JPH06501458A - レチノイドとステロールを組合せて含有する医薬又は化粧料組成物 - Google Patents
レチノイドとステロールを組合せて含有する医薬又は化粧料組成物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
レチノイドとステロールを組合せて含有する医薬又は化粧料組成物
本発明は、相乗効果を有する、特に表皮角質化症、表皮又は上皮増殖症及び/又
は皮脂腺機能( sebaceousfunction)障害の処置に用いる医
薬又は、化粧料組成物であって、レチノイドの少なくとも1種及びコレステロー
ルの生合成の抑止剤であるステロイドの少なくとも1種を組合せて含んでいる組
成物に関する。
レチノイドのごとき細胞分化抑制剤が角質化異常の処置に広く用いられ又は推奨
されていることは公知である。
これらのレチノイドは特に表皮の角質膜( enveloppescornee
s) (EC)形成、すなわち、角質細胞分化の終末相を抑制する特性を育する
。用いられる生物学的作用の機構は公知である・これはEC合成において重要な
酵素である膜結合トランスグルタミラーゼ(TGm)の発現( expre−s
sion)の抑制である 例えばFEBS LETTERS Vol 258
Na1 p35−38(1989)、 Vol 229 NCLI p193−
+96(1988)及びVol186 N[L2. p20!−204(+98
5)及び、J.rnvest. Der+natolVo1 90 NCL4.
pl93−196(1988)参照。
そのほか25−ヒドロキシコレステロールもEC合成を抑制し得ることも公知で
ある。とくにεXp. Ce I 1. Res. I 71(1987)p.
426−435参照。
今般、25−ヒドロキシコレステロールによる角質膜合成の抑制は別の生化学的
機構から生じることが見出だされた。これはコレステロールの生合成の抑制であ
る。
また、TGmの発現を抑制し得るレチノイドとコレステロールの生合成を抑制し
得るステロールとを組合せて同時に含んでいる組成物はEC合成の抑制に関して
相乗効果を示すことも見出だされた。
これら二つの型の化合物は相互に独立の、二つの生化学的方法により作用する:
通常はこれらを組合せて用いた場合、別個に試験した場合に得られる活性の合計
に等しいEC合成抑制をもたらす活性か得られるものと予期されるはずである。
しかるに、意外なことに、上記の組合せは相乗効果を誘発することが見出された
:得られる抑制の程度は、組合せる成分を別個に用いた場合の抑制の程度の合計
より極めて明かにすぐれている。
本発明は、表皮角質化症、表皮又は上皮の増殖、その他のあらゆる障害及びその
他のあらゆる機能の不足又は過剰及び/又は皮脂腺機能を処置又は修正するため
の組成物であって、炎症性及び/又は免疫アレルギー性の成分を伴なうか又は伴
なわない、相異なる作用機構により細胞分化を抑制する2種の薬剤の組合せから
生じる相乗効果を有する組成物に関する。本発明の組成物は例えば結合組織変成
症、良性又は悪性腫瘍の処置、皮膚老化の防止、蜜痕の改良或いはまた角質化症
患者の皮膚外見の改良を行い得る。
本発明による組合せはまた眼科の領域においても、とくに角膜症の処置において
も利用される。
この組成物の使用には、特に細胞分化抑制剤の使用量を明かに低減させて十分な
活性を発揮させることができ、従って、この薬剤の副作用を制御し又は排除さえ
するという利点がある。こうして例えばレチノイン酸の活性より活性か遥かに弱
く従って毒性の低いレチノイド型化合物を使用し、しかも、相乗作用の効果によ
り同等の活性を発揮させることかてきる。
従って本発明の相乗効果を存する医薬又は化粧料組成品は
−TGmの発現を抑制し得るレチノイドの少なくとも1種
一コレスチロールの生合成の抑制剤であるステロールの少なくともIN
を組合せて含んでいることを特徴とする。
レチノイドはビタミンA、その天然の誘導体及びレチノイン酸の核受領体への親
和力のある合成誘導体のすへてからなる公知の化合物の一分類を構成する:例え
ばNouv、 Dermatol、 9.1.3−6(1936)参照。
“レチノイド″ (“retinoid”)という用語はこの定義に対応する化
合物(とくにレチノイン酸及びその誘導体及び後述するさまざまな類似のものも
包含する)を意味する。
本発明の組成物に使用できるレチノイドは例えばS、 Michel及び共同研
究者によりModels Dermatol、 。
Maibach et Lowe Eds、Karge、Ba5el Vol
4. p、4O−41(1989)に記載されている試験法に従ってTGm発現
を抑制し得るものである。
本発明の組成物に使用できるレチノイド又はレチノイド型活性のある物質として
は下記の誘導体ならびにそれらのエステル及びアミドを挙げることができるニー
全トランス−又は13−シスレチノイン酸、−ビタミンAすなわちレチノールな
らびにそのエステル、例えば、酢酸、プロピオン酸又はバルミチン酸レチノール
、
一ビタミンへのアルデヒドすなわちレチナール、−(全E)−9−(4−メトキ
シ−2,3,6−1リメチルフエニル) −3,7−シメチルー2.4.6.8
−ノナテトラエン酸(アシドレチン)、
−(E、E、E)−7−(2,3−ジヒドロ−1,1,3,3−テトラメチル−
IHインデン−5−イル)−3,7−シスチルー2、4.6−オクタトリエン酸
、
−(E、E、E)−7−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テ
トラメチル−2−ナフタレニル) −3,7−シスチルー 2.4.6−オクタ
トリエン酸、
−(E)−4−((2,3−ジヒドロ−1,1,3,3−テトラメチル−IH−
インデン−5−イル)−1−プロペニル〕安息香酸、
−(E)−4−(2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8゜8−テト
ラメチル−2−ナフタレニル)−1−プロペニル〕安息香酸、
−(E)−4−(2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−3−メチル−5,5,
8,8−テトラメチル−2−ナフタレニル)−1−プロペニル〕安息香酸、
−2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−
ナフチル)−6−ナフタレンカルホン酸、−(E)−4−(2−(5,6,7,
8−テトラヒドロ−5、5,8,8−テトラメチル−2−ナフタレニル)−1−
プロペニル〕ベンゼンースルホン酸、
−(E、E)−4−(2−メチル−4−(2,6,6−トリメチル−1−シクロ
ヘキセン−1−イル) −1,3−ブタジェニル〕安息香酸、
−(E、E)−4−(4−メチル−6−(2,6,6−トリメチル−1−シクロ
ヘキセン−1−イル) −1,3,5−ヘキサトリエニル)安息香酸、
−(E)−6−(2−(2,6,6−トリメチル−1−シクロへキャン−1−イ
ル)エチニルツー2−ナフタレンカルボ〉酸、
−(E、E)−5−(2−メチル−4−(2,6,6−)ウメチル−1−シクロ
ヘキセン−1−イル)−1,3−ブタジェニル〕−2−チオフェンカルボン酸、
−(ε)−4−(2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−8,8−ジメチル−2
−ナフタレニル)−1−プロペニル〕安息香酸、
−4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−
ナフタレニル)−エチニル〕安息香酸、−4−(5,6,7,8−テトラヒドロ
−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフタレニルカルバモイル)安息香酸、
−4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−
ナツタミド)−安息香酸、
−(E)−4−(3−(3,5−ジーtert−ブチルフェニル)−3−オキソ
−l−プロペニル)安息香酸、−6−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5
,8,8−テトラメチル−2−ナフタレニル)エチニル〕3−ピリジンカルボン
酸、
同様に下記の誘導体もあげることができる。
−仏間特許FR85,13747(PR2570377)記載の芳香族複素環レ
チノイド:例えば、
−2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−
ナフチル)−6−ベンゾ(b)チオフェンカルボン酸、
−2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−
ナフチル)−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸、
−2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−
ナフチル)−6−インドールカルボン酸、−2−(3−(1−アダマンチル)−
4−メトキンフェニル〕−5−ベンゾイミダゾールカルボン酸、−2−(5,6
,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)−5
−ベンゾイミダゾールカルボン酸、
一欧州特許出願EPO210929号記載の多環式芳香族レチノイド、例えば、
−4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−
アントラセニル)安息香酸ニー欧州特許出願EPOf99636号記載のベンゾ
ナフタレンレチノイド、例えば、
−6−(3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニルツー2−ナフトール
酸;
一欧州特許出願EPO232199号記載の芳香族ベンズアミドレチノイド、例
えば、
−4−(3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズアミド〕安息香酸ニ
ー欧州特許出願EPO325540号記載の芳香族ベンゾイルオキシチオレチノ
イド、例えば、
−4−(3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンゾイルチオ〕安息香酸又
は
−4−(3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンゾイルオキシ〕安息香酸
二
−欧州特許出願EPO220118号記載の二環式ナフタレンレチノイド、例え
ば、
−2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−
ナフチル)−6−カルボニルナフタレンカルボン酸ニ
ー仏間特許FR87−06152(2614618)号記載の二環式芳香族レチ
ノイド、例えば、
−p −(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2
−IH−ベンズ(f)インドリル)安息香酸;−仏間特許FR86−10423
(2601670)号記載の二環式芳香族レチノイド、例えば、
トランス−(5,5,8,8−テトラメチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−
2−ナフチル)−4−カルボニル−α−メチル桂皮酸。
欧州特許出願EP90−402072号記載の二芳香族エステルレチノイドであ
って、下記一般式:
〔式中、R1は水素原子、OH基、−CH3、−CH20H1又はSO□R3゜
基を表わし、R6は水素原子、炭素原子数1乃至6のアルキル基又はモノ−又は
ポリヒドロキシアルキル基を表わし、R3゜はOH基、炭素原子数1乃至6のア
ル数1乃至6のアルキル某マはアラルキル基を表わし−RIA子、炭素原子数1
乃至6のアルキル、アリール、アラルキル、モノ−又はポリヒドロキシアルキル
基を表わすか又はr′及びr#が一緒に複素環を表わし、R2が水素原子、炭素
原子数1乃至6のアルキル基、ORi基、弗素原子又は−CFa基を表わし、R
3,R4及びR1は水素原子、弗素原子、OH基、−CH,、−0CH2、−C
F、 、−COOHl又は−C)120)1基を表わし、R1及びR3は水素原
子、炭素原子数3乃至15のα−置換アルキル基、炭素原子数4乃至12のα−
α′ジ置換アルキル基、炭素原子数3乃至12のシクロアルキル基、炭素原子数
5乃至12の単環又は多環シクロアルキル基であって結合炭素に三置換のあるも
の、−3Rz、−3O□Rz又は−5DR++を表わす;R1+は炭素原子数1
乃至6のアルキル基又はシクロアルキル基を表わすが、R6及びR8か同時に水
素原子を表わすことはできない、R7は水素原子、炭素原子I乃至6のアルキル
基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、0R12、SR,、、SOR,、又は
SO□RI4基を表わし、R1□は水素原子、炭素原子数1乃至6のアルキル基
、アルケニル基、モノ−又はポリヒドロキンアルキル基又は−(CH,)。−C
OR,5基を表わし、nは0.1又は2てあり、R+sは水素、OH基、炭素原
子数1乃至6のアルキル基又は炭素原子数1乃至6のアルコキシ基を表わし、R
13は水素原子、炭素原子はOH基1.炭素原子数1乃至6のアルキル基又はア
ラルキル基を表わす:ただしR1が−CH20H1−CH(OH)CH3、−C
0OR,又は
(i)R2及びR4は水素原子でも−GHz基でもないか、又は(ii)R7は
0R12基ではなく、R1及びR3は炭素原子数7以上のシクロアルキル基であ
るか又は(iii)R7カ司RL2基を表わすか、R6及びR8は水素原子では
ないか(iv)R?かOR,□基を表わすがR6は水素原子ではないことを条件
とする〕を存するもの、特に、
−4−(3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンゾイルオキシ〕−2−フ
ルオロ安息香酸、−4−(3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンゾイル
オキシ〕−2−メチル安息香酸、−4−(3−(+−アダマンチル)−4−メト
キノベンゾイルオキシクー2−ヒドロキシ安息香酸、−4−(5−(1−アダマ
ンチル)−2−フルオロ−4−メトキシヘンジイルオキシ〕安息香酸、−4−(
3,5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシベンゾイルオキシ〕安息香酸、
−4−(3−(1−アダマンチル)−4−ビニルベンゾイルオキシ〕安息香酸、
−4−(3−(1−アダマンチル)−4−エチルベンゾイルオキシ〕安息香酸、
−4−(3−(1−アダマンチル)−4−アリルオキシベンゾイルオキシ〕安息
香酸、
−4−(3−(1−アダマンチル)−4−メチルチオベンゾイルオキシ〕安息香
酸。
一ルクセンブルク国特許出願87821号記載の下記一般式(1):
〔式中Arは式:
の基(nは1又は2である)又は式:
の基かを表わし、R3及びR,は水素原子、OH基、炭素原子数1乃至6のアル
コキシ基、炭素原子数3乃至12のα置換アルキル基、又は炭素原子数4乃至1
2のα、α′ジ置換アルキル基、炭素原子数3乃至12のシクロアルキル基、炭
素原子数5乃至12の単環又は多環シクロアルキル基であって結合炭素に三置換
のあるものを表わし、R4は水素原子、OH基、炭素原子数1乃至6のアルコキ
シ基、炭素原子数3乃至12のα置換アルキル基、炭素原子数4乃至12のα、
α′ジ置換アルキル基、炭素原子数3乃至12のシクロアルキル基、炭素原子数
5乃至12の単環又は多環シクロアルキル基であって結合炭素に三置換のあるも
の、モノヒドロキシアルキル基、ポリヒドロキシアルキル基、弗素原子、塩素原
子、SR基、SR,基、SOR,基、5OJs基、炭素原子数2乃至6のアルケ
ニル基又は炭素原子数2乃至6のアルケニルオキシ基を表わし、R6は低級アル
キル基を表わし、R1ft水素原子、OH基、CH2基、−CH20H基、−C
ORフ基、−CH(OH)CH3基、−CH,0COR8基、−5OIR。
基又は−SR,基を表わし、R7は水素原子、OH基、−OR,。
基、−N (r ’ r″)基、低級アルキル基、モノヒドロキシアルキル基、
ポリヒドロキシアルキル基又は糖残基を表わし、lLoは炭素原子数1乃至12
のアルキル基又は炭素原子数2乃至12のアルケニル基を表わし、r′及びr#
は同じものであるか又は相異なるものであって、水素原子、低級アルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アミノ酸残基、糖残基、アミノ糖残基又は複素環(こ
の場合、r′及びr#か一緒に複素環を形成する)を表わす;R8は炭素原子数
1乃至20の、飽和又は不飽和の直鎖の又は側鎖があるアルキル基又は糖残基を
表わし、R。
はOH基、低級アルキル基又は−N(r’r”)基を表わし、R2は水素原子、
OH基、低級アルキル基、炭素原子数1乃至6のアルコキシ基、弗素原子、塩素
原子、CF3基、COR,基、CH,OH基又はCH,OR,を表わし、Zは酸
素又は硫黄原子、二価−CM”CR++−基、二価−N=CH−基、又は二価−
N=CR,基を表わし、R1+は水素原子、OH基、低級アルキル基、炭素原子
数1乃至6のアルコキシ基、弗素原子、塩素原子又はCF、基を表わし、Xは左
から右へ又は逆に読み得る二価基でありかつ下記のものからなるグループから選
ばれる:
(R’は水素原子、CH,基を表わし、Wは酸素又は硫黄原子又は−NR’基を
表わし、Yは酸素原子を表わすか或いはまたWがNR’基のとき硫黄原子を表わ
す):(Qは酸素原子又はNR’を表わし、Yは酸素原子を表わすか或いはまた
Qか−NR’であるとき硫黄原子を表わ(R″は水素原子、−CH,基、OH基
、弗素原子、又は塩素原子を表わしあるいは、R′とR″とが一緒にメタノ基(
= CH2)又はオキソ基(=O)を表わす):(Yは酸素−又は硫黄原子を表
わす)〕の〕二環−芳香族レチノイドびR,かカルホン酸官能基を表わすときは
、式(1)の化合物の塩及び式(I)の該化合物の光学的異性体;とくに
−4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−
ナフチルグリオキシルオキシ)安息香酸、−4−(5,6,7,8−テトラヒド
ロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフトイルオキシメチル)安息香酸、
−4−(3,5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシベンゾイルオキシメチ
ル)安息香酸、
−4−(3−tert−ブチル−4−メトキシベンゾイルオキシメチル)安息香
酸、
−5−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−
ナフトイルオキシメチル)−2−チオフェンカルボン酸、
−4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−
ナフトイルメチルオキシ)安息香酸、−4−(1−(5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフトイルオキシ)エチル〕安息香
酸、−4−(((5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチ
ル−2−ナフチル)エチルオキシ〕カルボニル〕安息香酸、
−4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−
ナフトイルメチルアミノ)安息香酸、−4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−
5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフトイルホルムアミド)安息香酸、−4
−(α−ヒドロキシ−5,6,7,8−テトラヒドロ−5、5,8,8−テトラ
メチル−2−ナフチルアセトアミド)安息香酸、
−4−(α−フルオロ−5,6,7,8−テトラヒドロ−5、5,8,8−テト
ラメチル−2−ナフチルアセトアミ1−)安息、香酸。
Yが酸素原子である場合の式(I)の化合物を?早るための種々の反応工程か考
えら11る。
下記の反応工程をあげることかできる。Xか(i)かこの調製法の主要段階は無
水媒体中、第三アミン(トリエチルアミン)又はピリジン又はアルカリ水素化物
(水素化ナトリウム)を含有するテトラヒドロフラン又はメチレンクロリドのご
とき有機溶媒中において、置換芳香族酸又は置換アリール酢酸の活性化した形例
えば酸クロリド(1)又は(4)又は混合無水物を、ヒドロキシ又はアミノ又は
チオール官能基を有する芳香族化合物(2)又は(3)と反応させるにあり、そ
の反応を常温において攪拌しながら行なわせる。
R3が−COOH基を表わすとき、これらの化合物はR8をアリル、ベンジル又
はtert−ブチルの嬰の保護基によって保護して調製される。
遊離の形への移行は
一アリル保護基の場合、第三アミンの存在下においである種の遷移金属錯体のご
とき触媒によってニーベンジル保護基の場合、炭素上のパラジウムのごとき触媒
を用いて、水素の存在下において脱ペンシル化を行うことによって;
−tert−ブチル保護基の場合、トリメチルシリルヨーダイトによって;
行なうことかてきる。
Xか(ii)又は(v)かである場合・この調製法の主要段階は無水媒体中、第
三アミン(トリエチルアミン)又はピリジンを含有するメチレンクロリドのごと
き有機溶媒中において、例えばヒドロキシアリール誘導体及びクロロ蟻酸トリク
ロロメチル又は−ホスゲンから調製したクロロ蟻酸塩(1)又は(4)と、ヒド
ロキシ−又はアミノ官能基のある芳香族化合物(2)又は(3)とを反応させる
ことからなる。反応は常温において攪拌しながら行なわせる。
R,か−COOH基を表わす場合、これらの化合物は望ましくはヘンシル保護基
によりR1を保護して調製される。遊離の形への移行は、炭素上のパラジウムの
ごとき触媒を用いて水素の存在下において脱ヘンノル化を行うことによって行な
われる。
Xか(ii)である場合でかっZか酸素原子でない場合この調製法の主要段階は
炭酸カリウム又はアルカリ水素化物(水素化ナトリウム)の存在下において、又
は、第四アンモニウム塩として例えばテトラブチルアンモニウムプロミドを用い
る相間転移(phase transfer)により、芳香族α−ブロモケトン
とR+基に対してバラの位置にヒドロキシ又はアミン又はチオール官能基のある
芳香族化合物とを反応させるにある。
R1か−COOI(基を表わす場合、これらの化合物は望ましくはアリル保護基
によりR1を保護して調製される。遊離の形への移行は第2アミン(モルホリン
)の存在下においてテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)の
ごとき触媒によって行なわれる。
かくして得られる酸は公知の方法で対応する酸クロリドに転化でき、これをアル
コール(RgOH)又はアミンHN(r’)(r′)により処理することにより
対応のエステル又はアミドが得られる。
一仏間特許出願FR91−05394号記載の下記一般式(IV)・〔式中R5
は(i)水素原子、(ii) CH3基、(ii)−CH2−0−R1CR&は
水素原子又は低級アルキル基を表水素原子、低級アルキル基、モノ−又はポリヒ
ドロキシアルキル基、場合によっては置換基のあるアリール基又はアミノ酸の残
基又は糖の残基を表わし或いはまたr′とr′は一緒に複素環を形成する) 、
fc) ORz基(R,、は水素原子、炭素原子数1乃至2oの直鎖の又は側鎖
を存するアルキル基、モノ−又はポリヒドロキシアルキル基、場合によっては置
換基を有するアリール又はアラルキル基、又は糖残基又はアミノ酸残基を表わす
)を表わす)、(vi) −3(0)、 R,基(tは0.1又は2てありR8
は上記で定義した基である)及び
基(R,は上記で定義した基である)を表わし、R2は水素原子を表わし、R2
は水素原子、アリール基、アラルキル基又は場合によってはヒドロキシル、低級
アルコル基、ヒドロキシル基、低級アルコキノ基又はものである)を表わす)に
より置換されている低級アルキル基を表わすか、又はR2とR2とが一緒にベン
ゼン核とともにナフタレン核を形成し、R4は炭素原子数1乃至15の直鎖の又
は側鎖を有するアルキル基又は脂環基を表わし、R3は−(CH,)、−R,、
基、−CH=CH−(CH,)。
−R13基又は−〇 (CH,)、 R,4基(nはO又はl乃至6ヒドロキシ
アルキル基又はヒドロキシル基が場合によってはメトキシ又はアセトキシの形に
保護されているポリヒドロキシアルキル基、エポキシ化低級アルキル基又は−0
−C−R+を基を表わし、RIBはOR3,基又は[1
アリール基又はアラルキル基を表わし、R14はmか2以上のときはヒドロキシ
ル基を表わし、そのほか、モノヒドロキシアルキル基、ポリヒドロキシアルキル
基、10のモノ−又はポリヒドロキシアルケニル基を表わし、R2とR3とが組
合せられていないとき、mはOてあってもよく、及び/又は、RI4が水素原子
又は低級アルキル基を表わすことかできる)を表わし、R6及びR7は水素原子
、ハロゲン原子、低級アルキル基又は−0R16基を表わしR6とR3とは、そ
のほか、R6がベンゼン核の3の位置にあるときメチレンジオキシ環を形成する
ことができる〕の芳香族多環レチノイド及びR1又はR1がカルボン酸官能基を
表わすとき又はR14かアミン官能基を表わすとき、式(IV)の化合物の塩及
び式(IV)の該化合物の光学異性類似体;
とくに
−6−(3−(+−アダマンチル)−4−(2,3−ジヒドロキシプロピルオキ
シ)フェニルツー2−ナフトール酸、
−6−(3−(1−アダマンチル)−4−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)フ
ェニルツー2−ナフトール酸、−6−(3−(1−アダマンチル)−4−アセト
キシメチルフェニルクー2−ナフトール酸、−6−(3−(1−アダマンチル)
−4−メトキシカルボニルフェニル〕−2−ナフトール酸、−6−R3−(1−
アダマンチル)−4−メトキシカルボニルエチルフェニル〕−2−ナフトール酸
、−6−(3−(1−アダマンチル)−4−(2−ヒドロキシプロピル)フェニ
ルツー2−ナフトール酸。
R2とR3とがともにベンゼン核とともにナフタレン核を形成する式(IV)の
化合物は、ハロゲン化誘導体(])と式(2)のハロゲン化誘導体とのカップリ
ング反応によって作られる:
上記式中、X及びYは塩素、臭素又はヨウ素の原子を表わす。
初めに、ハロゲン化物(1)をリチウム、マグネシウム又は亜鉛化合物に変換し
次にE、Negishi等によりJ、 Org。
Chem、(1977) 42.1821に記載されているビアリール−カップ
リングの条件に従ってニッケル又はパラジウム触媒の存在下において誘導体(2
)とカップリングさせる。
R2とR3とか組合せられていない式(IV)の化合物はWittig又はHo
rner−Emmonsの反応を用いて下記の反応フローシートにより調製する
ことができる。
これらオレフィン化反応においては、立体配置Eの幾何学的異性体は立体配置Z
の幾何学的異性体から紫外線照射下の転位により調製することもてきる。
これらの式中においてR1、R4、R6及びR7は一般式について前記したもの
と同じ意味のものであるか、又はカップリング条件と両立し得るように適当に保
護されているその誘導体である。とくに置換基Rsはtert−ブチルジメチル
シリルオキシの形に保護されたフェノール又はアルコキシ基である。
得られた誘導体は引続いて置換基R5の位置におけるTBDMS又はアルコキシ
の脱保護によりフェノールに転化し次に下記2方法の一方により処理するニーか
くして得られたフェノールをハロゲン化物と反応させる金属水素化物により処理
するニ
ーかくして得られたフェノールをトリフラート(trif−Iate)に転化さ
せ次にパラジウム触媒の存在下において核性置換を行わせる。
一仏間特許出願FR91−05747号に記載のサリチル構成単位を有する下記
一般式(V)ニ
ア
〔式中R1は−CH,基、−CH208基、−COR,又は−CH20COR。
基(R,は水素原子、0H1−OR1゜、子数1乃至20のアルキル基、炭素原
子数2乃至20のアルケニル基、アリール基又はアラルキル基を表わし、r′及
びr’は各々同しものであるか又は相異なるものであって、水素原子、低級アル
キル基、アリール基、アラルキル基、アミノ酸残基、糖残基を表わすか、又は、
r′とr#とが一緒に複素環を形成する場合には複素環を表わし、R9は炭素原
子数1乃至20のアルキル基、炭素原子数2乃至20のアルケニル基又は糖残基
を表わす)を表わし、R2及びR2は−OR,,又は−〇CORII(R+ +
は水素原子、低級アルキル基、炭素原子数1乃至6及び弗素原子数3乃至7のフ
ルオロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表わす)を表わし、R1はそ
のほか水素原子を表わすことかでき、R4は水素原子、OR1低級アルキル基、
炭素原子数1乃至6のアルコキシ基、弗素原子、塩素原子又は−CF、基を表わ
し、R6及びR7は水素原子、OH1炭素原子数1乃至6のアルコキシ基、炭素
原子数3乃至12のα置換アルキル基又は炭素原子数4乃至12のα、α′ジ置
換アルキル基、炭素原子数3乃至12のシクロアルキル基、第三炭素によりフェ
ニル核に結合された炭素原子数5乃至12の単環又は多環環式基を表わし、R1
は水素原子、OR1低級アルキル基、炭素原子数1乃至6のアルコキシ基、炭素
原子数3乃至12のシクロアルキル基、モノヒドロキシアルキル基、ポリヒドロ
キシアルキル基、弗素原子、塩素原子、炭素原子数2乃至6のアルケニル基、又
は炭素原子数2乃至6のアルケニルオキシ基を表わし、R6及びR6又はR6及
びR7は一緒に隣接の芳香族環とともに三員又は六員の環であって、場合によっ
てはメチル基による置換されている及び/又は場合によっては酸素又は硫黄原子
により中断されている環を形成することかでき、Xは左から右へ又は逆に読み得
る、
(i ) −C(R13R14) −C(R+gR+s) −W −(ii)
−C(RzR+g) −W−C(R+*R+s) −(iii) −C(R,−
R,、) −C(R,sR,−)−C(R,−R2゜)−及び(iv) −CR
,□= CR21C(R+zR+4)−からなるグループから選ばれる二価基て
あり、これらの式中、Wは酸素原子、−NR,2基又は5(0)。(nは0.1
又は2である)を表わし、R+z、Rli及びR20は水素原子、−OR,、、
−0COR,、、NHCORz基、トロキシアルキル基又はポリヒドロキシアル
キル基を表わし、r″及びr″は、各々、水素原子、低級アルキル基、炭素原子
数2乃至6のアルケニル基又は炭素原子数2乃至6のアルキニル基を表わし、R
1a、’R11,R11及びRliは水素原子、アラルキル基、低級アルキル基
、モノヒドロキシアルキル又はポリヒドロキシアルキル基を表わし、Xか(i)
を表わすときはR1ff及びR14は二N−OR,,基又は= N −0COR
,、基を形成し、Xか(in)又は(1v)を表わ丁ときはR14,R16及び
R18は=OR,,基又は−0COR,、基も表わすことかできあるいはR1−
、Rz及び/又はFits、 Rz或いはまr:l’7,3.R’+4及びR+
8.R20は一緒にオキソ基を形成することかでき、或いはまた、Rl’3.
R14・ 又はRI5. Rliか一緒に−NOR,,基又は= N −0CO
Rz基を形成することができ、R1□は水素原子、低級アルキル基、アラルキル
基、炭素原子数2乃至6のアルケニル基、炭素原子数2乃至6のアルキニル基又
は炭素原子数1乃至6及び弗素原子数3乃至7のフルオロアルキル基を表わし、
R1□は水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基又は炭素原子数1乃至6の
アルコキシ基を表わし、R21は水素原子又は低級アルキル基を表わす〕の二環
芳香族レチノイド及びR1かカルボン酸官能基を表わすとき又はRli RI@
又はR20かアミン官能基を表わすときは式(V)の化合物の塩及び式(V)の
化合物の光学的異性体、特に、
−2−ヒドロキシ−4−〔2−ヒドロキシ−2−(5゜6、7.8−テトラヒド
ロ−5,5,8,8−テトラメチル−2=ナフチル)エトキシ〕安息香酸、
−2−ヒドロキシ−4−〔2−ヒドロキシ−2−(5゜6、7.8−テトラヒド
ロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)エトキシ〕安息香酸メチル
、−2−ヒドロキシ−4−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(5,6,7,8−テ
トラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)エトキシ〕安息香
酸、−2−アセチルオキシ−4−〔2−アセチルオキシ−2−(5,6,7,8
−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)エトキシ〕安
息香酸、−2−ヒドロキソ−4−〔2−アセチルオキシー2−(5,6,7,8
−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチルー2−ナフチル)エトキシ〕安
息香酸、
−2−アセチルオキシ−4−C2−ヒドロキシ−2−(5,6,7,8−テトラ
ヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)エトキシ〕安息香酸。
式(V) (7)化合物特に、下記式(Va)、 (Vb)、(Vc)、(Vd
)及び(Ve)の化合物は下記反応フローシートに従って調製できるニ
ア
この調製法の第1段階は無水媒体中、DMFのごとき有三アミン(ピリジン又は
トリエチルアミン)又はアルカリ水素化物(水素化ナトリウム)の存在下におい
て反応させて式(3)の化合物を得ることからなる。
主要段階はジオキサン、メタノール又はTI(Fなどの有機溶媒中、炭素上のパ
ラジウムのごとき触媒の存在下において式空の化合物に水素添加することからな
る。
水素添加は温度20乃至60℃、水素圧1乃至7バールにおいて実施でき、同時
に、遊離酸を形成させがっケトン官能基を還元することができる。
化合物(3)にヒドロキシルアミンを作用させることによりヒドロキシミノが得
られる。このヒドロキシイミノを還元することにより対応のアミノ化合物が得ら
れる。
X=(i)である一般式(V)の化合物は、ジクロロメタン、ジクロロエタンな
どの塩素化溶媒又はニトロメタン、ニトロベンゼンなどの含窒素溶媒中、ルイス
酸溶媒中、NaBH4などのアルカリ水素化物を使用して還元してアルコールと
する。
創すス″″、1−h1ア各ス−
X=(ii)てあ6一般式(V)の化合物は、DMF又ハTHFなとの有機溶媒
中、ピリジン又はトリエチルアミンなとの第三アミンの存在下において、又は、
アセトン又はメチルエチルケトンなとの溶媒中、炭酸カリウムなどのアルカリ炭
酸塩の存在下において、置換ベンジルブロア
X=(iv)である一般式(V)の化合物は、アルコール性溶媒(エタノール)
中、炭酸ナトリウム又はナトリウムメチラートのごとき塩基の存在下において、
置換アセトフェン(9)と置換ベンズアルデヒドαO)とを反応させることによ
り調製することができる。かくして得られたカルコン01)をアルコール性溶媒
中、触媒(CeCl3)の存在下においてNaBH4なとのアルカリ水素化物に
よって還元してアリルアルコール(Vd)を得る。
ジオキサン又はメタノールなどの溶媒中、炭素上のパラジウムのごとき触媒の存
在下において、化合物(Vd)を水素添加することによって、X= (ii)で
ある一般式(V)の化合物が得られる。
アルコール(Vb)、 (Vd)又は(Ve)から出発して、ミツノブ型反応に
よりアジド誘導体が得られ、これを転化させてアミノ誘導体とすることができる
。
酸無水物又は酸クロライドとアミノ誘導体との反応により対応のアミドが得られ
る。
X基が、化合物(Va)、 (Vb)、 (Vd)又It(Ve)か得られる前
記フローシートに対して逆に読まれる場合には、これらのフローシートに記載の
反応により適切な置換基のある原料を用いてこれらの化合物か得られる。
Xがジー又はトリヒドロキシル化基を表わすとき、式(V)の化合物は対応のエ
チレン化合物のエポキシ化及びアルカリ性媒体中又は水素化物の存在下における
エポキシ官能基の開放によって調製される。
−仏間特許出願FR91−05883記載のイミンから導かれた一般式(■):
〔式中R1は水素原子、OH基、−CH3基、−CH20H基、−C0RT基、
−CH(OH)CH3基、−CM!0COR,基、 5OzRs基、SORe基
又はSR,基を表わし、R7は水素原子、OH基、キシアルキル基、ポリヒドロ
キシアルキル基又は糖残基を表わし、R−は炭素原子数1乃至20の直鎖の又は
側鎖があるアルキル基、炭素原子数2乃至20のアルケニル基、又は糖残基を表
わし、R,はOH基、低級アルキル基又はルキル基又は炭素原子数2乃至20の
アルケニル基を表わし、r′及びr#は、各々、水素原子、低級アルキル基、ア
リール基、アラルキル基、アミノ酸残基、糖残基、アミノ糖残基を表わすか又は
、r′とr″とか一緒に複素環を形成する場合には、複素環を表わし、R2及び
R6は水素原子、OH基、低級アルキル基、炭素原子数1乃至6のアルコキシ基
、弗素原子、塩素原子又はCF、基を表わし、R2及びR1は炭素原子数4乃至
12のα、α′−ジ置換アルキル基又は炭素原子数5乃至12の単環又は多環の
、結合炭素に三置換のあるシクロアルキル基を表わし、R4は水素原子、OH基
、炭素原子数1乃至6のアルコキシ基、炭素原子数4乃至12の、α、α′−ジ
置換アルキル基を表わし、R3及びR4又はR4及びR6は一緒に隣接のベンゼ
ン核とともに、2乃至6個のメチル基により置換されている、炭素原子数5又は
6の環を形成することができ、Zは酸素又は硫黄原子、二価基−CH=CRI、
−又は二価基−N=CR,2を表わし、Rzは水素原子、OH基又は低級アルキ
ル基を表わし、R12は水素原子又は低級アルキル基を表わし、
Xは(j ) CR13= N −
の基のうちから選ばれ、R12はR1基、OR1,基、−SR,。
低級アルキル基、低級フルオロアルキル基、炭素原子数2乃至6のアルケニル基
、炭素原子数2乃至6のアルキニル基、アリール基又はアラルキル基を表わし、
R14は低級アルキル基を表わし、Rzsは低級アルキル基又は低級フルオロア
ルキル基を表わす〕の芳香族レチノイド、特に、
−4−(N−メチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5゜8.8−テトラ
メチル−2−ナフチルカルボキシアミジノ)安息香酸、
−4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−
ナフチルカルボキシアミジノ)安息香酸。
Xか(i)でありイミン結合を表わすときは、化合物(W)はメチレンクロリド
などの無水溶媒中、脱水剤たとえば塩基性アルミナの存在下において、場合によ
っては置換のあるバラアミノ安息香酸酸アリルと置換基のあるベンズアルデヒド
とを反応させることによって調製される。
Xが(ii)でありイミン結合を表わすときは、化合物(VI)は前記のものと
同じ条件下において置換アニリンと、アリルエステルの形に保護された酸官能基
により置換されている芳香族アルデヒドとの反応によって調製される。
Xか(i)でありイミデート、チオイミデート又はアミジン結合を表わすときは
、化合物(VI)は下記反応フローシートに従って調製される:
Xか(ii)でありイミデート、チオイミデート又はア第1の段階は無水媒体中
、第三アミン(ピリジン又はトリエチルアミン)を含有しているテトラヒドロフ
ラン又はメチレンクロリドなどの有機溶媒中において、活性化した形の置換安息
香酸例えば酸クロライド史又は混合無水物と、場合によっては置換されているパ
ラアミノ安息香酸アリル(2)とを反応させることからなる。反応は常温におい
て攪拌しながら行なわれる。
かくして得られたアミド(3)は塩化チオニル、五塩化燐又はホスゲンの作用に
よりイミノクロライド(4)に転化させる。
テトラヒドロフラン又はメチレンクロライドなどの有機溶媒中、第三アミン及び
アルカリ水素化物の存在下にされることは公知である。出発点はアセチル補酵素
Aミジンを表わすとき、下記の化合初空及び辺から前記と同様にして調製か行な
われる:
(アセチルCoAと略称される)であり、これが縮合反応によってアセトアセチ
ルCoAを生じ、これか別のアセチルCoAの分子との反応によりベータヒドロ
キシ−ベータメチル−グルタリルCoA (略してHMG CoA)をもたらす
。
これらの反応にはHMG CoAシンセターゼが触媒として作用する。HMG
CoAはHMG CoA還元酵素により還元されてメバロン酸になる。メバロン
酸は3 ATPとの反応によりホスホリル3個を固定し、得られた化合物は脱カ
ルボキシル化により変形しピロ燐酸イソペンテニルになる。後者はイソメラーゼ
の作用により異性体化してピロ燐酸ジメチルアリルになる。ピロ燐酸イソペンテ
ニル2分子とピロ燐酸ジメチルアリル1分子との反応により、二量体(ピロ燐酸
ゲラニル) (geranyl pyrophosphate )を介して、三
量体ピロ燐酸7フルネシル(farnesil pyropho−sphate
)が得られる。三量体2分子か縮合して六量体スクワレンを形成する。特に、2
,3−オキシトスクワレンジクラーゼの介入する複合速比反応によりスクワレン
が24、25−ジヒドロラノステロールになり、次にラノステロールになる。ラ
ノステロールは引続いて変化して14−デスメチルラノステロールになり、これ
が4の位置のメチル基2個を失なってジモステロール(zymosterol)
になり、これか異性体化してコレスタ−7,24−ジエノールになり、次にデモ
ステロールになる。24.25の二重結合の還元により最後にコレステロールが
得られる。
本発明の組成物に使用できるステロールはコレステロールの生合成を任意の段階
において抑止できるものである。特にHMG CoA還元酵素抑制剤、2.3−
オキシドスクワレンサイクラーゼ抑制剤、24.25−ジヒドロラノステロール
代謝抑制剤、ラノステロールからデモステロールへの転化の抑制剤又はデモステ
ロールからコレステロールへの転化の抑制剤か問題となり得る。
HMG CoA還元酵素抑制剤としては、特に、コレステロール構造体上に又は
その誘導体の構造体上に、3の位置のヒドロキシルのほかに少なくとも1個の含
酸素置換基(酸素化置換基)のあるステロールがあげられる。含酸素置換基は例
えばヒドロキシル、オキソ、エホキシ、ペルオキシド、又はカルボニルであるこ
とができる。この置換基はたとえば4. 7.14.15.20.22.24.
25又は26の位置にあり得る。例として25−ヒドロキシコレステロールかあ
げられる。
H^IG CoA還元酵素抑制剤としては、6−ニトロコレステロールもあげる
ことができる。
2.3−オキシドスクワレンノクラーセ抑制剤としては、例えば、2−アサ−2
,3−ジヒドロスクワレン又はその誘導体及びN−C(+、5.9)〜トυメチ
ルデシル〕−4α。
IO−ジメチル−8−アザアートランス−デカール−3β−オールかあげられる
。
24.25−ジヒドロラノステロール代謝抑制剤としてはラノステロールの8,
9の位置に不飽和のある、ある種の含酸素誘導体、特に、
7−オキフランスト−8−エン−3β−オール、3β−アセトキシラフスト−8
−エンーフーオン、7−オキツラノストー5.8.11−)リエンー3β−オー
ル
を挙げることかできる。
デモステロールからコレステロールへの転化の抑制剤としては、特に20.25
−ジアザコレステロールを挙げることかできる。
ラノステロールからコレステロールへの代謝経過に従ったラノステロール生合成
後の段階におけるコレステロール生合成の抑制剤としては特に、22−オキジイ
ミノコレステロールを挙げることができる。
本発明の組成物中においてレチノイドは組成物全重量に対してo、 oooi乃
至50重量%の比率で一般に存在しており、ステロールのモル濃度対レチノイド
のモル濃度の比率は0.1乃至10と変動させ得る。
本発明の組成物は上記の有効成分のほかに、局所(皮膚及び粘膜)、眼又は組織
経由の投与に適合する医薬担体を含んでいる。
相乗効果のある組合せの二つの成分はそのほか別個に、同じ経路又は相異なる経
路を通って投与することもでき、従って本発明はまた適宜な包装内に収容された
かつ一方の、適当な容器内の上記定義のとおりのレチノイドの少なくとも1種と
、他方の、第2の容器内のコレステロール生合成抑制剤ステロールの少なくとも
1種とを包含する三部分からなる組成物も対象とする。この三部分組成物はその
ほか両有効成分の同時の又は順次の投与を推奨する使用法がある。
局所経由投与のために、本発明の医薬又は化粧料組成物は例えば軟膏、クリーム
、乳液、ポマード、粉末、湿潤タンポン、溶液、ゲル、スプレー、シャンプー、
洗浄ローション、或いはまた懸濁液、微小球、又はナノ球(nanospher
e) 、脂質又はポリマー小胞(vesicle)又はポリマー絆創膏の形の組
成物を提供するのに必要な担体及び成分を包含する。
眼経由投与用には本発明の組成物は点眼薬の形とする。
経口投与用には本発明の組成物は溶液、懸濁液、ゲル、ペースト、脂質、又はポ
リマー小胞の形とする。
局所、眼又は口経由用の組成物中には、組成物全重量に対して0.0001乃至
1重量%の比率でレチノイドが存在している。一般に1日に1又は2回、組成物
を処置すべき帯域に適用する。
組織経由投与用には本発明の医薬組成物は錠剤、カプセル、糖衣錠、シロップ、
稀釈性粉末、顆粒、微小球、ナノ球、脂質又はポリマー小胞、乳濁液、懸濁液又
は溶液の形とすることができ、これらは経口、潅注又は注射により投与される。
経口投与される組成物中には一般にレチノイドが組成物の全重量に対して0.0
1乃至50重量%の比率で存在している。
潅注又は注射により投与される組成物中には一般的にレチノイドは組成物の全重
量に対して0.0001乃至1重量%の比率で存在している。
本発明はまた少なくとも1種のレチノイド及び少なくとも1種のステロールを組
合せて、とくに表皮角質化症、表皮又は上皮増殖のあらゆる障害又はあらゆる機
能過不足及び/又は皮脂腺機能障害の処置又は治療のための医薬又は化粧料組成
物の調製に用いることも対象とする。
かくして調製された組成物は結合組織の変性及び良性又は悪性腫瘍を含めて、炎
症性及び/又は免疫アレルギー性構成部分が存在するか又は存在しない前記の障
害を、処置するのに、また、皮膚老化を防止する雨痕化を助成するのに又は角質
化症の又は脂漏の患者の皮膚の外見を改良するのに役立ち得る。
特に、本発明記載の組合せは、
一分化及び増殖に基く角質化の不調に関連した皮膚病、とくに通常の座癒、面飽
(黒にきび) (comedon)又は多形座癒(ポリモルフ)、小節−のう胞
性座癒(acne’5nodulo−kystiques)、集塊(congl
obata)、老年性座癒、日光性、薬物性、職業性なとの二次的座癒の処置−
他の型の角質化障害、特に魚鱗麻、魚鱗状態、フリエ病、掌蹟角化症、白色角化
斑、及び白色角化斑状懸ならびに苔癖の処置
一炎症及び/又は免疫アレルギー成分を伴なう角質化障害に関連したその他の皮
膚疾患特に、あらゆる型の皮膚、粘膜又は爪の靴磨、靴磨性リューマチ、或いは
また湿疹なとの皮膚アトピーの処置
−あらゆる良性又は悪性の皮膚増殖、例えばウィルス由来のもの例えば通常のい
ぼ、平らないぼ及びいぼ状表皮異形、又は紫外線誘発のもの例えば基底及び練細
胞上皮腫のケース、癌−又は前癌症状、特に皮膚レベルにおける処置におけるも
の、などの処置
−その他の皮膚不調、水痘性皮膚疾患及び膠原病などの処置
一皮膚老化例えば光線誘発又は経時のものの防止、又は、化学線による色素沈着
又は角化症の低減−局所又は全身のコルチコステロイドに誘発された表皮及び/
又は皮膚の萎縮の徴候の予防又は治療−秦痕化(癒傷)の助成
一若干の眼病とくに角膜症の処置
一皮脂腺障害、座癒脂漏充進又は単純性脂漏の治療−皮膚の膠原性及び弾力性繊
維の老化、成長の縞、コルチコイド後の縞、及び妊娠後期の縞(後者の場合、処
置は妊娠の後に実施すべきである)なとの回復−歯周(paradonte)の
変性的又は破壊的又は炎症性症状とくに歯肉炎及び歯肉弛緩(paradont
clasies)の治療に向けられる。
本発明の組成物はまた美容領域とくに身体衛生にまた毛髪用(抗脂漏作用)にも
用いられる。
下記の実施例は本発明を説明するもので決してこれを限定するものではない。
下記のローションを調製した:
実施例1:
ポリエチレングリコール400 49.850g95%エタノール 50.00
0g
2− (5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−
ナフチル)−5−ベンゾイミダゾールカルボン酸 0.025g25−ヒドロキ
シコレステロール 0.0751iiブチルヒドロキシトルエン 0.050g
実施例2:
ポリエチレン 59.89g
95%エタノール 30g
イソプロパツール 10g
ブチルヒドロキシトルエン 0.05gレチノイン酸 0.01g
25−ヒドロキシコレステロール 0.05gこれらのローションを毎日2回皮
膚に適用する。
実施例3及び4ニゲル
下記のゲルを調製した。
実施例3:
ヒドロキシプロピルセルロース 2.50g95%エタノール 97.41g
ブチルヒドロキシトルエン 0.05gレチノイン酸 0.01g
25−ヒドロキシコレステロール 0.031ii実施例4:
ミリスチン酸イソプロピル 89.90gコロイド質シリカ lOg
α−トコフェロール 0.025g
レチノイン酸 0.025g
25−ヒドロキシコレステロール 0.05gこれらのゲルを毎日2回皮膚の患
部に適用する。
実施例5:乳濁液E/H(油中水型)
一方で、蒸留水中にバラヒドロキシ安息香酸メチルを、他方ですイセリン中にパ
ラヒドロキシ安息香酸プロピルを、高温(60°乃至70°C)、不活性雰囲気
中において機械的に攪拌しながら溶解させて下記の乳濁液を調製した。
温度を維持しながらまた不活性雰囲気を保ちながら、水性部分を引続いて機械的
に攪拌しなからオイセリン中にゆっくり乳濁させる。温度を40℃に低下させた
後、光を遮断して攪拌しなからα−トコフェロール、25−ヒドロキシコレステ
ロール次にレチノイン酸を合体させる。
無水オイセリン 40. g
パラヒドロキシ安息香酸メチル 0.075gパラヒドロキシ安息香酸プロピル
0.075gα−トコフェロール 0.050g
蒸溜水 59.70g
レチノイン酸 0.025g
25−ヒドロキシコレステロール 0.075g無水才イセリンはBDF社から
市販の炭化水素基質の精製油、ワックス及び乳化性ラノリンアルコールの混合物
である。
実施例6及び7:乳濁液(水中油)
一方で、油溶性防腐剤を脂肪体と、乳化剤との溶融混合物に、他方でバラヒドロ
キシ安息香酸メチルを蒸溜水に、高温(70°C)、不活性雰囲気中において溶
解させて下記乳濁液を調製した。温度を維持しながらまた不活性雰囲気を保ちな
から油質部分を引続いて攪拌しながら水性部分中に乳化させる。温度を40℃ま
で低下させた後に、光を遮断して攪拌しなから25−ヒドロキシコレステロール
を、次に、レチノイン酸を合体させる。
実施例6
ラウリル硫酸ナトリウム 1.00g
1−2プロパンジオール 10.00g1−ヘキサデカノール 18.00g
パラヒドロキシ安息香酸プロピル 0.075gバラヒドロキシ安息香酸メチル
0.075gブチルヒドロキシ゛トルエン 0.050g蒸溜水 70.76
g
レチノイン酸 0.010g
25−ヒドロキシコレステロール 0.030g実施例7:
ステアリン酸グリセリル 15.00gソルビタンモノステアレート 4. O
Ogエチレンオキシド20モルによりポリオキシエチレン化したソルビタンモノ
ステアレートi、 00g
2−オクチルドデカノール 10.00gパラヒドロキシ安息香酸メチル 0.
15g蒸溜水 69.805g
ブチルヒドロキシトルエン 0.01gレチノイン酸 0.01g
25−ヒドロキシコレステロール 0.025g実施例5乃至7の乳濁液はクリ
ームを構成し、毎日2回皮膚の患部に適用てきる。
実施例8:
ゲル−クリーム
バルミンチン酸レチノール 0.050g25−ヒドロキシコレステロール 0
.050g水素添加した大豆レシチン 5.000gα−トコフェロール 0.
005g
パラヒドロキシ安息香酸メチル o、 100gパラヒドロキシ安息香酸プロピ
ル 0.050gB HT 0.050g
カルボキシビニルポリマー(Carbopo1940) 0.500g5%Na
OHp87.0に必要の量
蒸溜水 を加えて 100.000g
実施例9:
歯肉用ゲル
化合物130.025g
16−二トロコレステロール 0.075gヒドロキシプロピルセルロース 2
.500gバラヒドロキシ安息香酸メチル 0.150gバラヒドロキシ安息香
酸プロピル 0.050gプロピレングリコール 5.000g
・ 滅菌水 を加えて too、 000g6化合物1 : 2−(5,6,7
,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)−5−ベ
ンズイミダゾールカルボン酸
S V −40により変形したヒトの角化細胞の培養中の角、質化被膜(EC)
の生成に及ぼす化合物の作用レチノイド及びステロールの組合せが角質化被膜生
成に及ぼす作用を、S、IJtchel及び共同研究者によりModelsDe
rmatol、Mafbach et Lowe Eds、Karger、Ba
5el Vol、4.p。
4O−44(1989)に記載されている方法に従って評価した。
実施例工・レチノイン酸及び25−ヒドロキシコレステレチノイン酸 0.01
gMO%−10%1.00gM 80%−100%
25−OHコレステロール 0.026gMO%−10%−ル
化合物 使用量 EC生成抑制
化合物1 0.50gM、 10%
25−OHコレステロール 1.28μM 55%0化合物1 : 2−(5,
6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)−
5−ベンズイミダゾールカルボン酸
手続補正書(自発)
平成5年1月19日
Claims (21)
- 1.膜トランスグルタミナーゼ生成を抑制し得るレチノイドの少なくとも1種及 びコレステロール生合成抑制剤であるステロールの少なくとも1種を組合せて包 含していることを特徴とする医薬又は化粧料組成物。
- 2.該レチノイドは −全トランス又は13−シス−レチノイン酸、−(全E)−9−(4−メトキシ −2,3,6−トリメチルフェニル)−3,7−ジメチル−2,4.6,8−ノ ナテトラエン酸、 −(E.E.E)−7−(2,3−ジヒドロ−1,1,3,3,−テトラメチル −1H−インデン−5−イル)−3,7−ジメチル−2,4,6,8−オクタト リエン酸、(E.E.E)−7−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8 ,8−テトラメチル−2−ナフタレニル−3,7−ジメチル−2,4,6−オク タトリエン酸、 (E)−4−〔(2,3−ジヒドロ−1,1,3,3−テトラメチル−1H−イ ンデン−5−イル)−1−プロペニル〕安息香酸、 (E)−4−〔2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラ メチル−2−ナフタレニル)−1−プロペニル〕安息香酸、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナ フチル)−6−ナフタレンカルボン酸、(E)−4−〔2−(5,6,7,8− テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフタレニル)−1−プロ ペニル〕ベンゼンスルホン酸、 (E.E)−4−〔2−メチル−4−(2,6,6−トリメチル−1−シクロヘ キセン−1−イル)−1,3−ブタジエニル〕安息香酸、 (E.E)−4−〔4−メチル−6−(2,6,6−トリメチル−1−シクロヘ キセン−1−イル)−1,3,5−ヘキサトリエニル〕安息香酸 (E)−6−〔2−(2,6,6−トリメチル−1−シクロヘキセン−1−イル )−エテニル〕−2−ナフタレンカルボン酸、 (E.E)−5−〔2−メチル−4−(2,6,6−トリメチル−1−シクロヘ キセン−1−イル)−1,3−ブタジエニル〕−2−チオフェンカルボン酸、 (E)−4−〔2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−8,8−ジメチル−2− ナフタレニル)−1−プロペニル〕安息香酸、4−〔(5,6,7,8−テトラ ヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフタレニル)−エテニル〕安息 香酸、(E)−4−〔2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−3−メチル−5, 5,8,8−テトラメチル−2−ナフタレニル)−1−プロペニル〕安息香酸、 4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナ フタレニルカルバモイル)安息香酸、4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5 ,5,8,8−テトラメチル−2−ナフタミド)安息香酸、 (E)−4−〔3−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)−3−オキソ− 1−プロフェニル〕安息香酸、6−〔(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5 ,8,8−テトラメチル−2−ナフタレニル)エチニル〕3−ピリジンカルボン 酸、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナ フチル)−6−ベンゾ(b)チオフェンカルボン酸、 2−(5,6,7,8−チトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナ フチル)−6−ベンゾ(b)フランカルボン酸、2−(5,6,7,8−テトラ ヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)−6−インドールカル ボン酸、2−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシフェニル〕−5−ベン ズイミダゾールカルボン酸、2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8 ,8−テトラメチル−2−ナフチル)−5−ベンズイミダゾールカルボン酸、 4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ア ントラセニル)安息香酸、 6−〔3−(1−アダマンチル)4−メトキシフェニル〕−2−ナフトエ酸、 4−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンズアミド〕安息香酸、 4−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンゾイルチオ〕安息香酸、 4−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンゾイルオキシ〕安息香酸、 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナ フチル)−6−カルボニル−ナフタレンカルボン酸、 p−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−1 H−ヘンス〔f〕インドリル)安息香酸、トランス−(5,5,8,8−テトラ メチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−2−ナフチル)−4−カルボニル−α −メチル桂皮酸、 ビタミンAすなわちレチノールならびにそのエステル、酢酸−プロピオン酸−又 はパルミチン酸レチノールなどビタミンAアルデヒドすなわちレチナール、4− 〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンゾイルオキシ〕−2−フルオロ 安息香酸、4−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンゾイルオキシ〕 −2−メチル安息香酸、4−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシベンゾ イルオキシ〕−2−ヒドロキシ安息香酸、4−〔5−(1−アダマンチル)−2 −フルオロ−4−メトキシベンゾイルオキシ〕安息香酸、4−〔3,5−ジ−t ert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾイルオキシ〕安息香酸、 4−〔3−(1−アダマンチル)−4−ビニルベンゾイルオキシ〕安息香酸、 4−〔3−(1−アダマンチル)−4−エチルベンゾイルオキシ〕安息香酸、 4−〔3−(1−アダマンチル)−4−アリルオキシベンゾイルオキシ〕安息香 酸、 4−〔3−(1−アダマンチル)−4−メチルチオベンゾイルオキシ〕安息香酸 、 4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナ フチルグリオキシロイルロキシ)安息香酸、4−(5,6,7,8−テトラヒド ロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフトイルオキシメチル)安息香酸、 4−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾイルオキシメチル )安息香酸、 4−(3−tert−ブチル−4−メトキシベンゾイルオキシメチル)安息香酸 、 5−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナ フトイルオキシ−メチル)−2−チオフェンカルボン酸、 4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナ フトイルメチルオキシ)安息香酸、4−〔1−(5,6,7,8−テトラヒドロ −5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフトイルオキシ)エチル〕安息香酸、 4−〔〔(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2 −ナフチル)エチルオキシ〕カルボニル〕安息香酸、 4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナ フトイル−メチルアミノ)安息香酸、4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5 ,5,8,8−テトラメチル−2−ナフトイル−ホルムアミド)安息香酸、4− (α−ヒドロキシ−5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメ チル−2−ナフチルアセトアミド)安息香酸、 4−(α−フルオロ−5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラ メチル−2−ナフチルアセトアミド)安息香酸、 6−〔3−(1−アダマンチル)−4−(2,3−ジヒドロキシプロピルオキシ )フェニル〕−2−ナフトエ酸、6−〔3−(1−アダマンチル)−4−(3− ヒドロキシプロピルオキシ)フェニル〕−2−ナフトエ酸、6−〔3−(1−ア ダマンチル)−4−アセトキシメチルフェニル〕−2−ナフトエ酸、 6−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシカルボニルフェニル〕−2−ナ フトエ酸、 6−〔3−(1−アダマンチル)−4−メトキシカルボニルエチルフェニル〕− 2−ナフトエ酸、6−〔3−(1−アダマンチル)−4−(2−ヒドロキシプロ ピル)フェニル〕−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−4−〔2−ヒドロキシ− 2−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナ フチル)エトキシ〕安息香酸、 2−ヒドロキシ−4−〔2−ヒドロキシ−2−(5,6,7,8−テトラヒドロ −5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)エトキシ〕安息香酸メチル、 2−ヒドロキシ−4−〔2−ヒドロキシアミノ−2−(5,6,7,8−テトラ ヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)エトキシ〕安息香酸、 2−アセチルオキシ−4−〔2−アセチルオキシ−2−(5,6,7,8−テト ラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)エトキシ〕安息香酸 、 2−ヒドロキシ−4−〔2−アセチルオキシ−2−(5,6,7,8−テトラヒ ドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)エトキシ〕安息香酸、 2−アセチルオキシ−4−〔2−ヒドロキシ−2−(5,6,7,8−テトラヒ ドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチル)エトキシ〕安息香酸、 4−(N−メチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメ チル−2−ナフチルカルボキシアミジノ)安息香酸、 4−(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナ フチルカルボキシアミジノ)安息香酸、のうちから選ばれることを特徴とする請 求項1の組成物。
- 3.該抑制剤ステロールはコレステロールの又はラノステロールの炭化水素骨格 を有しかつそのほかにアルキル−、含酸素−及び/又は含窒素置換基の少なくと も一個及び/又は不飽和結合の少なくとも1個を有する化合物のうちから選ばれ ることを特徴とする請求項1の組成物。
- 4.コレステロール合成の該抑制剤であるステロールは3−ヒドロキシ−3−メ チル−グルタリル副酵素A還元酵素の抑制剤であることを特徴とする先行請求項 の何;れかに記載の組成物。
- 5.該抑制剤ステロールはコレステロール構造体上に又はその誘導体構造体上3 の位置のヒドロキシル基以外に含酸素置換基の少なくとも1個を有するステロー ル及び6−ニトロコレステロールのうちから選ばれることを特徴とする請求項4 に記載の組成物。
- 6.含酸素置換基は4,7,14,15,20,22,24,25又は26の位 置のヒドロキシル−、オキソ−、エポキシ−、ペルオキシド−、又はカルボニル −であることを特徴とする請求項5の組成物。
- 7.該ステロールは25−ヒドロキシコレステロールであることを特徴とする請 求項6に記載の組成物。
- 8.コレステロール生合成の該抑制剤は2,3−オキシドスクワレンサイクラー ゼの抑制剤であることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の組成物。
- 9.該ステロールは2−アザ−2,3−ジヒドロスクワレン又はその誘導体及び N−〔(1,5,9)−トリメチルデシル〕−4α,10−ジメチル−8−アザ −トランスデカル−3β−オルのうちから選ばれることを特徴とする請求項8に 記載の組成物。
- 10.該ステロールは24,25−ジヒドロラノステロール代謝抑制剤であるこ とを特徴とする請求項1乃至3の何れかの組成物。
- 11.該ステロールは7−オキソラノスト−8−エン−3β−オル、3β−アセ トキシラノスト−8−エン−7−オン、7−オキソラノスト−5,8,11−ト リエン−3β−オルのうちから選ばれることを特徴とする請求項10に記載の組 成物。
- 12.該ステロールはラノステロールからコレステロールヘの転化、とくにラノ ステロールからデスモステロールヘの転化の抑制剤であることを特徴とする請求 項1乃至3の何れかに記載の組成物。
- 13.該ステロールはデスモステロールからコレステロールヘの転化の抑制剤で あることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の組成物。
- 14.該ステロールは22−オキシイミノコレステロール及び20,25−ジア ザコレステロールのうちから選ばれることを特徴とする請求項12又は13記載 の組成物。
- 15.レチノイドは組成物の全重量に対して0.0001乃至50重量%の比率 で存在していることを特徴とする先行請求項の何れかに記載の組成物。
- 16.レチノイドは組成物の全重量に対して0.0001乃至1重量%の比率で 存在していることを特徴とする請求項15記載の組成物。
- 17.レチノイドは組成物の全重量に対して0.01乃至50重量%の比率で存 在していることを特徴とする請求項15に記載の組成物。
- 18.ステロールのモル濃度対レチノイドのモル濃度の比率は0.1乃至10の 範囲内にあることを特徴とする請求項16又は17に記載の組成物。
- 19.有効成分のほかに局所(皮膚及び粘膜)、眼、口又は全身経由投与に適し た医薬担体を含んでいることを特徴とする先行請求項の何れかに記載の組成物。
- 20.一方の適宜な容器内の、請求項1又は2に定義してあるとおりのレチノイ ドと、第2の容器内の請求項3乃至14の何れかに定義してあるとおりのコレス テロール生合成抑制剤ステロールとを、適切な包装内に合体させて包含する二部 分組成物の形をしていることを特徴とする先行請求項の何れかに記載の組成物。
- 21.表皮角化障害、あらゆる他の表皮又は上皮の増殖機能の障害又は過不足、 及び/又は炎症−及び/又は免疫アレルギー成分を伴なう又は伴なわない皮脂腺 機能障害を処置する又は治療するための−請求項1乃至20の何れかに定義して あるとおりの医薬−又は化粧料組成物調製におけるレチノイド少なくとも1種及 びステロール少なくとも1種の組合せの使用。
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