JPH0645268A - 熱処理炉 - Google Patents
熱処理炉Info
- Publication number
- JPH0645268A JPH0645268A JP19877992A JP19877992A JPH0645268A JP H0645268 A JPH0645268 A JP H0645268A JP 19877992 A JP19877992 A JP 19877992A JP 19877992 A JP19877992 A JP 19877992A JP H0645268 A JPH0645268 A JP H0645268A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tube
- inert gas
- reaction tube
- reaction
- heating element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 反応管内への不純物成分の侵入と発熱体材料
からの不純ガス放出を防ぐことができ、高清浄度の反応
ガスによる熱処理を行なうことができる熱処理炉を提供
すること。 【構成】 石英製の反応管５と、反応管５外周に不活性
ガス導入領域を形成しつつ反応管５の外周部と反応管５
を加熱する発熱体１０を覆う外部管７と、外部管７に不
活性ガスを送る不活性ガス導入管７ａを有し、反応管５
外周と発熱体１０を不活性ガスで包囲するようにした。
からの不純ガス放出を防ぐことができ、高清浄度の反応
ガスによる熱処理を行なうことができる熱処理炉を提供
すること。 【構成】 石英製の反応管５と、反応管５外周に不活性
ガス導入領域を形成しつつ反応管５の外周部と反応管５
を加熱する発熱体１０を覆う外部管７と、外部管７に不
活性ガスを送る不活性ガス導入管７ａを有し、反応管５
外周と発熱体１０を不活性ガスで包囲するようにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、熱処理炉に関し、特
に、石英製の反応管を備えた熱処理炉に関する。
に、石英製の反応管を備えた熱処理炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、石英製の反応管を有する熱処理炉
は、シリコンウェハ等の基板処理を行なう反応ガスを導
入するための反応管は、外部雰囲気、即ち、炉体大気雰
囲気にさらされ、反応管内部の基板処理領域は石英の反
応管の壁のみによって外部雰囲気と隔てられた構造とな
っている。
は、シリコンウェハ等の基板処理を行なう反応ガスを導
入するための反応管は、外部雰囲気、即ち、炉体大気雰
囲気にさらされ、反応管内部の基板処理領域は石英の反
応管の壁のみによって外部雰囲気と隔てられた構造とな
っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、石英は材質
的に高温時において反応ガスを透過しやすい性質を持っ
ており、このため従来装置では高温時において前記反応
管の壁を透過して基板処理領域中に外部雰囲気に混在す
る不純物が侵入し、基板処理領域中の反応ガスの清浄度
を悪化させてしまうという問題があった。
的に高温時において反応ガスを透過しやすい性質を持っ
ており、このため従来装置では高温時において前記反応
管の壁を透過して基板処理領域中に外部雰囲気に混在す
る不純物が侵入し、基板処理領域中の反応ガスの清浄度
を悪化させてしまうという問題があった。
【０００４】本発明は上記事情に基づいてなされたもの
であり、反応管内への不純物の侵入と発熱体材料からの
不純ガスの放出を防止することの出来る熱処理炉を提供
することを目的とする
であり、反応管内への不純物の侵入と発熱体材料からの
不純ガスの放出を防止することの出来る熱処理炉を提供
することを目的とする
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を解決するた
めに本発明の熱処理炉は、石英製の反応管と該反応管を
加熱する発熱体と、該反応管および発熱体を覆う外部管
と、該外部管内に不活性ガスを送る不活性ガス導入管と
を有し，該反応管外周と発熱体を不活性ガスで包囲する
ようにしたものである。
めに本発明の熱処理炉は、石英製の反応管と該反応管を
加熱する発熱体と、該反応管および発熱体を覆う外部管
と、該外部管内に不活性ガスを送る不活性ガス導入管と
を有し，該反応管外周と発熱体を不活性ガスで包囲する
ようにしたものである。
【０００６】
【作用】上述した構成の熱処理装置によれば、反応管の
周囲は常に不活性ガスによって満たされるため、反応管
の壁を透過して侵入する不純物成分が低減され、前記熱
処理領域において高清浄度の反応ガスを用いた熱処理を
行なうことが出来る。
周囲は常に不活性ガスによって満たされるため、反応管
の壁を透過して侵入する不純物成分が低減され、前記熱
処理領域において高清浄度の反応ガスを用いた熱処理を
行なうことが出来る。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
【０００８】図１は本発明の一実施例である熱処理炉の
概略断面図である。本実施例の熱処理炉１は、石英製の
基台２と、筒上で頂部が閉塞された石英製の反応管５
と、反応管５内に反応ガスを送る石英製の反応ガス導入
管８と、反応管５内の反応ガスを排気する排気管４と、
反応管５を加熱する発熱体１０と、反応管５と発熱体１
０を外部雰囲気と隔てる外部管７を有している。尚、図
１では、説明の簡略化のために反応ガス供給源等は省略
してある。
概略断面図である。本実施例の熱処理炉１は、石英製の
基台２と、筒上で頂部が閉塞された石英製の反応管５
と、反応管５内に反応ガスを送る石英製の反応ガス導入
管８と、反応管５内の反応ガスを排気する排気管４と、
反応管５を加熱する発熱体１０と、反応管５と発熱体１
０を外部雰囲気と隔てる外部管７を有している。尚、図
１では、説明の簡略化のために反応ガス供給源等は省略
してある。
【０００９】反応管５は、基台２上に配置され、内部に
シリコンウェハ等の処理基板９を配置する熱処理領域３
が形成されている。反応管５の底部はフランジ５ａによ
り基台２に密着している。
シリコンウェハ等の処理基板９を配置する熱処理領域３
が形成されている。反応管５の底部はフランジ５ａによ
り基台２に密着している。
【００１０】外周管７は、フランジ７ｃにより反応管５
に密着しており、反応管５管壁との間に不活性ガス導入
領域６を形成することが出来る。発熱体１０は、不活性
ガス導入領域６中に保持される。また、外部管の尾部に
は不活性ガスを炉内に導入する導入管７ａと、頂部には
不活性ガスを炉外に排出する排出管７ｂが設けられてい
る。
に密着しており、反応管５管壁との間に不活性ガス導入
領域６を形成することが出来る。発熱体１０は、不活性
ガス導入領域６中に保持される。また、外部管の尾部に
は不活性ガスを炉内に導入する導入管７ａと、頂部には
不活性ガスを炉外に排出する排出管７ｂが設けられてい
る。
【００１１】この結果、反応管５の外部雰囲気は、不活
性ガス、例えばＮ2 やＡｒ等の雰囲気で満たされること
になり、反応管５の管壁を透過する不純物成分が低減さ
れ、反応管５内は常に清浄な反応ガス成分が保たれる。
また、不活性ガス導入領域６で発熱体１０を加熱するこ
とにより、発熱体材料からの不純ガス放出成分を順次不
活性ガスで置換、低減することができ、より高清浄な熱
処理が可能となり、発熱体材料の劣化防止効果も高い。
性ガス、例えばＮ2 やＡｒ等の雰囲気で満たされること
になり、反応管５の管壁を透過する不純物成分が低減さ
れ、反応管５内は常に清浄な反応ガス成分が保たれる。
また、不活性ガス導入領域６で発熱体１０を加熱するこ
とにより、発熱体材料からの不純ガス放出成分を順次不
活性ガスで置換、低減することができ、より高清浄な熱
処理が可能となり、発熱体材料の劣化防止効果も高い。
【００１２】尚、本発明は、上述した実施例のほか、そ
の要旨の範囲内で種々の変形が可能である。
の要旨の範囲内で種々の変形が可能である。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、反
応管の外周と発熱体を不活性ガスで覆うことにより、反
応管内への不純物成分の侵入と発熱体材料からの不純ガ
ス放出を防ぐことができ、高清浄度の反応ガスによる熱
処理を行なうことが可能な熱処理炉を提供することが出
来る。
応管の外周と発熱体を不活性ガスで覆うことにより、反
応管内への不純物成分の侵入と発熱体材料からの不純ガ
ス放出を防ぐことができ、高清浄度の反応ガスによる熱
処理を行なうことが可能な熱処理炉を提供することが出
来る。
【図１】 本発明の一実施例である熱処理炉の概略断面
図である。
図である。
１…熱処理炉、 ２…基台、 ３…熱
処理領域、４…反応ガス排気管、 ５…反応管、
５ａ，７ｃ…フランジ、６…不活性ガス導入領域、
７…外部管、 ７ａ…不活性ガス導入管、７ｂ…
不活性ガス排気管、 ８…反応ガス導入管、９…処理基
板、 １０…発熱体。
処理領域、４…反応ガス排気管、 ５…反応管、
５ａ，７ｃ…フランジ、６…不活性ガス導入領域、
７…外部管、 ７ａ…不活性ガス導入管、７ｂ…
不活性ガス排気管、 ８…反応ガス導入管、９…処理基
板、 １０…発熱体。
Claims (1)
- 【請求項１】 石英製の反応管と、該反応管を加熱する
発熱体と、該反応管および発熱体を覆う外部管と、該外
部管内に不活性ガスを送る不活性ガス導入管とを有し，
該反応管外周と発熱体を不活性ガスで包囲するようにし
たことを特徴とする熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19877992A JPH0645268A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19877992A JPH0645268A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 熱処理炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0645268A true JPH0645268A (ja) | 1994-02-18 |
Family
ID=16396783
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19877992A Withdrawn JPH0645268A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0645268A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005072386A (ja) * | 2003-08-26 | 2005-03-17 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
| US7081767B2 (en) | 2001-07-02 | 2006-07-25 | Nhk Spring Co., Ltd. | Electroconductive contact unit |
-
1992
- 1992-07-24 JP JP19877992A patent/JPH0645268A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7081767B2 (en) | 2001-07-02 | 2006-07-25 | Nhk Spring Co., Ltd. | Electroconductive contact unit |
| JP2005072386A (ja) * | 2003-08-26 | 2005-03-17 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991005 |