JPH0644092Y2 - 電子ビ−ム描画装置 - Google Patents
電子ビ−ム描画装置Info
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- JPH0644092Y2 JPH0644092Y2 JP1986193709U JP19370986U JPH0644092Y2 JP H0644092 Y2 JPH0644092 Y2 JP H0644092Y2 JP 1986193709 U JP1986193709 U JP 1986193709U JP 19370986 U JP19370986 U JP 19370986U JP H0644092 Y2 JPH0644092 Y2 JP H0644092Y2
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- JP
- Japan
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- electron beam
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- beam drawing
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986193709U JPH0644092Y2 (ja) | 1986-12-18 | 1986-12-18 | 電子ビ−ム描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986193709U JPH0644092Y2 (ja) | 1986-12-18 | 1986-12-18 | 電子ビ−ム描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6398628U JPS6398628U (enrdf_load_stackoverflow) | 1988-06-25 |
| JPH0644092Y2 true JPH0644092Y2 (ja) | 1994-11-14 |
Family
ID=31149987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986193709U Expired - Lifetime JPH0644092Y2 (ja) | 1986-12-18 | 1986-12-18 | 電子ビ−ム描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0644092Y2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53143175A (en) * | 1977-05-20 | 1978-12-13 | Hitachi Ltd | Electron beam drawing apparatus |
| JPS59111326A (ja) * | 1982-12-17 | 1984-06-27 | Hitachi Ltd | 電子ビ−ム整形用アパ−チヤマスク |
-
1986
- 1986-12-18 JP JP1986193709U patent/JPH0644092Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6398628U (enrdf_load_stackoverflow) | 1988-06-25 |
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