JPH0650565B2 - ドロツプアウト検査装置 - Google Patents
ドロツプアウト検査装置Info
- Publication number
- JPH0650565B2 JPH0650565B2 JP60210783A JP21078385A JPH0650565B2 JP H0650565 B2 JPH0650565 B2 JP H0650565B2 JP 60210783 A JP60210783 A JP 60210783A JP 21078385 A JP21078385 A JP 21078385A JP H0650565 B2 JPH0650565 B2 JP H0650565B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は光ディスク等のドロップアウト検査を行なう装
置に関するものである。
置に関するものである。
従来の技術 第１の従来例として特開昭５９−１９３５６１号公報を
引用し、第９図にその全体の構成図、第１０図に検出器
の構成図を示す。レーザー光３５はビームスプリッタ３
６により反射されλ/4板３７及び絞りレンズ３８を経て
光ディスク記録面３９に絞り込まれ、反射光は絞りレン
ズ３８、λ/4板３７を経てビームスプリッタ３６を透過
し、凸レンズ４０にて絞られ、ファーフィールド位置に
設置された４分割ディテクター４１により受光される。
ディテクター４１の各セルにより得られる信号出力から
加算器４２により和信号４３、減算器４４により周方向
差信号４５、減算器４６により径方向差信号４７が得ら
れる。これらの和信号、差信号を適切な検出レベルで比
較し、ドロップアウトの検出を行なう。第２の従来例と
して特開昭５８−１７４８０３号公報を例にとる。第１
１図はその全体の構成図、第１２図にスポット形状を示
す説明図を示す。レーザー発振器４８によりレーザーが
出射され、スポット整形部４９を経て投光レンズ５０に
より絞られ、ディスク５１の記録面５２に照射され、そ
の反射光はセンサ５３で受光され記録面５２上の傷等を
検出する。記録面上のスポット形状５４はディスク半径
方向に長く、かつ半径方向に対して適度に傾けることに
より検査時間の短縮化等の効果を得る。
引用し、第９図にその全体の構成図、第１０図に検出器
の構成図を示す。レーザー光３５はビームスプリッタ３
６により反射されλ/4板３７及び絞りレンズ３８を経て
光ディスク記録面３９に絞り込まれ、反射光は絞りレン
ズ３８、λ/4板３７を経てビームスプリッタ３６を透過
し、凸レンズ４０にて絞られ、ファーフィールド位置に
設置された４分割ディテクター４１により受光される。
ディテクター４１の各セルにより得られる信号出力から
加算器４２により和信号４３、減算器４４により周方向
差信号４５、減算器４６により径方向差信号４７が得ら
れる。これらの和信号、差信号を適切な検出レベルで比
較し、ドロップアウトの検出を行なう。第２の従来例と
して特開昭５８−１７４８０３号公報を例にとる。第１
１図はその全体の構成図、第１２図にスポット形状を示
す説明図を示す。レーザー発振器４８によりレーザーが
出射され、スポット整形部４９を経て投光レンズ５０に
より絞られ、ディスク５１の記録面５２に照射され、そ
の反射光はセンサ５３で受光され記録面５２上の傷等を
検出する。記録面上のスポット形状５４はディスク半径
方向に長く、かつ半径方向に対して適度に傾けることに
より検査時間の短縮化等の効果を得る。
発明が解決しようとする問題点 第１の従来例ではレーザー光を１トラックに追従させな
がらドロップアウト検出を行なうため検査に時間がかか
る。第２の従来例では検出時間の短縮化が図れるが、そ
の検出結果は第１従来例の如き記録再生光学系を用いた
検出結果と互換がとれない。本発明はかかる点に鑑みな
されたもので、記録再生光学系と互換がとれ、かつ検出
時間短縮化の図れるドロップアウト検査装置を提供する
ものである。
がらドロップアウト検出を行なうため検査に時間がかか
る。第２の従来例では検出時間の短縮化が図れるが、そ
の検出結果は第１従来例の如き記録再生光学系を用いた
検出結果と互換がとれない。本発明はかかる点に鑑みな
されたもので、記録再生光学系と互換がとれ、かつ検出
時間短縮化の図れるドロップアウト検査装置を提供する
ものである。
問題点を解決するための手段 レーザー光を光ディスク記録面上にその長軸が案内溝と
直交する楕円状に絞り、記録面から反射し絞りレンズで
集光される反射光の、０次回折光光軸と直交し±１次回
折光光軸と交わる直線にて分割される２つの領域の光強
度をそれぞれ検出して、各検出信号の和信号と差信号を
得、差信号を１個もしくは複数の波器に通し、波器
後の差信号を適切な検出レベルで比較し、検出レベルを
こえる場合とこえない場合とでドロップアウトの要因分
別を行なうとともに、その分別結果にもとづき和信号の
検出レベルを切り換えるものである。
直交する楕円状に絞り、記録面から反射し絞りレンズで
集光される反射光の、０次回折光光軸と直交し±１次回
折光光軸と交わる直線にて分割される２つの領域の光強
度をそれぞれ検出して、各検出信号の和信号と差信号を
得、差信号を１個もしくは複数の波器に通し、波器
後の差信号を適切な検出レベルで比較し、検出レベルを
こえる場合とこえない場合とでドロップアウトの要因分
別を行なうとともに、その分別結果にもとづき和信号の
検出レベルを切り換えるものである。
作 用 光ディスクのドロップアウト要因として基材内の遮光性
異物（以下基材内異物と呼ぶ）、案内溝上の傷や異物
（以下溝異常と呼ぶ）、記録膜内の異物やピンホール
（以下膜異常と呼ぶ）等の３つが考えられている。溝異
常と膜異常をまとめて記録面異常と呼ぶ。一般に基材内
異物による差信号は低周波であり、記録面異常による差
信号は高周波となるため、低域通過波器（以下ＬＰＦ
と呼ぶ）後の差信号は基材内異物で振幅が大きく、記録
面異常では小さくなり、高域通過波器（以下ＨＰＦと
呼ぶ）後の差信号は基材内異物で小さく、記録面異常で
大きくなる。なお膜異常はその和信号におけるドロップ
アウト振幅が溝異常に比べ極めて大きいため、ＬＰＦに
よってＬＰＦ後の差信号でもその振幅が大きくなる。以
上よりＬＰＦもしくはＨＰＦ後の差信号を適切な検出レ
ベルで比較することにより、その検出レベルをこえるか
否かで基材内異物、溝異常等の要因を分別することがで
き、この分別結果により和信号の検出レベルを切り換え
る。一般に記録再生光学系の円形状ビームに比べ、楕円
状ビームは基材内異物に高感度な検出系となるため、基
材内異物との判定をうけたドロップアウトはその和信号
検出レベルを高くし、記録再生光学系との互換をとる。
異物（以下基材内異物と呼ぶ）、案内溝上の傷や異物
（以下溝異常と呼ぶ）、記録膜内の異物やピンホール
（以下膜異常と呼ぶ）等の３つが考えられている。溝異
常と膜異常をまとめて記録面異常と呼ぶ。一般に基材内
異物による差信号は低周波であり、記録面異常による差
信号は高周波となるため、低域通過波器（以下ＬＰＦ
と呼ぶ）後の差信号は基材内異物で振幅が大きく、記録
面異常では小さくなり、高域通過波器（以下ＨＰＦと
呼ぶ）後の差信号は基材内異物で小さく、記録面異常で
大きくなる。なお膜異常はその和信号におけるドロップ
アウト振幅が溝異常に比べ極めて大きいため、ＬＰＦに
よってＬＰＦ後の差信号でもその振幅が大きくなる。以
上よりＬＰＦもしくはＨＰＦ後の差信号を適切な検出レ
ベルで比較することにより、その検出レベルをこえるか
否かで基材内異物、溝異常等の要因を分別することがで
き、この分別結果により和信号の検出レベルを切り換え
る。一般に記録再生光学系の円形状ビームに比べ、楕円
状ビームは基材内異物に高感度な検出系となるため、基
材内異物との判定をうけたドロップアウトはその和信号
検出レベルを高くし、記録再生光学系との互換をとる。
実施例 本発明のドロップアウト検査装置の一実施例を第１図に
示す。レーザー光１はビームスプリッタ２により反射さ
れλ/4板３及び絞りレンズ４更に光ディスク基板５を経
て光ディスク記録面６に絞り込まれ、反射光は光ディス
ク基板５、絞りレンズ４、λ/4板３を経てビームスプリ
ッタ２を透過し、凸レンズ７にて絞られ、分割ミラー８
により分割され、透過光側はナイフエッヂ９にて一部遮
光されてニアフィールド位置の２分割ディテクター１０
に集光され、反射光側はファーフィールド位置の２分割
ディテクター１１に集光される。なおディテクター１０
より焦点誤差信号を得て絞りレンズ４を記録面６に追従
させている。第２図はディテクター１１上の反射光分布
を示す説明図である。反射光は０次回折光１２、−１次
回折光１３、＋１次回折光１４等の集まりであり、ディ
テクター１１はその分割ライン１５を０次回折光１２の
光軸が通り、＋１次回折光の光軸と分割ライン１５が交
わるように設置されている。第３図にこの実施例のドロ
ップアウト検出回路を示す。セル１１−ａ、１１−ｂの
出力信号をそれぞれva，vbとし、加算器１６により（va
＋vb）の和信号１７を得る。また減算器１８により（va
−vb）の差信号を得、ＬＰＦ１９もしくはＨＰＦ２１を
経てＬＰＦ後差信号２０もしくはＨＰＦ後差信号２２を
得る。
示す。レーザー光１はビームスプリッタ２により反射さ
れλ/4板３及び絞りレンズ４更に光ディスク基板５を経
て光ディスク記録面６に絞り込まれ、反射光は光ディス
ク基板５、絞りレンズ４、λ/4板３を経てビームスプリ
ッタ２を透過し、凸レンズ７にて絞られ、分割ミラー８
により分割され、透過光側はナイフエッヂ９にて一部遮
光されてニアフィールド位置の２分割ディテクター１０
に集光され、反射光側はファーフィールド位置の２分割
ディテクター１１に集光される。なおディテクター１０
より焦点誤差信号を得て絞りレンズ４を記録面６に追従
させている。第２図はディテクター１１上の反射光分布
を示す説明図である。反射光は０次回折光１２、−１次
回折光１３、＋１次回折光１４等の集まりであり、ディ
テクター１１はその分割ライン１５を０次回折光１２の
光軸が通り、＋１次回折光の光軸と分割ライン１５が交
わるように設置されている。第３図にこの実施例のドロ
ップアウト検出回路を示す。セル１１−ａ、１１−ｂの
出力信号をそれぞれva，vbとし、加算器１６により（va
＋vb）の和信号１７を得る。また減算器１８により（va
−vb）の差信号を得、ＬＰＦ１９もしくはＨＰＦ２１を
経てＬＰＦ後差信号２０もしくはＨＰＦ後差信号２２を
得る。
第４図(a)はディテクター１１上の基材内異物による反
射光強度分布に与える影響を示す説明図である。
射光強度分布に与える影響を示す説明図である。
基材内異物による影はレーザー光の絞りレンズから記録
面までの往路において遮光され、溝面にて反射回折し、
復路において再度異物により遮光されるため、往路にお
ける遮光影響は０次回折光での影響部２３と−１次回折
光での影響部２４として現われ、復路における遮光影響
部２５は０次回折光での影響部２３と光軸対称に現われ
る。各影響部は光ディスクの回転とともに図中矢印の如
く移動する。なお、＋１次回折光ｖの影響部２６は絞り
レンズ瞳径内に入らないためディテクター１１上には現
われない。影響部２３は影響部２５とその光量変化量が
ほぼ等しいが、影響部２４がディテクター１１上に現わ
れているため、差信号において第５図(b)に示す如き波
形を生ずる。第５図(a)は瞳面３０から焦平面３１に至
るまでのレーザービーム径を示しており、絞りレンズ焦
点距離ｆ，瞳径φaとすれば溝面から光学的距離ｚの位
置でのビーム径はその長軸径がaz/fであり、光ディスク
の回転風速度をｖ、基材内異物径をφdとして差信号の
ドロップアウト波形の時間幅は となる。またｚ≒０の時にはビームスポット短軸径をｂ
として（ｂ＋ｄ）／ｖが時間幅となる。一般にｚ＞＞１
μｍであり、NA（＝ａ／δ）＝0.5のもとではｂ≒１μ
ｍとなるから である。
面までの往路において遮光され、溝面にて反射回折し、
復路において再度異物により遮光されるため、往路にお
ける遮光影響は０次回折光での影響部２３と−１次回折
光での影響部２４として現われ、復路における遮光影響
部２５は０次回折光での影響部２３と光軸対称に現われ
る。各影響部は光ディスクの回転とともに図中矢印の如
く移動する。なお、＋１次回折光ｖの影響部２６は絞り
レンズ瞳径内に入らないためディテクター１１上には現
われない。影響部２３は影響部２５とその光量変化量が
ほぼ等しいが、影響部２４がディテクター１１上に現わ
れているため、差信号において第５図(b)に示す如き波
形を生ずる。第５図(a)は瞳面３０から焦平面３１に至
るまでのレーザービーム径を示しており、絞りレンズ焦
点距離ｆ，瞳径φaとすれば溝面から光学的距離ｚの位
置でのビーム径はその長軸径がaz/fであり、光ディスク
の回転風速度をｖ、基材内異物径をφdとして差信号の
ドロップアウト波形の時間幅は となる。またｚ≒０の時にはビームスポット短軸径をｂ
として（ｂ＋ｄ）／ｖが時間幅となる。一般にｚ＞＞１
μｍであり、NA（＝ａ／δ）＝0.5のもとではｂ≒１μ
ｍとなるから である。
一方第４図(b)は記録面異常による影響を示す説明図で
あり、０次回折光での影響部２７と−１次回折光での影
響部２８がディテクター１１上に現われ、それぞれ図中
矢印の方向に移動する。なお＋１次回折光ｖの影響部２
９はディテクター上には現われない。第６図(a)は記録
面異常の１つ溝異常の一例を示しており溝異常３２を有
する案内溝３３上をビームスポット３４が走査してい
る。(b)は和信号波形、(c)は差信号波形であり、差信号
波形の時間幅はｂ／ｖに等しい。従って溝異常の時間巾
ｂ／ｖを基材内異物の時間巾 と比較して が成り立ち、差信号は基材内異物が低周波、溝異常が高
周波となる。よって第３図のＬＰＦ１９もしくはＨＰＦ
２１を設けることにより、ＬＰＦ後の差信号は基材内異
物で、振幅が大きく、溝異常で小さくなり、ＨＰＦ後の
差信号は基材内異物で小さく、溝異常で大きくなる。ま
た膜異常は基本的に、溝異常と同じであるが、和信号に
おいて溝異常に比べドロップアウト振幅が極めて大きい
ため、ＬＰＦによってＬＰＦ後の差信号が大きく出るこ
ともある。第７図(a)は要因別の和信号波形を示す説明
図であり、(b)，(d)はＬＰＦ後の差信号、(c)はＨＰＦ
後の差信号を示している。基材内異物をイ、溝異常を
ロ、膜異常をハに示す。第７図(b)によりＬＰＦ後の差
信号に±v1の検出レベルを設けることで基材内異物イ及
び膜異常ハが検出されるが、溝異常ロは検出されない。
またＬＰＦの特性を向上させることで第７図(d)の如き
ＬＰＦ後差信号が得られた場合、±v1″の検出レベルを
設けることによって基材内異物イは検出されるが、溝異
常ロ、膜異常ハは検出されない。
あり、０次回折光での影響部２７と−１次回折光での影
響部２８がディテクター１１上に現われ、それぞれ図中
矢印の方向に移動する。なお＋１次回折光ｖの影響部２
９はディテクター上には現われない。第６図(a)は記録
面異常の１つ溝異常の一例を示しており溝異常３２を有
する案内溝３３上をビームスポット３４が走査してい
る。(b)は和信号波形、(c)は差信号波形であり、差信号
波形の時間幅はｂ／ｖに等しい。従って溝異常の時間巾
ｂ／ｖを基材内異物の時間巾 と比較して が成り立ち、差信号は基材内異物が低周波、溝異常が高
周波となる。よって第３図のＬＰＦ１９もしくはＨＰＦ
２１を設けることにより、ＬＰＦ後の差信号は基材内異
物で、振幅が大きく、溝異常で小さくなり、ＨＰＦ後の
差信号は基材内異物で小さく、溝異常で大きくなる。ま
た膜異常は基本的に、溝異常と同じであるが、和信号に
おいて溝異常に比べドロップアウト振幅が極めて大きい
ため、ＬＰＦによってＬＰＦ後の差信号が大きく出るこ
ともある。第７図(a)は要因別の和信号波形を示す説明
図であり、(b)，(d)はＬＰＦ後の差信号、(c)はＨＰＦ
後の差信号を示している。基材内異物をイ、溝異常を
ロ、膜異常をハに示す。第７図(b)によりＬＰＦ後の差
信号に±v1の検出レベルを設けることで基材内異物イ及
び膜異常ハが検出されるが、溝異常ロは検出されない。
またＬＰＦの特性を向上させることで第７図(d)の如き
ＬＰＦ後差信号が得られた場合、±v1″の検出レベルを
設けることによって基材内異物イは検出されるが、溝異
常ロ、膜異常ハは検出されない。
さらに第７図(c)によりＨＰＦ後の差信号に±v1′の検
出レベルを設けることで、溝異常ロ、膜異常ハは検出さ
れるが、基材内異物イは検出されない。なお第７図
(b)，(c)を併用することによりＬＰＦ後差信号ｂで検
出、ＨＰＦ後差信号ｃで未検出は基材内異物、ＬＰＦ後
差信号ｂで未検出、ＨＰＦ後差信号ｃで検出は溝異常、
ＬＰＦ後差信号ｂ、ＨＰＦ後差信号ｃとも検出は膜異常
と、全要因を分別することもできる。第８図に円形ビー
ムと楕円ビームの瞳面から焦平面に至るまでのビーム形
状を示す。楕円ビームは瞳面上５６から焦平面上５７
に、円形ビームは瞳面上５８から焦平面上５９にそのビ
ーム形状が変化する。なお断面６０を境にして瞳面側で
は 円形ビーム断面積＞楕円形ビーム断面積 焦平面側では 円形ビーム断面積＜楕円形ビーム断面積 となる。記録面異常は焦平面もしくは断面６０の焦平面
側に存在し、基材内異物は断面６０の焦平面側のみなら
ず瞳面側にも多く存在する。このため楕円状スポットを
得るため楕円形ビームを用いれば、和信号におけるドロ
ップアウト振幅が基材内異物と記録面異常とで感度が異
なり、円形ビームを用いた検出結果と対応がとれない。
すなわち記録面異常での感度を円形ビームを用いたもの
と等しくすれば基材内異物の感度が大きくなる。従って
前述の如く波器後の差信号によって得られた要因分別
結果にもとずき、第７図(a)に示す如く和信号の検出レ
ベルを切り換える。すなわち基材内異物と判定されたド
ロップアウトの検出レベルを±v2（基材内異物はその和
信号ドロップアウト波形が反射率低下方向にあるので、
検出レベルは−v2のみでもよい。）とし、他の要因と判
定されたドロップアウトの検出レベルを±v3（v2＞v3＞
０＞とすることにより、円形ビームを用いている記録再
生光学系との互換のとれるドロップアウト検出が可能と
なる。なおビームスポットは第６図(a)に示す如く、数
トラックにまたがる楕円状スポットであり、図中矢印の
如くビームスポットを動かすことで高速にドロップアウ
ト検出を行なうことが出来る。
出レベルを設けることで、溝異常ロ、膜異常ハは検出さ
れるが、基材内異物イは検出されない。なお第７図
(b)，(c)を併用することによりＬＰＦ後差信号ｂで検
出、ＨＰＦ後差信号ｃで未検出は基材内異物、ＬＰＦ後
差信号ｂで未検出、ＨＰＦ後差信号ｃで検出は溝異常、
ＬＰＦ後差信号ｂ、ＨＰＦ後差信号ｃとも検出は膜異常
と、全要因を分別することもできる。第８図に円形ビー
ムと楕円ビームの瞳面から焦平面に至るまでのビーム形
状を示す。楕円ビームは瞳面上５６から焦平面上５７
に、円形ビームは瞳面上５８から焦平面上５９にそのビ
ーム形状が変化する。なお断面６０を境にして瞳面側で
は 円形ビーム断面積＞楕円形ビーム断面積 焦平面側では 円形ビーム断面積＜楕円形ビーム断面積 となる。記録面異常は焦平面もしくは断面６０の焦平面
側に存在し、基材内異物は断面６０の焦平面側のみなら
ず瞳面側にも多く存在する。このため楕円状スポットを
得るため楕円形ビームを用いれば、和信号におけるドロ
ップアウト振幅が基材内異物と記録面異常とで感度が異
なり、円形ビームを用いた検出結果と対応がとれない。
すなわち記録面異常での感度を円形ビームを用いたもの
と等しくすれば基材内異物の感度が大きくなる。従って
前述の如く波器後の差信号によって得られた要因分別
結果にもとずき、第７図(a)に示す如く和信号の検出レ
ベルを切り換える。すなわち基材内異物と判定されたド
ロップアウトの検出レベルを±v2（基材内異物はその和
信号ドロップアウト波形が反射率低下方向にあるので、
検出レベルは−v2のみでもよい。）とし、他の要因と判
定されたドロップアウトの検出レベルを±v3（v2＞v3＞
０＞とすることにより、円形ビームを用いている記録再
生光学系との互換のとれるドロップアウト検出が可能と
なる。なおビームスポットは第６図(a)に示す如く、数
トラックにまたがる楕円状スポットであり、図中矢印の
如くビームスポットを動かすことで高速にドロップアウ
ト検出を行なうことが出来る。
発明の効果 以上述べてきたように、本発明によれば、記録再生用光
学系と互換のとれずドロップアウト検査を高速に行なう
ことが可能となり、ドロップアウト検査装置としてきわ
めて有用である。
学系と互換のとれずドロップアウト検査を高速に行なう
ことが可能となり、ドロップアウト検査装置としてきわ
めて有用である。
第１図は本発明の一実施例におけるドロップアウト検査
装置の原理図、第２図は同装置のディテクター上反射光
分布を示す図、第３図は同装置のドロップアウト検出回
路ブロック図、第４図(a)，(b)はそれぞれ基材内異物、
記録面異常の反射光分布に与える影響を示す図、第５図
(a)はレーザービーム径を示す図、(b)は基材内異物の差
信号波形図、第６図(a)は溝異常の一例を示す図、(b)は
その和信号波形図、(c)はその差信号波形図、第７図(a)
は要因別の和信号波形図、(b)及び(d)はＬＰＦ後差信号
波形図、(c)はＨＰＦ後差信号波形図、第８図は円形ビ
ームと楕円形ビームのビーム径を示す説明図、第９図は
従来のドロップアウト検査装置の原理図、第１０図はそ
のドロップアウト検出回路のブロック図、第１１図は他
の従来のドロップアウト検査装置の原理図、第１２図は
そのビームスポットを示す説明図である。 １……レーザー光、２……ビームスプリッタ、３……λ
/4板、４……絞りレンズ、５……基板、６……記録面、
７……凸レンズ、８……ハーフミラー、９……ナイフエ
ッヂ、１０，１１……ディテクター、１６……加算器、
１７……和信号、１８……減算器、１９……ＬＰＦ（低
域通過波器）、２０……ＬＰＦ後差信号、２１……Ｈ
ＰＦ（高域通過波器）、２２……ＨＰＦ後差信号。
装置の原理図、第２図は同装置のディテクター上反射光
分布を示す図、第３図は同装置のドロップアウト検出回
路ブロック図、第４図(a)，(b)はそれぞれ基材内異物、
記録面異常の反射光分布に与える影響を示す図、第５図
(a)はレーザービーム径を示す図、(b)は基材内異物の差
信号波形図、第６図(a)は溝異常の一例を示す図、(b)は
その和信号波形図、(c)はその差信号波形図、第７図(a)
は要因別の和信号波形図、(b)及び(d)はＬＰＦ後差信号
波形図、(c)はＨＰＦ後差信号波形図、第８図は円形ビ
ームと楕円形ビームのビーム径を示す説明図、第９図は
従来のドロップアウト検査装置の原理図、第１０図はそ
のドロップアウト検出回路のブロック図、第１１図は他
の従来のドロップアウト検査装置の原理図、第１２図は
そのビームスポットを示す説明図である。 １……レーザー光、２……ビームスプリッタ、３……λ
/4板、４……絞りレンズ、５……基板、６……記録面、
７……凸レンズ、８……ハーフミラー、９……ナイフエ
ッヂ、１０，１１……ディテクター、１６……加算器、
１７……和信号、１８……減算器、１９……ＬＰＦ（低
域通過波器）、２０……ＬＰＦ後差信号、２１……Ｈ
ＰＦ（高域通過波器）、２２……ＨＰＦ後差信号。
Claims (3)
- 【請求項１】案内溝の形成された記録媒体の面にレーザ
ー光を前記案内溝を短軸方向とする楕円状に絞って照射
することにより得られる反射光を集光する絞りレンズ
と、前記反射光により焦点誤差信号を得て焦点制御を行
なう手段と、前記反射光の０次回折光光軸と直交し±１
次回折光光軸と交わる直線にて分割される前記反射光の
２つの領域の光強度をそれぞれ検出し各検出信号の和信
号と差信号を得る手段とを備え、差信号を１個もしくは
複数の波器に通し、波器後の差信号を適切な検出レ
ベルで比較判別し、前記波器後の差信号がその検出レ
ベルをこえる場合とこえない場合とに応じて、和信号の
検出レベルを切り換えることを特徴とするドロップアウ
ト検査装置。 - 【請求項２】波器に低域通過波器を用い、この低域
通過波器後の差信号がその検出レベル±v1をこえる場
合の和信号検出レベルを±v2とし、こえない場合の和信
号検出レベルを±v3とし、v2＞v3＞０に設定したことを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載のドロップアウト
検査装置。 - 【請求項３】波器に高域通過波器を用い、この高域
通過波器後の差信号がその検出レベル±v1′をこえる
場合の和信号検出レベルを±v3とし、こえない場合の和
信号検出レベルを±v2とし、v2＞v3＞０に設定したこと
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載のドロップアウ
ト検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60210783A JPH0650565B2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | ドロツプアウト検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60210783A JPH0650565B2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | ドロツプアウト検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6271032A JPS6271032A (ja) | 1987-04-01 |
| JPH0650565B2 true JPH0650565B2 (ja) | 1994-06-29 |
Family
ID=16595060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60210783A Expired - Lifetime JPH0650565B2 (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | ドロツプアウト検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0650565B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7666110B2 (en) | 2003-03-26 | 2010-02-23 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Control system for power transmission mechanism |
-
1985
- 1985-09-24 JP JP60210783A patent/JPH0650565B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6271032A (ja) | 1987-04-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |