JPH065243A - 分析位置補正装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 人手による補正操作を行うことなく自動によ
って試料の傾斜を補正するとともに試料を光学系の焦点
位置に移動することができ、また、試料ステージそのも
のの傾斜を補正することによって自動分析における試料
の分析位置補正を容易に行うことができる分析位置補正
装置を提供する。 【構成】 表面分析装置において、試料１の光学系の焦
点位置を測定する光学観察手段１３，１４，１５と、試
料１の傾斜を調節することができるあおり手段２と、試
料１を少なくとも一方向に移動することができる移動手
段３とによって分析位置補正装置を構成するものであ
り、また、移動手段３に取り付けられる第１のあおり部
２３と、前記第１のあおり部２３に取り付けられるとと
もに試料１を支持する第２のあおり部２６とによって分
析位置補正装置のあおり手段２を構成するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＥＰＭＡなどの表面分
析装置における試料の分析位置を調節し補正する装置に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、試料に電子線を照射することに
よって得られる特性Ｘ線を分光し検出して元素組成分析
などを行うＥＰＭＡにおいては、該試料を試料ステージ
に取り付けている。試料ステージは、試料を保持すると
ともに３次元方向に移動可能な機能を持ち、試料の分析
位置の調節やマッピングによる分布解析を行うことがで
きる。

【０００３】前記試料ステージに必要な機能として、試
料の任意の微小領域を電子光学系の焦点位置及び各種信
号検出器が信号を検出可能な位置に移動するとともに、
試料の水平性を補償することがある。該試料の水平性
は、試料と入射電子とが直角となるような位置関係であ
り、この試料への直角入射が得られない場合には、定量
精度が落ちることになる。

【０００４】従来、試料の傾斜は以下の様にして行われ
ている。図１１及び図１２は、従来の試料の傾斜補正の
概要図である。図１１及び図１２において、１０は光学
観察系、５１は試料、５２はあおりホルダ、５３は試料
ステージである。図１１に示す従来例においては、試料
５１は試料ステージ５３上に支持され光学観察系１０に
よって観察される。試料５１が試料ステージ５３に対し
て傾斜している場合には、前記光学観察系１０での焦点
位置にずれが生じるが、この従来例では試料５１の傾斜
は補正せず、試料ステージ５３のＺ軸方向のみを調節す
ることによって補正を行っている。

【０００５】また、図１２に示す従来例においては、試
料５１は試料ステージ５３上に設けられたあおりホルダ
５２を介して支持され、光学観察系１０によって観察さ
れる。あおりホルダ５２は、試料５１の傾斜を補正する
機構を有しており、分析開始前に人手によって傾斜を補
正するものである。以下に、前記従来のあおりホルダ５
２について説明する。

【０００６】図１３は従来のあおりホルダの斜視図であ
り、図１４及び図１５は従来のあおりホルダの構成図で
ある。図１３〜図１５において、５１は試料、５２はあ
おりホルダ、５３は試料ステージ、５４はホルダベー
ス、５６はあおり駆動部、５７は移動部、５８は固定部
である。

【０００７】試料ステージ５３はＸＹＺステージによっ
て構成され、あおりホルダ５２と共に試料５１をＸ軸方
向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向に移動することができる。
一方、あおりホルダ５２は試料ステージ５３と試料５１
との間に設置されて試料５１の傾斜を補正するものであ
り、試料ステージ５３に対してホルダベース５４を介し
て取り付けられる。あおりホルダ５２による試料５１の
傾斜補正はあおり駆動部５６によって行われる。

【０００８】図１５は、前記移動部５７の駆動によって
試料５１の傾斜補正をおこなった状態を示している。前
記あおり駆動部５６は、例えば、ホルダベース５４上に
設置された固定部５８と移動部５７とによって構成さ
れ、移動部５７を駆動することによって試料５１を支持
するあおりホルダ５２の面を試料ステージ５３に対して
傾斜させるものである。また、前記移動部５７は、電動
あるいは手動によって駆動される。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
従来の前記試料ステージにおいては、以下の問題点を有
している。 （１）試料の傾斜の補正を行わず、試料ステージのＺ軸
方向のみを調節することによって焦点位置の補正を行っ
ているため、分析開始前に複数の位置を光学系で焦点位
置に移動する必要があり、作業の手間がかかる。 （２）人間の操作による試料の傾斜の補正はきわめて困
難な作業であり、精確な位置補正を行うことは難しい。

【００１０】また、前記従来のあおりホルダ５２による
試料の傾斜補正においては、ホルダベース５４を載せる
試料ステージ５３そのものがＸＹ方向に傾斜している場
合がある。この試料ステージあるいは試料取付け面のＸ
Ｙ面上の平行度を高めることは、装置の製作コストを上
げる要因となる。図１６は試料ステージの傾斜を示す状
態図であり、図１７及び図１８は試料ステージが傾斜し
た状態における従来の傾斜補正図である。

【００１１】図１６は試料ステージ５３がＸ方向あるい
はＹ方向に基準面５５に対して傾斜した状態を示してい
る。前記の状態において、図１７に示すように傾斜した
試料ステージ５３上にホルダベース５４を介してあおり
ホルダ５２を設け、該ホルダ５２上に試料５１を取り付
けると、試料５１は、試料ステージ５３に対して傾斜
し、さらに該試料ステージ５３も基準面５５に対して傾
斜している。

【００１２】そのため、図１８においてあおりホルダ５
２によって試料５１の試料ステージ５３に対する傾斜を
補正したとしても、試料ステージ５３が基準面５５に対
して傾斜しているため試料５１の基準面５５に対する傾
斜は補正されない。 （３）したがって、従来の分析位置補正装置において
は、試料ステージそのものの傾斜があるため、試料の傾
斜を精確に補正することができない。

【００１３】本発明は上記の問題点を除去し、人手によ
る補正操作を行うことなく自動によって試料の傾斜を補
正するとともに試料を光学系の焦点位置に移動すること
ができ、また、試料ステージそのものの傾斜を補正する
ことによって自動分析における試料の分析位置補正を容
易に行うことができる分析位置補正装置を提供すること
を目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の問題点
を克服するために、表面分析装置において、試料の光学
系の焦点位置を測定する光学観察手段と、試料の傾斜を
調節することができるあおり手段と、試料を少なくとも
一方向に移動することができる移動手段とによって分析
位置補正装置を構成するものであり、また、試料ステー
ジに取り付けられる第１のあおり部と、前記第１のあお
り部に取り付けられるとともに試料を支持する第２のあ
おり部とによって分析位置補正装置のあおり手段を構成
するものである。

【００１５】

【作用】本発明によれば、表面分析装置において、光学
観察手段によって試料の光学系の焦点位置を測定し、該
測定信号によってあおり手段を駆動して試料の傾斜を自
動補正するとともに、試料を少なくとも一方向に移動す
ることができる移動手段を駆動して試料を光学系の焦点
位置に自動補正して試料の分析位置補正を行うことがで
きる。

【００１６】また、試料ステージに取り付けられる第１
のあおり部と、前記第１のあおり部に取り付けられると
ともに試料を支持する第２のあおり部とによって分析位
置補正装置のあおり手段を構成し、一方のあおり部によ
って試料ステージの傾斜を補正し、他方のあおり部によ
って試料自体の傾斜を補正して試料の分析位置補正を行
うものである。

【００１７】

【実施例】以下、本発明の実施例について図を参照しな
がら詳細に説明する。図１は本発明の分析位置補正装置
の構成図である。図１において、１は試料、２はあおり
ホルダ、３は試料ステージ、１１はオートフォーカス制
御装置、１２はオートフォーカス制御装置のＣＰＵ、１
３はＣＣＤカメラ、１４は光学系、１５はミラー、２１
はあおり制御装置、２２はあおり制御装置のＣＰＵ、２
３は１段目あおり機構、２６は２段目あおり機構、３１
はＸＹＺ軸制御装置、３２はＸＹＺ軸制御装置のＣＰ
Ｕ、４１はホストコンピュータである。

【００１８】試料１は、試料ステージ３上に設置された
あおりホルダ２に支持される。試料ステージ３はＸＹＺ
ステージよりなり、ＸＹＺ軸制御装置３１の制御信号に
よってＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びＺ軸方向に移動可能で
ある。この試料ステージ３の３次元方向に移動によっ
て、試料の分析位置の調節やマッピングによる分布解析
を行うことができる。

【００１９】あおりホルダ２は、試料ステージ３上に設
置されるとともに試料１を支持し傾斜角度を調節する。
本発明のあおりホルダ２は、１段目あおり機構２３と２
段目あおり機構２６の２つのあおり機構から構成され、
それぞれあおり制御装置２１によってその駆動は制御さ
れている。試料１の像は光学観察系によって観察され
る。該光学観察系はミラー１５、光学系１４及びＣＣＤ
カメラ１３等の装置によって構成される。試料１の像は
ミラー１５及び光学系１４を介してＣＣＤカメラ１３に
よって観察が行われる。

【００２０】前記ＣＣＤカメラ１３はオートフォーカス
制御装置１１に接続され、試料１の焦点位置の測定が行
われる。前記オートフォーカス制御装置１１、あおり制
御装置２１及びＸＹＺ軸制御装置３１は、それぞれＣＰ
Ｕ１２、２２及び３２を持ち、ホストコンピュータ４１
の制御信号によって制御される。

【００２１】本発明の分析位置補正装置は、前記構成に
よって試料１の傾斜状態を示すあおり量を求め、該あお
り量の角度だけ試料１を傾斜させるものである。前記試
料１のあおり量の測定は、主にオートフォーカス制御装
置１１によって行われ、試料１の傾斜補正は主にあおり
ホルダ２及びあおり制御装置２１によって行われる。

【００２２】次に、前記構成によって本発明の分析位置
補正装置の分析位置の調整の動作を説明する。図２は、
本発明の分析位置補正装置による分析位置の調整の動作
のフローチャートであり、また図３及び図４はオートフ
ォーカスによる焦点位置測定の説明図である。

【００２３】図３及び図４において、Ａ、Ｂ及びＣは試
料１上の３点であり、ａ、ｂ及びｃはＡ、Ｂ及びＣの光
学系による焦点位置である。 ステップＳ２：始めに、試料１において分析領域を定
め、該分析領域を囲む３点を選択する。 ステップＳ３：前記ステップＳ２で定めた３点につい
て、該像をＣＣＤカメラ１３で受像してオートフォーカ
ス制御装置１１においてＺ軸方向のオートフォーカス装
置を動作させる。

【００２４】ステップＳ４：オートフォーカス装置によ
り前記３点における焦点位置を求める。図３及び図４は
３点の焦点位置を概略的に示したものである。試料１が
水平位置を保持した状態であれば、試料１上で選択され
た３点は同一平面上にあり、焦点位置ａ、ｂ及びｃはＺ
軸方向に対して同一の位置となる。

【００２５】一方、試料１が傾斜した状態であれば、試
料１上で選択された３点は同一平面上になく、Ｚ軸方向
に対しする焦点位置ａ、ｂ及びｃは異なる位置となる。
オートフォーカス制御装置１１のオートフォーカス装置
は、前記試料１が傾斜した場合におけるＡ、Ｂ及びＣの
３点の焦点位置ａ、ｂ及びｃを求めるものである。

【００２６】ステップＳ５：次に、前記ステップＳ４に
よって求めた３点の焦点位置ａ、ｂ及びｃのデータか
ら、３点の焦点位置が一致する位置を求める。３点の焦
点位置が一致する位置の演算は、オートフォーカス制御
装置１１のＣＰＵ１２において行うか、あるいはデータ
をオートフォーカス装置１１のＣＰＵ１２からあおり制
御装置２１のＣＰＵ２２に送ってＣＰＵ２２において行
うか、また、ホストコンピュータ４１において行うこと
もできる。

【００２７】ステップＳ６：前記ステップＳ５において
求めた位置を基準として、あおりホルダ２を駆動し試料
１の面の傾斜を補正する。ＣＰＵ２２において、前記３
点の焦点位置が一致する位置の演算値からあおりホルダ
２の駆動量を演算し、該駆動量に基づいてあおり制御装
置２１によってあおりホルダ２を駆動して試料１を水平
状態とする。

【００２８】本発明においては、このステップにおいて
あおりホルダ２の２段目あおり機構２６によって試料ス
テージ３に対する傾斜を補正することになる。また、あ
おりホルダ２の１段目あおり機構２３による傾斜の補正
は、試料ステージ３そのものの傾斜の補正である。この
あおりホルダ２については後で説明を行う。 ステップＳ１０：該ステップは、前記ステップＳ６にお
いて傾斜補正が行われ水平状態に保持された試料１の焦
点位置を調節するものである。

【００２９】該ステップの試料１の焦点位置への移動の
方法には、以下の２通りがある。図５及び図６は、試料
の焦点位置への移動のフローチャートである。第１の試
料の焦点位置への移動の方法は図５に示すフローによっ
て行われる。 ステップＳ１１：ステップＳ６の傾斜補正後、前記ステ
ップＳ５において求めた３点の焦点位置が一致する位置
の演算値を読み出して、ＸＹＺ軸制御装置３１のＣＰＵ
３２に入力する。

【００３０】ステップＳ１２：前記演算値に基づいてＸ
ＹＺ軸制御装置３１を駆動してＺ軸方向の移動量を求
め、試料ステージ３を駆動する。第２の試料の焦点位置
への移動の方法は図６に示すフローによって行われる。 ステップＳ１４：ステップＳ６の傾斜補正後、再び焦点
位置オートフォーカス装置によって焦点位置を求め、該
データをＸＹＺ軸制御装置３１のＣＰＵ３２に入力す
る。

【００３１】ステップＳ１５：前記ステップの焦点位置
のデータに基づき該焦点位置を目標としＸＹＺ軸制御装
置３１の制御によって試料ステージ３を駆動して試料１
のＺ軸方向の補正を行なう。 次に、本発明の分析位置補正装置による前記分析位置の
調整を用いたマッピングのフローについて説明する。

【００３２】図７は本発明の分析位置補正装置によるマ
ッピングのフローチャートである。 ステップＳ２１：ステップＳ２０でマッピングを開始
し、マッピングの分析条件、試料上の分析領域、及び分
析中心位置をホストコンピュータ４１に入力する。 ステップＳ２２：前記ステップで入力したマッピングの
条件に従って自動分析を開始する。

【００３３】ステップＳ２３：ステップＳ２１において
ホストコンピュータ４１に入力した分析条件、試料上の
分析領域、及び分析中心位置を読み出し、各ＣＰＵ１
２、ＣＰＵ２２及びＣＰＵ３２に読み込む。 ステップＳ１：次に、分析を行なう前に、前記図２のス
テップＳ１の分析位置の調整によって試料の傾斜の補正
及び焦点位置の補正を行なう。

【００３４】このステップにおいて、本発明の分析位置
補正装置を使用することによって分析位置を自動で補正
することができる。 ステップＳ２４：前記ステップＳ１によって試料の準備
が完了した後、前記入力条件に従って分析を行なう。

【００３５】ステップＳ２５：ステップＳ２１において
複数の分析条件、試料上の分析領域、及び分析中心位置
を入力してある場合には、前記ステップＳ２４によって
一つの入力条件による分析が終了した後、他の分析条
件、試料上の分析領域、及び分析中心位置での分析を行
なうか否かの判定を行なう。

【００３６】他の分析条件、試料上の分析領域、及び分
析中心位置での分析を行なう場合には、再びステップＳ
２３に戻って分析位置の調整及び分析を行なう。一方、
他の分析条件、試料上の分析領域、及び分析中心位置で
の分析を行なわない場合には、ステップＳ２６によって
分析を終了する。次に、本発明の分析位置補正装置のあ
おりホルダについて説明する。

【００３７】図８は本発明の分析位置補正装置の試料支
持部の構成図であり、図９は本発明のあおりホルダの構
成図である。図８，９において、１は試料、２はあおり
ホルダ、３は試料ステージ、１７はホルダベース、１６
は試料ホルダ、２３は１段目あおり機構、２４は１段目
あおり駆動部、２５は１段目あおりホルダ、２６は２段
目あおり機構、２７は２段目あおり駆動部、２８は２段
目あおりホルダ、２９は基準点、３３はホルダ取付け面
である。

【００３８】本発明の分析位置補正装置の試料を支持し
位置調整を行う部分は、試料ステージ３とあおりホルダ
２と試料ホルダ１６とからなる。そして、試料１は試料
ホルダ１６上に取り付けられ、該試料ホルダ１６はその
ホルダベース１７をあおりホルダ２に取り付けることに
よって設置され、さらに該あおりホルダ２は試料ステー
ジ３上に設置されている。

【００３９】前記構成において、試料１は試料ホルダ１
６によって固定されるとともに、その試料の分析位置の
調整は試料ステージ３とあおりホルダ２によって行われ
る。試料ステージ３は試料１のＸＹＺ方向の位置調整を
行ない、一方、あおりホルダ２は試料１の傾きの調整を
行う。また、本発明のあおりホルダ２は２つのあおり機
構によって構成される。第１のあおり機構は試料ステー
ジ３に対する試料の傾斜の補正を行なう１段目あおり機
構２３であり、第２のあおり機構は試料ステージ３自体
の傾斜の補正を行なう２段目あおり機構２６である。

【００４０】さらに、１段目あおり機構２３は１段目あ
おり駆動部２４と１段目あおりホルダ面２５とによって
構成され、また、２段目あおり機構２６は２段目あおり
駆動部２７と２段目あおりホルダ面２８とによって構成
される。１段目あおり機構２３の１段目あおり駆動部２
４は２個の移動部を有しており、１段目あおりホルダ面
２５に対して、一方の移動部はＸ軸方向に沿って、他方
の移動部はＹ軸方向に沿うような位置関係を持って、試
料ステージ３上にホルダ取付け面３３を介して取り付け
られる。この移動部の配置によって、１段目あおりホル
ダ面２５の試料ステージ３に対する傾斜を調整すること
ができる。したがって、試料ステージ３が基準面に対し
て傾斜している場合に、１段目あおり駆動部２４を駆動
することによって１段目あおりホルダ面２５の傾斜を補
正して水平に保持することができ、１段目あおりホルダ
面２５を基準の面とすることができる。

【００４１】試料ステージ３及びホルダ取付け面３３の
基準面に対する傾斜の測定は、１段目あおりホルダ面２
５に設置された３つの基準点２９によって行われる。つ
まり、基準面から見た３つの基準点２９の高さを測定す
ることによって、試料ステージ３及びホルダ取付け面３
３の面の傾斜を知ることができる。なお、基準点２９の
測定は、電気的手段、光学的手段あるいは機械的手段の
いずれの手段によっても行うことができる。

【００４２】前記１段目あおり駆動部２４は、試料ステ
ージ３及びホルダ取付け面３３の面の傾斜を補償する方
向に駆動することによって試料ステージ３及びホルダ取
付け面３３の面の傾斜を補正することができる。一方、
２段目あおり機構２６の２段目あおり駆動部２７も前記
１段目あおり駆動部２４と同様に複数個の移動部を有し
ており、該移動部の２段目あおりホルダ面２８に対する
配置は直角等の角度を形成するような位置関係として、
１段目あおりホルダ面２５上に取り付けられる。この配
置による移動部によって、２段目あおりホルダ面２８の
１段目あおりホルダ面２５に対する傾斜を調整すること
ができる。したがって、試料１が１段目あおりホルダ面
２５に対して傾斜している場合に、２段目あおり駆動部
２７を駆動することによって試料１の分析面の傾斜を補
正して水平に保持することができる。

【００４３】次に、前記構成の本発明のあおりホルダの
動作について説明する。図１０は本発明のあおりホルダ
の動作のフローチャートである。 ステップＳ３１：始めに、１段目あおり機構２３による
傾斜補正を行う。この傾斜補正は、１段目あおり駆動部
２４の駆動によって１段目あおりホルダ面２５の傾斜を
調整するものである。この調整によって、試料ステージ
３及びホルダ取付け面３３が基準面に対して傾斜してい
る場合においてもその傾斜を補正することができる。

【００４４】ステップＳ３２：次に、２段目あおり機構
２６による傾斜補正を行う。この傾斜補正は、２段目あ
おり駆動部２７の駆動によって２段目あおりホルダ面２
８の傾斜を調整するものである。この調整によって、２
段目あおりホルダ面２８上に取り付けられている試料１
の傾斜を補正することができる。

【００４５】次に、本発明のあおりホルダ２の１段目あ
おり駆動部２４及び２段目あおり駆動部２７に用いるあ
おり駆動部について説明する。図１９はあおり駆動部の
構成図である。図１９の（ａ）はあおり駆動部の移動機
構としてピエゾ素子６１を用いたものである。ピエゾ素
子６１に印加する電圧によってピエゾ素子６１の厚さを
調整し、あおりホルダ面の傾斜を補正する。

【００４６】図１９の（ｂ）はあおり駆動部の移動機構
としてカムシャフト６２を用いたものである。カムシャ
フト６２の回転軸を偏心させ、該偏心回転軸の回転位置
を調節することによってあおりホルダ面の傾斜を補正す
る。図１９の（ｃ）はカムシャフト６２の回転によって
あおりホルダ面が傾斜した状態を示している。図１９の
（ｄ）はあおり駆動部の移動機構としてねじ機構６３を
用いたものである。ねじ機構６３のねじの回動によって
あおりホルダ面の傾斜を補正する。

【００４７】図１９の（ｅ）はあおり駆動部の移動機構
としてスライダ機構６４を用いたものである。スライダ
機構６４のスライダの摺動によってあおりホルダ面の傾
斜を補正する。図１９の（ｆ）はあおり駆動部の移動機
構としてラック機構６５を用いたものである。ラック機
構６５によってあおりホルダ面を上下させ傾斜を補正す
る。

【００４８】前記各移動機構は、あおりホルダ面に対し
て、一方はＸ軸方向に沿って配置され、他方はＹ軸方向
に沿って配置される。この移動機構の配置によって、ホ
ルダ面をＸＹ面に対して傾斜させることができる。な
お、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本
発明の趣旨に基づき種々の変形が可能であり、それらを
本発明の範囲から排除するものではない。

【００４９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、 （１）オートフォーカス装置によって焦点位置を自動測
定し、該測定信号によって位置補正を行っているので、
分析開始前に複数の位置を光学系で焦点位置に移動する
必要がなく、作業の手間を省くことができ自動分析が可
能である。 （２）試料の傾斜の補正作業において、人間による操作
を介在しないため操作が容易となる。 （３）試料ステージそのものの傾斜の補正を行うことに
よって、試料の傾斜補正を精確に行うことができる。 （４）自動分析において、設定値及びコンピュータによ
る補正量を正確に補正することができる。 （５）試料取付け面及び試料ステージのＸＹ面上の平行
度を厳しくする必要がなく、高い製作精度を要さずとも
高い測定精度を得ることができる。 （６）したがって、試料の傾斜を補正及び試料の光学系
の焦点位置への移動を自動で行い、また試料ステージそ
のものの傾斜を補正することによって自動分析における
試料の分析位置補正を自動でかつ精確に行うことができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の分析位置補正装置の構成図である。

【図２】本発明の分析位置補正装置による分析位置の調
整の動作のフローチャートである。

【図３】本発明のオートフォーカスによる焦点位置測定
の説明図である。

【図４】本発明のオートフォーカスによる焦点位置測定
の説明図である。

【図５】本発明の試料の焦点位置への移動のフローチャ
ートである。

【図６】本発明の試料の焦点位置への移動のフローチャ
ートである。

【図７】本発明の分析位置補正装置によるマッピングの
フローチャートである。

【図８】本発明の分析位置補正装置の試料支持部の構成
図である。

【図９】本発明のあおりホルダの構成図である。

【図１０】本発明のあおりホルダの動作のフローチャー
トである。

【図１１】従来の試料の傾斜補正の概要図である。

【図１２】従来の試料の傾斜補正の概要図である。

【図１３】従来のあおりホルダの斜視図である。

【図１４】従来のあおりホルダの構成図である。

【図１５】従来のあおりホルダの構成図である。

【図１６】試料ステージの傾斜を示す状態図である。

【図１７】試料ステージが傾斜した状態における従来の
傾斜補正図である。

【図１８】試料ステージが傾斜した状態における従来の
傾斜補正図である。

【図１９】本発明のあおり駆動部の構成図である。

【符号の説明】

１…試料、２…あおりホルダ、３…試料ステージ、１１
…オートフォーカス制御装置、１２…オートフォーカス
制御装置のＣＰＵ、１３…ＣＣＤカメラ、１４…光学
系、１５…ミラー、１６…試料ホルダ、１７…ホルダベ
ース、２１…あおり制御装置、２２…あおり制御装置の
ＣＰＵ、２３…１段目あおり機構、２４…１段目あおり
駆動部、２５…１段目あおりホルダ、２６…２段目あお
り機構、２７…２段目あおり駆動部、２８…２段目あお
りホルダ、２９…基準点、３１…ＸＹＺ軸制御装置、３
２…ＸＹＺ軸制御装置のＣＰＵ、４１…ホストコンピュ
ータ、６１…ピエゾ素子、６２…カムシャフト、６３…
ねじ機構、６４…スライダ機構６５…ラック機構

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面分析装置において、（ａ）試料の光
   学系の焦点位置を測定する光学観察手段と、（ｂ）試料
   の傾斜を調節することができるあおり手段と、（ｃ）試
   料を少なくとも一方向に移動することができる移動手段
   とからなり、（ｄ）前記光学観察手段からの信号によっ
   て前記あおり手段を駆動して前記試料の傾斜を自動補正
   し、（ｅ）前記光学観察手段からの信号によって前記移
   動手段を駆動して前記試料を光学系の焦点位置に自動補
   正して試料の分析位置補正を行うことを特徴とする分析
   位置補正装置。
2. 【請求項２】 表面分析装置において、（ａ）試料ステ
   ージに取り付けられる第１のあおり部と、（ｂ）前記第
   １のあおり手段に取り付けられるとともに試料を支持す
   る第２のあおり部とによってあおり手段を構成し、
   （ｃ）前記一方のあおり部によって試料ステージの傾斜
   を補正し、（ｄ）前記他方のあおり部によって試料自体
   の傾斜を補正して試料の分析位置補正を行うことを特徴
   とする分析位置補正装置。