールド26の内側に形成されたテーパ接合面に対接
接合し、接合部は密着状態に接合している。
前記のような構成において炉本体21を組立てる場合
は、まず外側反応管22を垂直に支持したアウターマニホ
ールド25をベース27に固定されたフランジ押え24の下面
に対接接合し、次に内側反応管23を垂直に支持したイン
ナーマニホールド26をアウターマニホールド25の下面に
対接接合する。このとき、アウターマニホールド25のテ
ーパ部36はフランジ押え24に形成された円錐状のテーパ
接合面に対接接合して密着状態に接合される。
は、まず外側反応管22を垂直に支持したアウターマニホ
ールド25をベース27に固定されたフランジ押え24の下面
に対接接合し、次に内側反応管23を垂直に支持したイン
ナーマニホールド26をアウターマニホールド25の下面に
対接接合する。このとき、アウターマニホールド25のテ
ーパ部36はフランジ押え24に形成された円錐状のテーパ
接合面に対接接合して密着状態に接合される。
次に、アウターマニホールド25にインナーマニホール
ド26を挿入し、インナーマニホールド26のテーパ部37を
アウターマニホールド25の内側に形成された円錐状のテ
ーパ接合面に対接接合することにより、相互のテーパに
よって外側反応管22と内側反応管23が自然と同心的に位
置決めされる。次に、炉蓋29のテーパ部38をインナーマ
ニホールド26の内側に形成されたテーパ接合面に対接接
合することにより、インナーマニホールド26の開口を炉
蓋29によって密閉状態にすることができる。
ド26を挿入し、インナーマニホールド26のテーパ部37を
アウターマニホールド25の内側に形成された円錐状のテ
ーパ接合面に対接接合することにより、相互のテーパに
よって外側反応管22と内側反応管23が自然と同心的に位
置決めされる。次に、炉蓋29のテーパ部38をインナーマ
ニホールド26の内側に形成されたテーパ接合面に対接接
合することにより、インナーマニホールド26の開口を炉
蓋29によって密閉状態にすることができる。
このように、外側反応管22および内側反応管23の管軸
を中心軸とする円錐状のテーパ部36,37,38によって内側
反応管23の管軸を外側反応管22の管軸に容易に一致させ
ることができる。したがって、外側反応管22と内側反応
管23を同心状に精度よく組立てることができ、炉内の温
度分布を均一に保つことができる。
を中心軸とする円錐状のテーパ部36,37,38によって内側
反応管23の管軸を外側反応管22の管軸に容易に一致させ
ることができる。したがって、外側反応管22と内側反応
管23を同心状に精度よく組立てることができ、炉内の温
度分布を均一に保つことができる。
さらに、本実施例ではインナーマニホールド26と炉蓋
29との接合部に円錐状のテーパ部38が形成されているた
め、石英ボート31を炉本体21の中心軸上に設置すること
ができる。また、メンテナンス時には外側反応管22およ
び内側反応管23を分解して再組立てを行うが、外側反応
管22と内側反応管23を簡単に同心状に位置決めして組立
てることができ、メンテナンスが容易となる。
29との接合部に円錐状のテーパ部38が形成されているた
め、石英ボート31を炉本体21の中心軸上に設置すること
ができる。また、メンテナンス時には外側反応管22およ
び内側反応管23を分解して再組立てを行うが、外側反応
管22と内側反応管23を簡単に同心状に位置決めして組立
てることができ、メンテナンスが容易となる。
（発明の効果） 以上説明したように、本発明によれば、外側反応管お
よび内側反応管の管軸を中心軸とするテーパ部とテーパ
接合面を密着することにより、外側反応管と内側反応管
とを容易かつ高精度に同心的に組立てることができ、炉
内の温度分布を均一に保つことができる。また、外側反
応管と内側反応管との分解、再組立てが簡単となり、メ
ンテナンスを容易に行うことができるという効果を奏す
る。
よび内側反応管の管軸を中心軸とするテーパ部とテーパ
接合面を密着することにより、外側反応管と内側反応管
とを容易かつ高精度に同心的に組立てることができ、炉
内の温度分布を均一に保つことができる。また、外側反
応管と内側反応管との分解、再組立てが簡単となり、メ
ンテナンスを容易に行うことができるという効果を奏す
る。
第１図は本発明の第１の実施例に係る縦型熱処理炉の縦
断面図、第２図は従来の縦型熱処理炉の断面図である。 21……炉本体、22……外側反応管、23……内側反応管、
25……アウターマニホールド、26……インナーマニホー
ルド、27……ベース、28……ヒータ、29……炉蓋、36、
37、38……テーパ部。
断面図、第２図は従来の縦型熱処理炉の断面図である。 21……炉本体、22……外側反応管、23……内側反応管、
25……アウターマニホールド、26……インナーマニホー
ルド、27……ベース、28……ヒータ、29……炉蓋、36、
37、38……テーパ部。
Claims (1)
- 【請求項１】外側反応管と内側反応管とを同心状にほぼ
垂直に配置し、前記外側反応管の周囲にヒータを配設し
てなる縦型熱処理炉において、 前記外側反応管および内側反応管の管軸を中心軸とする
円錐状のテーパ接合面を有するベースと、 前記外側反応管に設けられ外周面に前記ベースのテーパ
接合面に対接接合するテーパ部を有し、内周面に前記外
側反応管および内側反応管の管軸を中心軸とする円錐状
のテーパ接合面を有するアウターマニホールドと、 前記内側反応管に設けられ外周面に前記アウターマニホ
ールドのテーパ接合面に対接接合するテーパ部を有する
インナーマニホールドと、 を具備したことを特徴とする縦型熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62264193A JP2615081B2 (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | 縦型熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62264193A JP2615081B2 (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | 縦型熱処理炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01106423A JPH01106423A (ja) | 1989-04-24 |
| JP2615081B2 true JP2615081B2 (ja) | 1997-05-28 |
Family
ID=17399770
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62264193A Expired - Lifetime JP2615081B2 (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | 縦型熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2615081B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998019335A1 (fr) * | 1996-10-31 | 1998-05-07 | Tokyo Electron Limited | Appareil de traitement thermique de type vertical |
| JP5743788B2 (ja) * | 2011-07-29 | 2015-07-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置 |
| US20210317575A1 (en) * | 2020-04-14 | 2021-10-14 | Wonik Ips Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0787185B2 (ja) * | 1985-01-11 | 1995-09-20 | 株式会社デンコ− | 半導体の熱処理方法 |
-
1987
- 1987-10-20 JP JP62264193A patent/JP2615081B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01106423A (ja) | 1989-04-24 |
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