JPH0637436B2 - 2−メチルペンタンジアミンの製造方法 - Google Patents

2−メチルペンタンジアミンの製造方法

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JPH0637436B2
JPH0637436B2 JP63197313A JP19731388A JPH0637436B2 JP H0637436 B2 JPH0637436 B2 JP H0637436B2 JP 63197313 A JP63197313 A JP 63197313A JP 19731388 A JP19731388 A JP 19731388A JP H0637436 B2 JPH0637436 B2 JP H0637436B2
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コルディエール ジョルジュ
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    • C07C209/48Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers by reduction of nitriles

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、2−メチルグルタロニトリルの水素化による
2−メチルペンタンジアミンの製造方法に関する。
変動するが比較的大量の2−メチルペンタンジアミン
は、3−ペンテンニトリルのシアン化水素化によるアジ
ポニトリルの工業的製造の途中に生成する。この副生物
は、分解する可能性があり、しかもこれは、全く明らか
に経済性の観点から満足出来ない。またこの副生物は、
それだけでは再生できないが、有用な生成物に変換後に
は再生できる。最も有望と考えられる再生プロセスの中
で、2−メチルグルタロニトリルの相当するイソシアナ
ート(2−メチルペンタンジイソシアナート)への変換
および適切ならばビウレツトおよびトリイソシアナート
のようなその誘導体への変換を挙げることができ、この
変換は逐次2操作において起こる。すなわち、2−メチ
ルグルタロニトリルの2−メチルペンタンジアミンへの
水素化に次いで例えば米国特許第3,613,198明
細書に記載の技術により、2−メチルペンタンジアミン
のホスゲン化である。2−メチルグルタロニトリルの他
の可能な再生方法には、その2−メチルグルタロニトリ
ルを、特別のポリアミドの製造に使用できる2−メチル
ペンタンジアミンへの変換がある。
双方の企画した場合において、水素化の間に高い選択性
および空間/時間収率を得て、2−メチルグルタロニト
リルの最良の再生を確保することが重要である。
本発明の目的は、2−メチルペンタン−ジアミンを選択
的に得るために、2−メチルグルタロニトリルの改良さ
れた水素化方法を提供することである。
飽和された、この場合にはアルキル置換された脂肪族ジ
ニトリルの水素化は、多くの先行研究をもたらした反応
である。すなわち、例えば、西独特許出願第1,54
3,793号明細書において、2−メチルグルタロニト
リルをラニーコバルトをベースとする触媒の存在下、無
水アルコール中で、無水アンモニアの存在下に100℃
および300atmにおいて水素化して、2−メチルペン
タンジアミンを3−メチルピペリジンおよび未確認の性
質の重合体と混合してそれぞれ下記の収率で得る。80
%、18%および2%。水素化時間は記載されていな
い。
フランス特許出願第2,306,202号明細書におい
て、2−メチルグルタロニトリルを、連続供給し、水素
を再循環し、かつ反応混合物を連続的に取り出し、液体
アンモニア中でコバルトの存在下に、2−メチルグルタ
ロニトリルを110℃および400atmにおいて水素化
して、前記混合物の平均組成は下記の通りである。2−
メチルペンタン−ジアミン90.0%、3−メチルピペ
リジン8.2%および重質生成物約2%(前記出願明細
書の例1、いわゆる「比較例」を参照されたい)。この
同じ出願明細書の例2から、すべての他の条件が同じ
で、ニツケルをベースとする触媒の存在下において行わ
れた2−メチルグルタロニトリルの水素化では、2−メ
チルペンタンジアミンを選択的に得ることができないこ
とが分かる。なぜならば、反対に、このようにして得ら
れた反応混合物は、2−メチルペンタンジアミン3.9
%および重質物6%〜8%に対して3−メチルピペリジ
ン90.1%を含有する。この同じ出願明細書の例6か
ら、さらに、2−メチルグルタロニトリルの水素化を、
液体アンモニア不存在下に水素化ナトリウムを含有する
エタノール系媒質中でニツケルの存在下、140℃およ
び300atmにおいて非連続的に行つた場合に、2時間
後、2−メチルペンタンジアミンが特に3−メチルピペ
リジンと混合して、選択率僅かに29.4%(モル)で
得られる。
さらに、米国特許第3,953,511号明細書におい
て、多段プロセスが記載され、前記プロセスの第2工程
を形成する、2−メチルグルタロニトリルの水素化を、
ラニーニツケルの存在下に、温度120℃〜140℃お
よび水素圧力少なくとも42kg/cm2において行い、2
−メチル−ペンタンジアミンを得、反応媒質は、アンモ
ニアを含有するアルコール系溶媒を含む。
しかしながら、2−メチルペンタンジアミンに対する選
択性は、十分でなく、約55%〜60%の間にある。
要約すれば、あらかじめ知られた方法は何れも、下記の
欠点の少なくとも1種を示す限り、十分に満足ではな
い。
−ラニーコバルトをベースとする触媒をもつて価値ある
結果を得るのに、非常な高圧において操作する必要があ
る。
−2−メチルペンタンジアミンに対する選択性の欠如、
一層重質生成物に有利であるかまたは望まれない他の生
成物、この場合は(3−メチル−ピペリジン)に有利で
ある および −特に長い仕上時間が必要であるために、提案された種
々の技術の効率の欠如。
従つて、本発明の主題は、ラニーニツケルをベースとす
る触媒の存在下、初期非アンモニア系塩基性媒質中にお
ける2−メチルグルタロニトリルの液相水素化による、
2−メチルペンタンジアミンの製造方法において、水素
化反応を温度40℃〜150℃、40バール以下の全圧
において10重量%より多くない水を含有する反応媒質
中において行い、反応媒質における2−メチルグルタロ
ニトリルの濃度が出来るだけ低いことを特徴とする方法
である。
本発明による方法は、ラニーニツケルをベースとする触
媒の存在下に液相中で行われる。
問題の反応は、適切ならば溶媒または希釈剤中の、導入
された液体2−メチルグルタロニトリルと加圧下の気体
水素との間で一般に固体である触媒の存在下に起こる。
従つて、この反応を、設計および操作方法がこれらの3
相の間の接触を促進する装置において行うことが重要で
ある。
「ラニーニツケルをベースとする触媒」(またはラニー
型の1種)とは、適切ならば、例えばクロムおよび鉄を
用いてドーピングまたは安定化された、ニツケルの本質
的に特別の高表面積触媒形を意味する。これらの特別の
触媒形は、一般に、それ自体既知の様式で、ニツケル、
適切ならば1種またはそれ以上のドーパントおよびアル
ミニウムを含有し、ニツケルがアルミニウム中で「溶解
された」状態で存在する合金から得られる。次いで、こ
れらの合金が含有するアルミニウムのほとんどを除去す
るために、この合金をアルカリ洗浄に供する。しかしな
がら、これらの合金は、処理後に、アルミニウム約20
重量%〜30重量%までを含有し得る。
下記の引例は、主題についての一般的知識を、特に種々
の製造法に関して示しているものとして記載される。
−ケミカル・テクノロジー・レビユー (Chemical Technology Review)No.94、 「ハイドロゼネーシヨン・キヤタリスツ (Hydrogenation catalysts)、R.J.Peterson/Noyes Da
ta Corp.1977、「プレパレーシヨン・オブ・ニツケ
ル・ハイドロジエネーシヨン・キヤスタリスト(Prepar
ation of Nickel Hydrogenation catalyst)、第3頁〜10頁、 −R.L.Augustine「キヤタリテイツク・ハイドロジエネ
ーシヨン(Catalytic Hydrogenation)、Marcal Dekker
In.ニユーヨーク所在1965、第26頁〜32頁およ
び付録第147頁〜149頁。
多くのラニーニツケルをベースとする触媒は市販品であ
り、しかも本発明の方法の実施に適している。
水素化反応は、初期非アンモニア系塩基性触媒中で行わ
れる。
媒質の初期塩基性は、アンモニアまたはアンモニア系溶
液を除いて、ナトリウム、カリウムまたはリチウムのよ
うなアルカリ金属の水酸化物あるいは、水酸化第四アン
モニウムの存在下に行われる。もち論、当業者において
周知のように、問題の水素化の間にアンモニアが形成さ
れ、そして水の存在下に、少なくとも部分的にアンモニ
ア水に変換できる。しかしながら、本発明の範囲内にお
いて、追加量のアンモニアまたはアンモニア水の存在下
に水素化反応を行わないことが肝要である。これは、出
願人が、問題の塩基性媒質が「初期非アンモニア系」で
あることを意味するものである。
水酸化第四アンモニウムは、会合されたカチオンが下記
式I)〜III)の何れか1つに相当するヒドロキシ化合
物を意味する: I) II) III) (式中、−R、R、RおよびRは同一または異
なり、そして 場合によりフエニル、ヒドロキシル、ハロゲン、ニト
ロ、アルコキシまたはアルコキシカルボニル基によつて
置換された1個〜16個の炭素原子を含有する線状また
は分枝アルキル基、 2個〜12個の炭素原子、好ましくは4個〜8個の炭素
原子を含有する線状または分枝アルケニル基、 場合により1個〜4個の炭素原子を含有するアルキル
基、アルコキシ、アルコキシカルボニルまたはハロゲン
の1種またはそれ以上によつて置換された、6個〜10
個の炭素原子を含有するアリール基、を表わし、 前記R〜R基の2個は、一緒になつて、3個〜6個
の炭素原子を含有する線状または分枝アルキレン、アル
ケニレンまたはアルカジエニレン基を形成でき、 −R、R、RおよびRは同一または異なり、し
かも 1個〜4個の炭素原子を含有する線状または分枝アルキ
ル基、 R基およびR基は、一緒になつて、3個〜6個の炭
素原子を含有するアルキル基を形成でき、 R基およびR基またはR基およびR基は、一緒
になつて、4個の炭素原子を含有するアルキレン、アル
ケニレンまたはアルカジエニレン基を形成でき、そして
Nと共に窒素を含有する複素環を形成でき、 −Rは1個〜4個の炭素原子を含有する線状または分
枝アルキル基またはフエニル基を表わし、−R10は Rと同様または異なる、1個〜4個の炭素原子を含有
する線状または分枝アルキル基、 2個〜12個の炭素原子、好ましくは4個〜8個の炭素
原子を含有する線状または分枝アルケニル基を表わし、
そして −nは1より大きいかまたは等しく、しかも10より小
さいかまたは等しく、好ましくは6より小さいかあるい
は等しい整数を表わす)。
式Iに相当する第四オニウムカチオンの例として、下記
のカチオンを挙げることができる。
テトラメチルアンモニウム、 トリエチルメチルアンモニウム、 トリブチルメチルアンモニウム、 トリメチル(n−プロピル)アンモニウム、 テトラエチルアンモニウム、 テトラブチルアンモニウム、 ドデシルトリメチルアンモニウム、 メチルトリオクチルアンモニウム、 ヘプチルトリブチルアンモニウム、 テトラプロピルアンモニウム、 テトラペンチルアンモニウム、 テトラヘキシルアンモニウム、 テトラヘプチルアンモニウム、 テトラオクチルアンモニウム、 テトラデシルアンモニウム、 ブチルトリプロピルアンモニウム、 メチルトリブチルアンモニウム、 ペンチルトリブチルアンモニウム、 メチルジエチルプロピルアンモニウム、 エチルジメチルプロピルアンモニウム、 テトラドデシルアンモニウム、 テトラオクタデシルアンモニウム、 ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、 ベンジルトリメチルアンモニウム、 ベンジルジメチルプロピルアンモニウム、 ベンジルジメチルオクチルアンモニウム、 ベンジルトリブチルアンモニウム、 ベンジルトリエチルアンモニウム、 フエニルトリメチルアンモニウム、 ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウム、 ベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウム、 ジメチルジフエニルアンモニウム、 メチルトリフエニルアンモニウム、 N,N−ジメチルテトラメチレンアンモニウム、 N,N−ジエチルテトラメチレンアンモニウム。
式IIに相当するカチオンの中で、下記のカチオンを挙げ
ることができる。
N−メチルピリジニウム、 N−エチルピリジニウム、 N−ヘキサデシルピリジニウム N−メチルピコリニウム。
式IIIに相当するカチオンの中で、下記のカチオンを挙
げることができる。
1,2−ビス(トリメチルアンモニウム)エタン、 1,3−ビス(トリメチルアンモニウム)プロパン、 1,4−ビス(トリメチルアンモニウム)ブタン、 1,3−ビス(トリメチルアンモニウム)ブタン。
これらの水酸化第四アンモニウムの中で、会合されたカ
チオンが、前記式(I) (式中、R基〜R基の任意の少なくとも3個は同一
であり、1個〜10個の炭素原子、かつ好ましくは1個
〜4個の炭素原子を含有するアルキル基から選ばれ、こ
れらの基の最後の基は10個より多くない炭素原子を含
有するアルキル、アリールおよびアルアルキル基から選
ばれる)に相当するものが好ましい。
このようなカチオンの例として、下記のカチオンを挙げ
ることができる。
テトラメチルアンモニウム、 テトラエチルアンモニウム、 ベンジルトリメチルアンモニウム、 フエニルトリメチルアンモニウム, アルカリ金属水酸化物の中で、水酸化ナトリウムおよび
水酸化カリウムが好ましい。
塩基性反応媒質としては、外因性希釈剤、さらに詳しく
は1個〜12個の炭素原子を含有するアルカノールを包
含してもよい。1個〜4個の炭素原子を含有するアルカ
ノール、さらに詳しくはエタノールまたはイソプロパノ
ールが好ましく用いられる。
反応媒質は、外因性希釈剤を含有しなくてもよく、その
ときは、適切ならば3−メチルピペリジンと、混合され
た、2−メチルペンタンジアミンである、内因性希釈剤
を含有するだろう。次いで、塩基性剤(さきに述べた水
酸化物)を希釈剤に溶解または分散する。
塩基性剤およびラニーニツケルをベースとする触媒の反
応媒質中の濃度は広い範囲内で変わり得る。
触媒(ニツケルとして表わす)は、希釈剤(内因性また
は外因性)の0.5重量%〜50重量%に相当し、また
好ましくは希釈剤の1重量%〜15重量%に相当する。
水酸化アルカリ金属または水酸化第四アンモニウムは、
ニツケルについて、0.5モル%〜50モル%に相当
し、かつ好ましくは、これはニツケルについて、2モル
%〜35モル%に相当する。
水素化反応は、温度40°〜150℃において行われ、
40℃未満では、反応速度は不十分であり、しかも15
0℃より高温では、重質生成物の形成が許容できなくな
る。この温度は、60℃〜110℃が有利である。
反応温度において測定した全圧は40バール以下であ
る。この全圧は、5バール以上の高圧が有利であり、か
つ好ましくは5バール〜25バールである。
本発明による方法を実施する場合、反応媒質の含水量が
10重量%を越えず、しかも好ましくは前記媒質の4重
量%未満またはこれに等しくなるようにこの含水量を制
限することが不可欠である。
本明細書の冒頭に示したように、本発明による方法を実
施する場合は、反応混合物中の2−メチルグルタロニト
リルの濃度はできるだけ低くなければならないことが重
要である。
原則として、逐次仕込において、操作手順により作業す
ることによつて、選択的に必要な生成物を得ることがで
きるが、この不連続法により、2−メチルグルタロニト
リルの高希釈度において作業する必要がある。すなわち
反応媒質の20重量%以下、かつ好ましくは10重量%
以下である出発原料の初期濃度である。
本発明の有利な態様により、反応の間の任意の時に許容
量3%過剰または不足で、水素消費量が用いた2−メチ
ルグルタロニトリル1モル当たり4モルであり、分析に
より監視される反応媒質中の2−メチルグルタロニトリ
ルの濃度が、0.1重量%以下であるように、それ自体
でとつたかまたはその種類がさきに規定された希釈剤に
希釈された2−メチルグルタロニトリルが、導入される
ことを意図して、操作は少なくとも半連続法によつて行
われる。
本発明の適切な利用のために、水素化される2−メチル
グルタロニトリルの全量は希釈剤の少なくとも10重量
%に等しい。
本方法は、明らかに連続的に行うことができ、連続水素
供給および反応媒質の連続排出、触媒を反応帯液から生
じる液体混合物から分離する相分離および(または)ろ
過、蒸留による必要な生成物の蒸留による分離、およ
び、適切ならば触媒および塩基性にされた希釈剤の少な
くとも1部分の再循環のために、触媒、希釈剤およびア
ルカリ金属または水酸化第四アンモニウムの補充供給用
と共に、追加手段が設けられる。
下記の例は、本発明を具体的に説明する。ここで下記の
約束を採用する。
DC:2−メチルグルタロニトリルの変換度を示す。
CY:用いた2−メチルグルタロニトリル100モル当
たり得られた生成物のモル数を示す。
mpda:2−メチルペンタンジアミン。
mpp:メチルピペリジン。
例 ここに挙げたラニーニツケルの量は固形分を表わす。
例1 240回転/分で回転する錨形攪拌機および3個の対向
翼(反応器設計および攪拌効率は、単位時間当たり水素
の消費量に留意し、反応が液相へのガス移送によつて決
して制限されないようなものである)を備えた容量3.
5のステンレス鋼製オートクレーブに下記のものを装
入する。
−水4%(重量)を含有するエタノール1.060m
、 −ニツケルをアルミニウムの等重量割合を含有するニツ
ケルとアルミニウムの合金(合金はクロムをドーピング
した)のアルカリ性消化によつて製造され、Procatalys
eによつて販売されているラニーニツケル(Ni 5
0)120gおよび −水酸化ナトリウムペレツト31g。
次いで窒素でパージしたオートクレーブを、水素で15
バールに加圧し、次に100℃に加熱する。次に、2−
メチルグルタロニトリル(純度99.5%より大)1
3.1モルを4時間にわたつて注入する。注入の終了
後、反応を約1時間30分続け、温度および圧力条件を
保つ。仕上げ期とよぶこの期間は、気相クロマトグラフ
イーによつて追跡した反応媒質の構成がこれ以上変化を
示さないために必要な時間である。
試験の終りに、反応混合物を冷却し、次いでろ過する。
次に、これを気相クロマトグラフイーによつて分析す
る。
得られた結果は下記の通りである。
DC=100% CY(mpda)=86% CY(mpp)=10% CY(他生成物)=4% 例2〜4、対照試験a 例1に記載のものと同様の操作手順に従つて、下記の共
通条件下に一連の試験を行う。
−容量300mの反応器を用いる。
−2−メチルグルタロニトリル0.1モルの全量を注入
する。
−外因性希釈剤(100m)およびラニーニツケル
(前記のNi 50)を2.16gの割合で用いる。
−温度は65℃である。
−水素圧力は15バールである。
個々の条件および得られた結果を下表に照合する。
全試験においてDC=100%。
例5−対照試験b 希釈剤の種類および今回100℃である反応温度に修正
して、前記例4を再現する。
例5において、希釈剤は、無水イソプロパノールであ
り、対照試験bにおいて、希釈は剤5重量%を含有する
イソプロパノールである。注入時間は90分であり、仕
上時間は30分である。両者の場合、DC=100%で
あるが、選択率は非常に異なる。
例5のCY(mpda):95.5% 試験bのCY(mpda):5%。
例6 下記を、容量300mのオートクレーブに装入する。
−2−メチルペンタンジアミン(希釈剤) 100m、 −ラニーニツケル(前記に定義したNi 50) 12.9gおよび −水酸化ナトリウムペレツト0.56g。
次いで、窒素でパージされたオートクレーブを水素で1
5バールまで加圧し、次に100℃に加熱する。次い
で、2−メチルグルタロニトリル1.03モルを3時間
にわたつて注入し、次にこの温度および圧力条件を30
分保つ。
下記の結果が得られる。
DC=100% CY(mpda):88.1%。
例7 例2〜例4に記載されたと同様の装置において下記のも
のを含有する装入材料について試験を行う: −2−メチルグルタロニトリル 0.1モル、 −100%エタノール 100m、 −ラニーニツケル(前記のNi 50) 2.16gおよび −水酸化カリウムペレツト 0.58g 40℃における14バールでの7時間の接触後、下記の
結果が得られる。
DC=100% CY(mpda)=75.9%。
例8 ジヤケツトにより加熱され、6枚羽根のタービンで攪拌
され、そして4枚の対向翼を備えた容量1のステンレ
ス鋼製オートクレーブに下記のものを装入し、次いで窒
素でパージする。
−96%エタノール 300m、 −ラニーニツケル(前記のNi 50) 33gおよび −濃度50%の水酸化ナトリウム水溶液1.7g。
反応器を水素で加圧し、攪拌を1,500回転/分にお
いて開始し、次いで温度を約50℃に上昇させる。
次いで、反応器の圧力を5バールに調節し、次に2−メ
チルグルタロニトリル2.82モルを3時間40分にわ
たつて導入し、温度が65℃に保たれるように温度を制
御する。
次いで、2−メチルグルタロニトリルの導入を停止し、
次にこの温度および圧力条件を30分保つ。
DC=100% CY(mpda)=72.7%、これは2−メチルペンタン
ジアミンの毎時生産量0.56モルに相当する。
例9 水素圧力を修正して、例8を再現し、反応器の圧力を
ここで10バールに保つ。
2−メチルグルタロニトリル3.52モルを4時間40
分にわたつて供給し、この温度および圧力条件を、注入
の終り後30分保つ。結果は下表の通りである。
DC=100% CY(mpda)=79.7%、 これは2−メチルペンタンジアミンの毎時生産量0.6
モルに相当する。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ラニーニッケルをベースとする触媒の存在
    下、初期非アンモニア系塩基性媒質中における2−メチ
    ルグルタロニトリルの液相水素化による、2−メチルペ
    ンタンジアミンの製造方法において、水素化反応を温度
    40℃〜150℃、40バール以下の全圧において10重量%よ
    り多くない水を含有する反応媒質中において行い、反応
    媒質における2−メチルグルタロニトリルの濃度が反応
    媒質の20重量%以下であることを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】反応温度が60℃〜110℃であることを特徴
    とする、特許請求の範囲第1項に記載の方法。
  3. 【請求項3】水素圧力が25バール以下であることを特徴
    とする、特許請求の範囲第1項または第2項に記載の方
    法。
  4. 【請求項4】反応媒質が4重量%より多くない水を含む
    ことを特徴とする、前記特許請求の範囲の何れか1項に
    記載の方法。
  5. 【請求項5】反応媒質が1個〜12個の炭素原子を含有す
    るアルカノールを含むことを特徴とする、前記特許請求
    の範囲第1項〜第4項の何れか1項に記載の方法。
  6. 【請求項6】アルカノールがエタノール及びイソプロパ
    ノールから選ばれることを特徴とする、特許請求の範囲
    第5項に記載の方法。
  7. 【請求項7】反応媒質が、反応系に外因性の任意の希釈
    剤を含まず、しかも、希釈剤として2−メチルペンタン
    ジアミンを含むことを特徴とする、特許請求の範囲第1
    項〜第4項の何れか1項に記載の方法。
  8. 【請求項8】反応媒質が、水酸化ナトリウム、水酸化カ
    リウムまたは水酸化第四アンモニウムを含むことを特徴
    とする、前記特許請求の範囲第1項〜第7項の何れか1
    項に記載の方法。
  9. 【請求項9】触媒(ニッケルとして表して)が希釈剤の
    0.5重量%〜50重量%、かつ好ましくは1重量%〜15重
    量%に相当することを特徴とする、前記特許請求の範囲
    第1項〜第8項の何れか1項に記載の方法。
  10. 【請求項10】水酸化アルカリ金属または水酸化第四ア
    ンモニウムは、ニッケルについて、0.5モル%〜50モル
    %、かつ好ましくは2モル%〜35モル%に相当すること
    を特徴とする、特許請求の範囲第8項または第9項に記
    載の方法。
  11. 【請求項11】2−メチルグルタロニトリルの初期濃度
    が、反応媒質の10重量%以下であることを特徴とする、
    前記特許請求の範囲の何れか1項に記載の方法。
  12. 【請求項12】反応中は、水素消費量が用いた2−メチ
    ルグルタロニトリル1モル当たり4モルで、かつその誤
    差が±3%であり、そして分析によって監視された反応
    媒質中の2−メチルグルタロニトリルの濃度が0.1重量
    %以下であるように、2−メチルグルタロニトリルが反
    応媒質に導入されることを特徴とする、前記特許請求の
    範囲第1項〜第11項の何れか1項に記載の方法。
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