JPH0643574B2 - 有機ガラス用の放射硬化性の耐スクラツチ被覆剤およびその製造法 - Google Patents
有機ガラス用の放射硬化性の耐スクラツチ被覆剤およびその製造法Info
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- JPH0643574B2 JPH0643574B2 JP63147067A JP14706788A JPH0643574B2 JP H0643574 B2 JPH0643574 B2 JP H0643574B2 JP 63147067 A JP63147067 A JP 63147067A JP 14706788 A JP14706788 A JP 14706788A JP H0643574 B2 JPH0643574 B2 JP H0643574B2
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- C09D183/10—Block or graft copolymers containing polysiloxane sequences
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
- C08F283/12—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polysiloxanes
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- C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、有機ガラス用の放射硬化性の耐スクラッチ被
覆およびその製造法に関する。
覆およびその製造法に関する。
課題を解決するための手段 本発明は、 Ａ）それ自体が、 A1）ビニル−トリメトキシ−または−トリエトキシシラ
ンまたはこれら２つのシランの混合物９０〜６５重量パ
ーセント、および A2）テトラメトキシ−またはテトラエトキシシランまた
はこれら２つのシランの混合物１０〜３５重量パーセン
トを共縮合させることにより製造された共縮合体８２〜
６４重量パーセント、 Ｂ）１分子当り最低２つのビニル−、アクリル−または
メタクリル基を有する最低１種の反応性希釈剤９〜２７
重量パーセント、 Ｃ）最低１種の自体公知の光重合開始剤０〜９重量パー
セント より成り、その場合これら成分Ａ），Ｂ）およびＣ）が
１００重量パーセントになるまで添加されて成る被覆剤
に関する。
ンまたはこれら２つのシランの混合物９０〜６５重量パ
ーセント、および A2）テトラメトキシ−またはテトラエトキシシランまた
はこれら２つのシランの混合物１０〜３５重量パーセン
トを共縮合させることにより製造された共縮合体８２〜
６４重量パーセント、 Ｂ）１分子当り最低２つのビニル−、アクリル−または
メタクリル基を有する最低１種の反応性希釈剤９〜２７
重量パーセント、 Ｃ）最低１種の自体公知の光重合開始剤０〜９重量パー
セント より成り、その場合これら成分Ａ），Ｂ）およびＣ）が
１００重量パーセントになるまで添加されて成る被覆剤
に関する。
さらに本発明は、この被覆剤を製造する方法に関する。
とくに本発明による被覆剤は、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリカーボネートおよびポリ（ジエチレングリコー
ル−ビス−アリルカーボネート）（ＣＲ３９）をベース
とする有機ガラスを表面コーチングするのに適当であ
る。このものは、電子線により硬化されることができ、
かつこの場合は成分Ｃ）を添加する必要がない。しかし
ながら、硬化がＵＶ線により行なわれる場合、成分Ｃ）
を添加する必要がある。
ト、ポリカーボネートおよびポリ（ジエチレングリコー
ル−ビス−アリルカーボネート）（ＣＲ３９）をベース
とする有機ガラスを表面コーチングするのに適当であ
る。このものは、電子線により硬化されることができ、
かつこの場合は成分Ｃ）を添加する必要がない。しかし
ながら、硬化がＵＶ線により行なわれる場合、成分Ｃ）
を添加する必要がある。
成分Ａ）は、ビニル−トリメトキシ−または−トリエト
キシシランまたはこれら２つのシランの混合物９０〜６
５重量パーセントおよびテトラメトキシ−またはテトラ
エトキシシランまたはこれら２つのシランの混合物１０
〜３５重量％を共縮合させることにより製造された共縮
合体である。殊に有利なのが、成分Ａ）中でビニル基対
珪素原子の比が０．５：１〜０．９２：１、有利に０．
７５：１〜０．８５：１である場合である。
キシシランまたはこれら２つのシランの混合物９０〜６
５重量パーセントおよびテトラメトキシ−またはテトラ
エトキシシランまたはこれら２つのシランの混合物１０
〜３５重量％を共縮合させることにより製造された共縮
合体である。殊に有利なのが、成分Ａ）中でビニル基対
珪素原子の比が０．５：１〜０．９２：１、有利に０．
７５：１〜０．８５：１である場合である。
成分Ｂ）はいわゆる反応性希釈剤であり、このものは１
分子当り最低２つのビニル−、アクリル−またはメタク
リル基を有し、かつ成分Ａ）のビニル基とともに架橋共
重合体を形成する能力がある。例えば、成分Ｂ）に適当
な反応性希釈剤は、ペンタエリスリットトリアクリレー
ト、ペンタエリスリットテトラアクリレート、ブタンジ
オール−１，４−ジアクリレート、ヘキサンジオール−
１，６−ジアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリ
コールジアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレートおよび相反するメタクリレート；ジビニル化
合物；例えばジビニルベンゼンおよびトリビニル化合物
である。
分子当り最低２つのビニル−、アクリル−またはメタク
リル基を有し、かつ成分Ａ）のビニル基とともに架橋共
重合体を形成する能力がある。例えば、成分Ｂ）に適当
な反応性希釈剤は、ペンタエリスリットトリアクリレー
ト、ペンタエリスリットテトラアクリレート、ブタンジ
オール−１，４−ジアクリレート、ヘキサンジオール−
１，６−ジアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリ
コールジアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレートおよび相反するメタクリレート；ジビニル化
合物；例えばジビニルベンゼンおよびトリビニル化合物
である。
大ていの場合有利なのが、成分Ｂ）として、多数のこの
ような反応性希釈剤より成る混合物が使用される場合で
ある。殊に有利であるのが、成分Ｂ）の１〜１０重量パ
ーセントが１分子当り最低１つの遊離のヒドロキシル基
を有する場合である。殊に有利な反応性希釈剤混合物
は、ペンタエリスリットトリアクリレートおよびヘキサ
ンジオール−１，６−ジアクリレートより成るものであ
って、とくに重量比約２：１である場合である。
ような反応性希釈剤より成る混合物が使用される場合で
ある。殊に有利であるのが、成分Ｂ）の１〜１０重量パ
ーセントが１分子当り最低１つの遊離のヒドロキシル基
を有する場合である。殊に有利な反応性希釈剤混合物
は、ペンタエリスリットトリアクリレートおよびヘキサ
ンジオール−１，６−ジアクリレートより成るものであ
って、とくに重量比約２：１である場合である。
ＵＶ線により硬化可能な本発明による被覆剤は、いずれ
にせよ成分Ｃ）をも、有利に総重量の７〜９重量パーセ
ントの量で含有する必要がある。例えば、自体公知の適
当な光重合開始剤は、ベンゾインエーテル、例えば、メ
チルベンゾインエーテル、エチルベンゾインエーテル、
イソプロピルベンゾインエーテルまたはｎ−ブチルベン
ゾインエーテル；２，２−ジアルコキシアセトフエノン
および２，２−ジアルコキシ−２−フエニルアセトフエ
ノン；２−ヒドロキシ−２，２−置換アセトフエノン、
例えば、２−ヒドロキシ−２−フエニルプロピオフエノ
ン、２−ヒドロキシ−２，２−ジメチルアセトフエノン
または１−ベンゾイル−シクロヘキサン−１−オール；
ベンゾフエノン、例えば、４−クロルベンゾフエノン、
４−フエニルベンゾフエノン、４，４−ビス−（ジメチ
ルアミノ）−ベンゾフエノンまたは４−ｐ−トリルチオ
ベンゾフエノン；環状のベンゾフエノン誘導体、例え
ば、フルオレノン、２−メチルアンスロキノン、ジベン
ゾスベロン、２−クロルチオキサントン、２−メチルチ
オキサントン、２−イソプロピルチオキサントンまたは
２，４−ジエチルチオキサントン；ベンジルおよび３−
ケト置換クマリンである。光重合開始剤として、反応性
希釈剤（混合物）中で有利に２−ヒドロキシ−２，２−
ジメチルアセトフエノンが使用される。
にせよ成分Ｃ）をも、有利に総重量の７〜９重量パーセ
ントの量で含有する必要がある。例えば、自体公知の適
当な光重合開始剤は、ベンゾインエーテル、例えば、メ
チルベンゾインエーテル、エチルベンゾインエーテル、
イソプロピルベンゾインエーテルまたはｎ−ブチルベン
ゾインエーテル；２，２−ジアルコキシアセトフエノン
および２，２−ジアルコキシ−２−フエニルアセトフエ
ノン；２−ヒドロキシ−２，２−置換アセトフエノン、
例えば、２−ヒドロキシ−２−フエニルプロピオフエノ
ン、２−ヒドロキシ−２，２−ジメチルアセトフエノン
または１−ベンゾイル−シクロヘキサン−１−オール；
ベンゾフエノン、例えば、４−クロルベンゾフエノン、
４−フエニルベンゾフエノン、４，４−ビス−（ジメチ
ルアミノ）−ベンゾフエノンまたは４−ｐ−トリルチオ
ベンゾフエノン；環状のベンゾフエノン誘導体、例え
ば、フルオレノン、２−メチルアンスロキノン、ジベン
ゾスベロン、２−クロルチオキサントン、２−メチルチ
オキサントン、２−イソプロピルチオキサントンまたは
２，４−ジエチルチオキサントン；ベンジルおよび３−
ケト置換クマリンである。光重合開始剤として、反応性
希釈剤（混合物）中で有利に２−ヒドロキシ−２，２−
ジメチルアセトフエノンが使用される。
本発明による被覆剤は、成分Ａ1)およびＡ2)の共縮合
を、存在するメトキシ−およびエトキシ基１モル当り水
１〜１．３モルを添加することにより解除し、かつこの
反応混合物を還流下に加熱することにより完結させ、そ
の後にこの反応混合物の揮発成分を減圧下に完全に除去
し、かつ、残渣として残存する油状のポリシロキサンを
成分Ｂ）および場合により成分Ｃ）と均質に混合するよ
うにして製造されることができる。
を、存在するメトキシ−およびエトキシ基１モル当り水
１〜１．３モルを添加することにより解除し、かつこの
反応混合物を還流下に加熱することにより完結させ、そ
の後にこの反応混合物の揮発成分を減圧下に完全に除去
し、かつ、残渣として残存する油状のポリシロキサンを
成分Ｂ）および場合により成分Ｃ）と均質に混合するよ
うにして製造されることができる。
さらに選択的に、本発明による被覆剤は、成分Ａ1)およ
びＡ2)の共縮合を、成分Ａ1)およびＡ2)の総重量に対
し、炭素原子数２〜８を有するカルボン酸、有利に酢酸
０．５〜０．８重量パーセントを添加することにより解
除し、かつこの反応混合物を還流下に加熱することによ
り完結させ、さらにその後のこの反応混合物の揮発成分
を減圧下に完全に除去し、かつ残渣として残存する油状
のポリシロキサンを成分Ｂ）および場合により成分Ｃ）
と均質に混合するようにしても製造されることができ
る。
びＡ2)の共縮合を、成分Ａ1)およびＡ2)の総重量に対
し、炭素原子数２〜８を有するカルボン酸、有利に酢酸
０．５〜０．８重量パーセントを添加することにより解
除し、かつこの反応混合物を還流下に加熱することによ
り完結させ、さらにその後のこの反応混合物の揮発成分
を減圧下に完全に除去し、かつ残渣として残存する油状
のポリシロキサンを成分Ｂ）および場合により成分Ｃ）
と均質に混合するようにしても製造されることができ
る。
成分Ａ1)およびＡ2)の共縮合が水の存在においてまたは
カルボン酸の存在において実施されるか否かと無関係
に、完全な共縮合が最高４時間の還流下加熱を必要とす
る。しかしながら、一般に全く十分であるのが１〜２時
間の加熱である。
カルボン酸の存在において実施されるか否かと無関係
に、完全な共縮合が最高４時間の還流下加熱を必要とす
る。しかしながら、一般に全く十分であるのが１〜２時
間の加熱である。
本発明による被覆剤は、希釈せずに有機ガラスのコーチ
ングに使用されることができる。しかしまた低い粘度が
所望される場合、このものは適当な溶剤、例えばイソブ
タノール約５〜２５重量パーセントで希釈されてもよ
い。このものは、公知の方法、例えば流し塗り、浸漬ま
たは噴射により、コーチングすべき有機ガラスへ施こさ
れ、かつその後に電子線を使用し、またはＵＶ照射する
ことにより硬化される。一般に、湿り膜厚が０．５〜２
０μ間で変動する。最終的硬度が、一般に遅くとも２４
時間の貯蔵後に得られる。
ングに使用されることができる。しかしまた低い粘度が
所望される場合、このものは適当な溶剤、例えばイソブ
タノール約５〜２５重量パーセントで希釈されてもよ
い。このものは、公知の方法、例えば流し塗り、浸漬ま
たは噴射により、コーチングすべき有機ガラスへ施こさ
れ、かつその後に電子線を使用し、またはＵＶ照射する
ことにより硬化される。一般に、湿り膜厚が０．５〜２
０μ間で変動する。最終的硬度が、一般に遅くとも２４
時間の貯蔵後に得られる。
実施例 以下に、本発明を実施例につき詳説する。実施例中
「部」および「パーセント」は、他に別記しない限り
「重量部」および「重量パーセント」を表わす。
「部」および「パーセント」は、他に別記しない限り
「重量部」および「重量パーセント」を表わす。
実施例中で塗布しかつ硬化させたコーチングは、エリク
セン社（Firma Erichsen）のクロスカット試験装置（Ｇ
ｉｔｔｅｒｓｃｈｎｉｔｔｐｒｆｇｅｒｔ）を使用
しドイツ工業規格ＤＩＮ５３１５１号により接着強さを
測定し、およびガードナー・ヘーズメーター（Gardener
Hazemeter）ＸＬ２１１型を使用し、テーバー摩耗試験
機（Taber Abraser）でＡＳＴＭ Ｄ１０４４による摩
擦輪ＣＳ−１０Ｆに負荷１kgで摩擦１００サイクル後に
スクラッチ（引掻き）強さを測定した。
セン社（Firma Erichsen）のクロスカット試験装置（Ｇ
ｉｔｔｅｒｓｃｈｎｉｔｔｐｒｆｇｅｒｔ）を使用
しドイツ工業規格ＤＩＮ５３１５１号により接着強さを
測定し、およびガードナー・ヘーズメーター（Gardener
Hazemeter）ＸＬ２１１型を使用し、テーバー摩耗試験
機（Taber Abraser）でＡＳＴＭ Ｄ１０４４による摩
擦輪ＣＳ−１０Ｆに負荷１kgで摩擦１００サイクル後に
スクラッチ（引掻き）強さを測定した。
クロスカット特性値および曇り度Δ％の値を第３表にま
とめた。
とめた。
例１ ビニルトリメチルシラン８０部、テトラエトキシシラン
２０部および水５４部より成る混合物を２時間還流煮沸
した。この反応混合物を冷却した後、水流ポンプによる
減圧下に、生じた混合物から水、メタノールおよびエタ
ノールを完全に除去した。油状の残渣に、ペンタエリス
リットトリアクリレート１３．３部およびヘキサンジオ
ール−１，６−ジアクリレート６．６部より成る混合物
を均質に混合した。この混合物９２部に、２−ヒドロキ
シ−２，２−ジメチルアセトフエノン〔ダルムシュタッ
ト在メルク社製（Merk AG、Darmstadt）〕８部を均質に
混入した。出来上ったラッカーを、ドクターを使用し、
膜厚１０μｍでポリカーボネート板（９cm×９cm）に施
こし、かつＵＶランプ（ＩＳＴ装置）下に速度２ｍ／分
で硬化させた。
２０部および水５４部より成る混合物を２時間還流煮沸
した。この反応混合物を冷却した後、水流ポンプによる
減圧下に、生じた混合物から水、メタノールおよびエタ
ノールを完全に除去した。油状の残渣に、ペンタエリス
リットトリアクリレート１３．３部およびヘキサンジオ
ール−１，６−ジアクリレート６．６部より成る混合物
を均質に混合した。この混合物９２部に、２−ヒドロキ
シ−２，２−ジメチルアセトフエノン〔ダルムシュタッ
ト在メルク社製（Merk AG、Darmstadt）〕８部を均質に
混入した。出来上ったラッカーを、ドクターを使用し、
膜厚１０μｍでポリカーボネート板（９cm×９cm）に施
こし、かつＵＶランプ（ＩＳＴ装置）下に速度２ｍ／分
で硬化させた。
例２ ビニルトリメトキシシラン１００部、テトラエトキシシ
ラン２５部および酢酸（９８％）１部より成る混合物
を、２時間還流煮沸した。この反応混合物を冷却した
後、水流ポンプによる減圧下に全ての揮発成分を完全に
除去した。油状の残渣に、ペンタエリスリットトリアク
リレート２５部およびヘキサンジオール−１，６−ジア
クリレート１２．５部より成る混合物を均質に混合し
た。この混合物１１５部に、２−ヒドロキシ−２，２−
ジメチルアセトフエノン１０部を均質に混入した。出来
上ったラッカーを、ドクターを使用し膜厚１０μｍでポ
リメチルメタクリレート板（９cm×９cm）に施こし、か
つ例１におけるように硬化させた。
ラン２５部および酢酸（９８％）１部より成る混合物
を、２時間還流煮沸した。この反応混合物を冷却した
後、水流ポンプによる減圧下に全ての揮発成分を完全に
除去した。油状の残渣に、ペンタエリスリットトリアク
リレート２５部およびヘキサンジオール−１，６−ジア
クリレート１２．５部より成る混合物を均質に混合し
た。この混合物１１５部に、２−ヒドロキシ−２，２−
ジメチルアセトフエノン１０部を均質に混入した。出来
上ったラッカーを、ドクターを使用し膜厚１０μｍでポ
リメチルメタクリレート板（９cm×９cm）に施こし、か
つ例１におけるように硬化させた。
例３〜６ ビニルトリメトキシシラン（ＶＴＭＯ）ないしはビニル
トリエトキシシラン（ＶＴＥＯ）およびテトラメトキシ
シラン（ＴＭＯ）ないしはテトラエトキシシラン（ＴＥ
Ｏ）より成る種々の混合物を、例１と類似に共縮合させ
かつ例１におけるように出来上ったラッカーに後加工
し、これをドクターを使用し膜厚１０μｍでポリメチル
メタクリレート板（９cm×９cm）に施こしかつ例１にお
けるように硬化させた。
トリエトキシシラン（ＶＴＥＯ）およびテトラメトキシ
シラン（ＴＭＯ）ないしはテトラエトキシシラン（ＴＥ
Ｏ）より成る種々の混合物を、例１と類似に共縮合させ
かつ例１におけるように出来上ったラッカーに後加工
し、これをドクターを使用し膜厚１０μｍでポリメチル
メタクリレート板（９cm×９cm）に施こしかつ例１にお
けるように硬化させた。
例７〜１０ 例１の共縮合体に、ペンタエリスリットトリアクリレー
ト（ＰＥＴＡ）およびヘキサンジオール−１，６−ジア
クリレート（ＨＤＤＡ）より成る種々の組成の混合物を
混合し、かつ例１におけるように出来上ったラッカーに
後加工し、これをドクターを使用し膜厚１０μｍにポリ
カーボネート板に、および１部分はポリメチルメタクリ
レート板（それぞれ９cm×９cm）にも施こし、かつ例１
におけるように硬化させた。
ト（ＰＥＴＡ）およびヘキサンジオール−１，６−ジア
クリレート（ＨＤＤＡ）より成る種々の組成の混合物を
混合し、かつ例１におけるように出来上ったラッカーに
後加工し、これをドクターを使用し膜厚１０μｍにポリ
カーボネート板に、および１部分はポリメチルメタクリ
レート板（それぞれ９cm×９cm）にも施こし、かつ例１
におけるように硬化させた。
例１１ 例２の共縮合体に、ペンタエリスリットトリアクリレー
ト２０部およびトリプロピレングリコールジアクリレー
ト１０部より成る混合物を均質に混合した。この混合物
１１５部に、２−ヒドロキシ−２，２−ジメチルアセト
フェノン１０部を均質に混入した。出来上ったラッカー
を、ドクターを使用し膜厚１０μｍでポリカーボネート
板およびポリメチルメタクリレート板（それぞれ９cm×
９cm）に施こしかつ例１におけるように硬化させた。
ト２０部およびトリプロピレングリコールジアクリレー
ト１０部より成る混合物を均質に混合した。この混合物
１１５部に、２−ヒドロキシ−２，２−ジメチルアセト
フェノン１０部を均質に混入した。出来上ったラッカー
を、ドクターを使用し膜厚１０μｍでポリカーボネート
板およびポリメチルメタクリレート板（それぞれ９cm×
９cm）に施こしかつ例１におけるように硬化させた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 83/04 ＬＲＴ 8319−4Ｊ Ｃ０９Ｄ 183/02 ＰＭＰ 8319−4Ｊ
Claims (9)
- 【請求項１】有機ガラスを耐スクラッチコーチングする
ための放射硬化性被覆剤において、 Ａ）それ自体が、 A1）ビニル−トリメトキシ−または−トリエトキシシラ
ンまたはこれら２つのシランの混合物９０〜６５重量パ
ーセント、および A2）テトラメトキシ−またはテトラエトキシシランまた
はこれら２つのシランの混合物１０〜３５重量パーセン
トを共縮合させることにより製造された共縮合体８２〜
６４重量パーセント、 Ｂ）１分子当り最低２つのビニル−、アクリル−または
メタクリル基を有する最低１種の反応性希釈剤９〜２７
重量パーセント、 Ｃ）最低１種の自体公知の光重合開始剤０〜９重量パー
セント より成り、その場合これら成分Ａ），Ｂ）およびＣ）が
１００重量パーセントになるまで添加されて成る有機ガ
ラス用の放射硬化性の耐スクラッチ被覆剤。 - 【請求項２】成分Ａ）中で、ビニル基対珪素原子の比が
０．５：１〜０．９２：１である請求項１記載の被覆
剤。 - 【請求項３】成分Ａ）中で、ビニル基対珪素原子の比が
０．７５：１〜０．８５：１である請求項２記載の被覆
剤。 - 【請求項４】成分Ｂ）の１〜１０重量パーセントが１分
子当り最低１つの遊離のヒドロキシル基を有する請求項
１から３までのいずれか１項記載の被覆剤。 - 【請求項５】成分Ｂ）として、ペンタエリスリットトリ
アクリレートおよびヘキサンジオール−１，６−ジアク
リレートより成る混合物が使用される請求項１から４ま
でのいずれか１項記載の被覆剤。 - 【請求項６】ＵＶ線により硬化可能な被覆剤において、
このものが成分Ｃ）を７〜９重量パーセントの量で含有
する請求項１から５までのいずれか１項記載の被覆剤。 - 【請求項７】Ａ）それ自体が、 A1）ビニル−トリメトキシ−または−トリエトキシシラ
ンまたはこれら２つのシランの混合物９０〜６５重量パ
ーセント、および A2）テトラメトキシ−またはテトラエトキシシランまた
はこれら２つのシランの混合物１０〜３５重量パーセン
トを共縮合させることにより製造された共縮合体８２〜
６４重量パーセント、 Ｂ）１分子当り最低２つのビニル−、アクリル−または
メタクリル基を有する最低１種の反応性希釈剤９〜２７
重量パーセント、 Ｃ）最低１種の自体公知の光重合開始剤０〜９重量パー
セント より成り、その場合これら成分Ａ），Ｂ）およびＣ）が
１００重量パーセントになるまで添加されて成る被覆剤
を製造するに当り、成分Ａ1）およびＡ2）の共縮合を、
存在するメトキシ−およびエトキシ基１モル当り水１〜
１．３モルを添加することにより解除し、かつこの反応
混合物を還流下に加熱することにより完結させ、その後
にこの反応混合物の揮発成分を減圧下に完全に除去し、
かつ残渣として残存する油状のシロキサンに成分Ｂ）お
よび場合により成分Ｃ）を均質に混合することを特徴と
する有機ガラス用の放射硬化性の耐スクラッチ被覆剤の
製造法。 - 【請求項８】Ａ）それ自体が、 A1）ビニル−トリメトキシ−または−トリエトキシシラ
ンまたはこれら２つのシランの混合物９０〜６５重量パ
ーセント、および A2）テトラメトキシ−またはテトラエトキシシランまた
はこれら２つのシランの混合物１０〜３５重量パーセン
トを共縮合させることにより製造された共縮合体８２〜
６４重量パーセント、 Ｂ）１分子当り最低２つのビニル−、アクリル−または
メタクリル基を有する最低１種の反応性希釈剤９〜２７
重量パーセント、 Ｃ）最低１種の自体公知の光重合開始剤０〜９重量パー
セント より成り、その場合これら成分Ａ），Ｂ）およびＣ）が
１００重量パーセントになるまで添加されて成る被覆剤
を製造するに当り、成分Ａ1)およびＡ2)の共縮合を、成
分Ａ1）およびＡ2）の総重量に対し、炭素原子数２〜８
を有するカルボン酸０．５〜０．８重量パーセントを添
加することにより解除し、かつこの反応混合物を還流下
に加熱することにより完結させ、その後にこの反応混合
物の揮発成分を減圧下に完全に除去し、かつ残渣として
残存する油状のシロキサンに成分Ｂ）および場合により
成分Ｃ）を均質に混合することを特徴とする有機ガラス
用の放射硬化性の耐スクラッチ被覆剤の製造法。 - 【請求項９】カルボン酸として酢酸が使用される請求項
８記載の製造法。
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