JPS6271031A - ドロツプアウト検査装置 - Google Patents

ドロツプアウト検査装置

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JPS6271031A
JPS6271031A JP60210782A JP21078285A JPS6271031A JP S6271031 A JPS6271031 A JP S6271031A JP 60210782 A JP60210782 A JP 60210782A JP 21078285 A JP21078285 A JP 21078285A JP S6271031 A JPS6271031 A JP S6271031A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
difference signal
light
order diffracted
dropout
diffracted light
Prior art date
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Pending
Application number
JP60210782A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiji Nishiwaki
青児 西脇
Hiromasa Funakoshi
裕正 船越
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPS6271031A publication Critical patent/JPS6271031A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は光ディスク等のドロップアウト検査を行なう装
置に関するものである。
従来り技術 従来例として特開昭59−193561号公報を引用部
、第8図にその全体の構成図、第9図に検出器の構成図
を示す。第8図、第9図において、レーザー光36はビ
ームスプリッタ36により反射されλ/4板3了及び絞
りレンズ38を経てディスク記録!39に絞り込まれ、
反射光は絞りレンズ38.λ/゛4板3T全3Tビーム
スプリッタ36を透過し7、凸レンズ40にで絞られ、
フ1−フィールドタ装置に設置された4分割ディテクタ
ー41により受光される。ディテクター41の各セルに
よシ得られる信号出力から加算器42によシ和信号43
.減算器44により周方向差信号46.減算器46によ
り径方向差信号47が得られる。これらの和信号、差信
号を適切な検出しづルで比較し、ドロップアウトの検出
を行なう。
発明が解決しようとする問題点 罰記の従来の装置によるとドロップアウトの検出ができ
ても、ドロップアウトの要因分別を行なうことができな
かった。本発明はかかる点に鑑みなされたもので、ドロ
ップアウトの要因を分別することができるドロップアウ
ト検査装置を提供することを目的とするものである。
問題点を解決するための手段 レーザー光を光デイスク記録面上にその長軸が案内溝と
直交する楕円状に絞り、記録面から反射し絞りレンズで
集光される反射光の、0次回折光光軸と直交し±1次回
折光光軸と交わる直線にて分割される2つの領域の光強
度をそれぞれ検出して各検出信号の差信号を得、差信号
を1個もしくは複数のろ波器に通し、p波器後の差信号
を適切な検出レベルで比較し、検出レベルをこえる場合
とこえない場合とでドロップアウトの要因分別を行なう
ものである。
作  用 光ディスクのドローツブアウト・要因として基材内の遮
光性異物(以下基材的異物と呼ぶ)、案内溝上の傷か異
物(以下溝異常と呼ぶ)、記録膜内の異物やビンボール
(以下膜異常と呼ぶ)等の3つが考えられている。溝異
常と膜異常をまとめて記録面異常と呼ぶ。一般に基材内
異物による差信号は低周波であり、記録面異常による差
信号は高周波となるため、低域通過F波器(以下LPF
と呼ぶ)後の差信号は基材内異物で振幅が大きく、記録
面異常では小さくなり、高域P波器(以下HPFと呼ぶ
)後の差信号は基材内異物で小さく、記録面異常で大き
くなる。なお膜異常はその和信号におけるドロップアウ
ト振幅が溝異常に比べ極めて大きいため、LPFによっ
てはLPF後の差信号でもその振幅が大きくなる。
以上よシLPFもしくはHPF後の差信号を適切な検出
レベルで比較することにより、その検出レベルをこえる
か否かで基材内異物、溝異常、膜異常等の要因を分別す
ることが出来る。
実施例 不発明のドロップアウト検査装置の一実施例を第1図に
示す。レーザー光1はビームスプリッタ2により反射さ
れλ/4板3及び絞りレンズ4更に光デイスク基板6を
経て光デイスク記録面6に絞り込まれ、反射光は光デイ
スク基板6.絞りレンズ4.λ/4板3を経てビームス
プリッタ2を透過し、凸レンズ7にて絞られ、分割ミラ
ー8により分割され、透過光側はナイフエッヂ9にて一
部遮光されてニアフィールド位置の2分割′ディテクタ
ー10に集光され、反射光側はファーフィールド位置の
2分割ディテクター11に集光される。なおディテクタ
ー1oより焦点誤差信号を得て絞りレンズ4を記録面6
に追従させている。第2図はディテクター11上の反射
光分布を示す説明図である。反射光は0次回折光゛;2
.−1次回折光13゜+1次回折光14等の集まシであ
り、ディテクター11はその分割ライン16を0次回折
光12の光軸が通シ、±1次回折光の光軸と分割ライン
15が交わるように設置されている。第3図にこの実施
例のドロップアウト検出回路を示す。セル11−a、1
1−bの出力信号をそれぞれV a t V bとし、
加算器16により(v、+v、)の和信号17を得る。
また減算器18により(va−v、)の差信号を得、L
PF(低域通過F波器)19もしくはHPF(高域通過
F波器)21を経てLPF後差信号20もし、くはHP
F俊差信号22を得る。
第4図aはディテクター11上の基材内異物による反射
光強度分布に与える影響を示す説明図で    ′ある
基材内異物による影はレーザー光の絞りレンズから記録
面までの往路において遮光され、溝面にて反射回折し、
復路において再度異物によりfi光されるため、往路に
おける遮光影響は0次回折光での影響部23と一1次回
折光での影響部24として現われ、復路における遮光影
響部26は0次回折光での影響23と光軸対称に現われ
る。各影響部は光ディスクの回転とともに図中矢印の如
く移動する。なお+1次回折光Vの影響部26は絞りレ
ンズ瞳径内に入らないためディテクター11上には現わ
れない。影響部23は影響部25とその光量変化量がほ
ぼ等しいが、影響部24がディテクター11上に現われ
でいるため、差信号において第5図すに示す如き波形を
生ずる。第5図aは瞳面30から焦乎面31に至るまで
のレーザーピ・−ム径を示しており、絞りレンズの熱煮
距離f。
瞳径φaとすれば溝面から光学的距離2の位置でのビー
ム径はその長軸径がa z/ fであり、光ディスクの
回転周速度をV、基材内異物径をφdとし′az て差信号のドロップアウト波形の時間幅(7+d)/V
となる。また2ζ0の時にはビームスポット短軸径をb
として(bad)/vが時間幅となる。一般にz)> 
1 prnでありNA (=a / f ) −0,5
のもとではb’:61μmとなるから(7+d )/v
 > (bad)/Vである。
一方第4図bH記録面異常による影響を示す説明図であ
り、0次回折光での影響部27と一1次回折光での影響
部28がディテクター11上に現われ、それぞれ図中矢
印の方向に移動する。なお+1次回折光での影響部29
はディテクター上には現われない。第6図aは記録面異
常の1つ膜異常の一例を示しており膜異常32を有する
案内溝33上をビームスポット34が走査している。b
は和信号波形、Cは差信号波形であり、差信号波形の時
間幅はb/vに等しい。従って膜異常の時間幅b/vを
基材内異物の時間幅(7+ d )と比較して(、+d
)/v)b/vが成り立ち、差信侃基材内異物が低周波
、膜異常が高周波となる。よって第3図のLPF19も
しくは)(P F 2−1を設けることにより、LPF
後の差信号は基材内異物で振幅が大きく、膜異常で小さ
くなり、HPF後の差信号は基材内異物で小さく、膜異
常で大きくなる。また膜異常は基本的に膜異常と同じで
あるが、和信号において膜異常に比ベドロップアウト振
幅が極めて大きいため、LPFによってLPF後の差信
号か大きく出ることもある。第7図aは要因別の和信号
波形を示す説明図であり、b、dはLPF後の差信号、
CはHPF後の差信号を示している。基村内異物をイ、
溝異常をロ、膜異常をハに示す。第7図すによりLPF
後の差信号に±v1  の検出レベルを設けることで基
材内異物イ及び膜異常ハが検出されるが、膜異常口は検
出されない。またLPFの特性を向上させることで第7
図dの如きLPF後差信号が得られた場合、±v1//
の検出レベルを設けることによって基材内異物イは検出
されるが、膜異常ロ、膜異常ハは検出されない。
次に第7図CによpHPF後の差信号に±v1′の検出
レベルを設けることで、膜異常口、膜異常ハは検出され
るが、基材円異物イは検出されない。
なお第7図す、cを弁用することによシLPF後差信号
すで検出、HPF後差信号Cで未検出は基村内異物、L
PF後差信号すで未検出、HPF後差信号Cで検出は膜
異常、LPF後差信号す。
HPF後差信号Cとも検出は膜異常と、全要因を分別す
ることもできる。
発明の効果 以上述べてきたように、本発明によれば従来不可能とさ
れていたドロップアウトの要因分別が可能となり、ドロ
ップアウト検査装置とし、てきわめて有用である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例におけるドロップアウト検査
装置の原理図、第2図は同装置のディテクター上反射光
分布を示す図、第3図は同装置のドロップアウト検出回
路ブロック図、第4図a。 bはそれぞれ基村内異物、記録面異常の反射光分布に与
える影響を示す図、第6図aはレーザービーム径を示す
図、bは基村内異物の差信号波形図、第6図aは膜異常
の一例を示す図、bはその和信号波形図、Cはその差信
号波形図、第7図aは要因別の和信号波形図、b及びd
Fi、L P F後差信号波形図、CはHPF後差信号
波形図、第8図は従来のドロップアウト検査装置の原理
図、第9図は従来のドロップアウト検出回路ブロック図
である。 1・・・・・・レーザ42・・・・・・ビームスフリツ
タ、3・・・・・・λ/4板、4・・・・・・絞りレン
ズ、6・・・・・・基板、6・・・・・・記録面、7・
・・・・・凸レンズ、8・・・・・・ハーフミラ−19
・・・・・・ナイフエッヂ、10.11・・・・・・デ
ィテクター、16・・・・・・加算器、17・・・・・
・和信号、18・・・・・・減算器、19・・・・・・
LPF(低域通過F波器)、2o・・・・・・LPF後
差信号、21・・・・・・HPF(高域通過F波器)、
22・・・・・・HPF後差信号。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第3図 第5図 第7図 第8図 第9図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)案内溝の形成された記録媒体の面にレーザー光を
    前記案内溝を短軸方向とする楕円状に絞って照射するこ
    とにより得られた反射光を集光する絞りレンズと、前記
    反射光により焦点誤差信号を得て焦点制御を行なう手段
    と、前記反射光の0次回折光光軸と直交し±1次回折光
    光軸と交わる直線にて分割される前記反射光の2つの領
    域の光強度をそれぞれ検出し各検出信号の差信号を得る
    手段とを備え、前記差信号を1個もしくは複数のろ波器
    に通し、ろ波器後の差信号を適切な検出レベルで比較判
    別することを特徴とするドロップアウト検査装置。
  2. (2)差信号を低域ろ波器に通し低域ろ波器後の差信号
    を検出レベル±v_1で比較し、検出レベル±v_1を
    こえるものとこえないものとを判別することを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載のドロップアウト検査装置
  3. (3)差信号を高域ろ波器に通し高域ろ波器後の差信号
    を検出レベル±v_1′で比較し、検出レベル±v_1
    ′をこえるものとこえないものとを判断することを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載のドロップアウト検査
    装置。
JP60210782A 1985-09-24 1985-09-24 ドロツプアウト検査装置 Pending JPS6271031A (ja)

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