JPS6048951A - ジメチルヘキサメチレンジアミンの製造法 - Google Patents
ジメチルヘキサメチレンジアミンの製造法Info
- Publication number
- JPS6048951A JPS6048951A JP58156275A JP15627583A JPS6048951A JP S6048951 A JPS6048951 A JP S6048951A JP 58156275 A JP58156275 A JP 58156275A JP 15627583 A JP15627583 A JP 15627583A JP S6048951 A JPS6048951 A JP S6048951A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- catalyst
- raney nickel
- dimethyladiponitrile
- raney
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ジメチルアジポニトリル（以下ＤＭＡＤＮと
略す）を水素添カロし、高収率、高選択率でジメチルヘ
キサメチレンジアミン（以下ＤＭＨＭＤと略す）を製造
する方法に関するものである。
略す）を水素添カロし、高収率、高選択率でジメチルヘ
キサメチレンジアミン（以下ＤＭＨＭＤと略す）を製造
する方法に関するものである。
ＤＭＨＭＤ ＋’！、良薬、医薬の原料として有用であ
るほか、透明ナイロンの原料として重賛な物質である。
るほか、透明ナイロンの原料として重賛な物質である。
ＤＩＭＡＤＮからＤＭＨＭＤを製造する従来技術として
レエ、ＤＭＡＤＮをラネーニッケルの存在下で水素添加
して製造する方法［Ｔｅｚｒａｈｅｄｒｅｎ １ｅｚｔ
、ｅｒ、 １９７０Ｐ−３７９１〜４］が提案されてい
るが、この製１− 法は詳細な説明がなく単にラネーニッケルを用い水素添
加を行うと記載されているだけであり詳細な製法は分ら
ないが、反応収率はＤＭＨＭＤで５６％、ジメチルへキ
サメチレンイミン（以下ＤＭＨＭ工と略す）で９％と記
載されており、反応収率からでは工業的な製造法として
は十分なものとはいいがたい。
レエ、ＤＭＡＤＮをラネーニッケルの存在下で水素添加
して製造する方法［Ｔｅｚｒａｈｅｄｒｅｎ １ｅｚｔ
、ｅｒ、 １９７０Ｐ−３７９１〜４］が提案されてい
るが、この製１− 法は詳細な説明がなく単にラネーニッケルを用い水素添
加を行うと記載されているだけであり詳細な製法は分ら
ないが、反応収率はＤＭＨＭＤで５６％、ジメチルへキ
サメチレンイミン（以下ＤＭＨＭ工と略す）で９％と記
載されており、反応収率からでは工業的な製造法として
は十分なものとはいいがたい。
本発明者らは、ＤＭＨＭＤの収率が高収率で且つ工業的
に容易に実施しうる方法を開発すべく鋭意研究を重ねた
結果、低級アルキルアルコール溶媒中で、ラネー触媒及
び助触媒を用いて水素添加することで、極めて高収率で
容易にＤＭＨＭＤを製造しうろことを見出した。
に容易に実施しうる方法を開発すべく鋭意研究を重ねた
結果、低級アルキルアルコール溶媒中で、ラネー触媒及
び助触媒を用いて水素添加することで、極めて高収率で
容易にＤＭＨＭＤを製造しうろことを見出した。
本発明は、ＤＭＥ（ＭＤσ）収率が高収率で、且つ工業
的に有利なりＭＨＭＤの製造する方法を提供することを
目的とするものである。
的に有利なりＭＨＭＤの製造する方法を提供することを
目的とするものである。
上記目的を達成した本発明のＤＭＨＭＤを製造する方法
は、ジメチルアジポニトリルを低級アルキルアルコール
溶媒中で、ラネー触媒及び塩基性助触媒を用いて水素添
加することを特徴とする特許ある。
は、ジメチルアジポニトリルを低級アルキルアルコール
溶媒中で、ラネー触媒及び塩基性助触媒を用いて水素添
加することを特徴とする特許ある。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の水素添加反応は低級アルキルアルコールの溶媒
中で行なう必要がある。低級アルキルアルコール、！：
して＆ｊメチルアルコール、エチルアルコール、プロぎ
ルアルコール等が用いられる。しカシ、メチルアルコー
ル、フロビルアルコールは収率が低下するため、エチル
アルコールを用いることが好ましい。
中で行なう必要がある。低級アルキルアルコール、！：
して＆ｊメチルアルコール、エチルアルコール、プロぎ
ルアルコール等が用いられる。しカシ、メチルアルコー
ル、フロビルアルコールは収率が低下するため、エチル
アルコールを用いることが好ましい。
低級アルキルアルコールの濃度トしては、１０チ以上あ
ればよく、１０％以下ではＤＭＨＭＤの収率が低下する
。又、上限濃度としては、反応器の容積効率、精製工程
での用役コスト等の経済性から決められる。
ればよく、１０％以下ではＤＭＨＭＤの収率が低下する
。又、上限濃度としては、反応器の容積効率、精製工程
での用役コスト等の経済性から決められる。
本発明において、触媒＆了うネー触媒を用いることが必
要である。ラネー触媒としては、ラネーニッケル触媒、
ラネーコバルト触媒であり、経済性の点からラネーニッ
ケル触媒を用いることが好ましい。
要である。ラネー触媒としては、ラネーニッケル触媒、
ラネーコバルト触媒であり、経済性の点からラネーニッ
ケル触媒を用いることが好ましい。
触媒量としては、仕込みＤＭＡＤＮに対して重量比６−
で０．００２以上用いればよく、０．００２以下では反
応が進まない。触媒量の上限としては制限がないが、触
媒コスト、及び攪拌上からおのずと制限される。
応が進まない。触媒量の上限としては制限がないが、触
媒コスト、及び攪拌上からおのずと制限される。
本発明においては、塩基性助触媒を用いる必要がある。
塩基性助触媒としては、アルカリ金属の水酸化物であり
、例えば、水酸化す） ＩＪウム、水酸化カリウム等で
ある。このうち経済性の点から水酸化ナトリウムを用い
ることが好ましい。
、例えば、水酸化す） ＩＪウム、水酸化カリウム等で
ある。このうち経済性の点から水酸化ナトリウムを用い
ることが好ましい。
塩基性助触媒の使用量としては、反応液中の濃度として
０．１重量％以上あればよい。０．１重量−以下の場合
は反応が進行しない。
０．１重量％以上あればよい。０．１重量−以下の場合
は反応が進行しない。
反応温度としては、５０°Ｃ〜１６０℃の範囲で行うこ
とが好ましい。５０℃以下では反応は進まず、１６０℃
以上では反応収率が低下する。
とが好ましい。５０℃以下では反応は進まず、１６０℃
以上では反応収率が低下する。
反応圧力としては、はぼ溶媒の分圧と水素分圧とからな
るが、水素分圧としては触媒量及び反応温度にもよるが
、通常１０ Ｋｙ／ｃｍ２Ｇ以上あればよい。１０ Ｋ
ｙ／ｃｍ２Ｇ以下の場合反応が十分進まない。
るが、水素分圧としては触媒量及び反応温度にもよるが
、通常１０ Ｋｙ／ｃｍ２Ｇ以上あればよい。１０ Ｋ
ｙ／ｃｍ２Ｇ以下の場合反応が十分進まない。
反応時間としては、触媒量、反応温度、反応圧４−
力によって決まるが、通常１時間以上あればよい。
反応液の攪拌としては、触媒が反応液中に均一に分散す
る攪拌であればよい。
る攪拌であればよい。
反応方法としては、原料を一度に仕込みＤＭＡＤＮを消
費するまで反応を行う回分式か、原料を連続で仕込み、
生成物を連続で抜き出て連続方式等がある。
費するまで反応を行う回分式か、原料を連続で仕込み、
生成物を連続で抜き出て連続方式等がある。
反応液の精製方法としては、常法によって行うことがで
きる。例えば、反応液からフィルター等で触媒を分離し
た後、蒸留で８ＩｉＪＬ、高純度のＤ）Ｊ（ＭＤを得る
方法である。
きる。例えば、反応液からフィルター等で触媒を分離し
た後、蒸留で８ＩｉＪＬ、高純度のＤ）Ｊ（ＭＤを得る
方法である。
以上詳述した如く、本発明の適用により１）高収率でＤ
ＭＩ（ＭＤを得ることができる。２）副生成物がほとん
ど生成されないので、ＤＭＨＭＤの精製が極めて容易に
行うことができる。などの効果がもたらされる。
ＭＩ（ＭＤを得ることができる。２）副生成物がほとん
ど生成されないので、ＤＭＨＭＤの精製が極めて容易に
行うことができる。などの効果がもたらされる。
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。
実施例１
圧力計、安全弁、ガス抜き弁、ガス供給弁、及−５−へ
ｒｌ び攪拌機付ステンレス製の内容積１００ ｃｃ のオー
トクレーブ（以下単にオートクレーブと略−ｆ）に、市
販のラネーニッケル合金（Ｎｉ ： Ａｌ ： Ｆｅ重
量比＝５０ ： ４９．５ ： ０．５ ）をＮａＯＨ
水溶液で展開した後水洗して得られたラネーニッケル触
媒０．５ｇをエチルアルコールで水を置換したものとＤ
ＭＡＤＮ ２０ ’ｉ、３０％−ＮａＯＨ水溶液０．３
ｖ、エチルアルコール３０ｇを仕込んだ後、オートクレ
ーブ内の空気を最初窒素、次いで水素で置換し水素を２
０ＫＰ／ｃＩｎ２Ｇまで導入した。（尚、水素ガスは１
５０ Ｋｙ／ａｍ２Ｇに充填されたボンベより、定圧弁
を経由して反応圧力が一定になる様供給され谷）次にヒ
ーターで加熱して昇温し、同時に攪拌機によってオート
クレーブ内を回転数１１０００ＲＰで攪拌した。昇温開
始後１５分で設定温度８５°Ｃに到達したので反応開始
とした。反応中は温度、圧力を保持てる様に調整しなが
ら水素添加を行なった。反応開始後、９０分経過した時
点で水素の供給を停止し、オートクレーブを冷却し反応
を停止した。反応終了後、反応液の重量測定、ガスク６
− ロマトグラ７での分析結果から、反応成績はＤＭＡＤＮ
の転化率で１００チ、ＤＭＨＭＤの選択率で９９．８
％であった。副生成−としては、ガスクロマトグラフで
は検出されなかった。
ｒｌ び攪拌機付ステンレス製の内容積１００ ｃｃ のオー
トクレーブ（以下単にオートクレーブと略−ｆ）に、市
販のラネーニッケル合金（Ｎｉ ： Ａｌ ： Ｆｅ重
量比＝５０ ： ４９．５ ： ０．５ ）をＮａＯＨ
水溶液で展開した後水洗して得られたラネーニッケル触
媒０．５ｇをエチルアルコールで水を置換したものとＤ
ＭＡＤＮ ２０ ’ｉ、３０％−ＮａＯＨ水溶液０．３
ｖ、エチルアルコール３０ｇを仕込んだ後、オートクレ
ーブ内の空気を最初窒素、次いで水素で置換し水素を２
０ＫＰ／ｃＩｎ２Ｇまで導入した。（尚、水素ガスは１
５０ Ｋｙ／ａｍ２Ｇに充填されたボンベより、定圧弁
を経由して反応圧力が一定になる様供給され谷）次にヒ
ーターで加熱して昇温し、同時に攪拌機によってオート
クレーブ内を回転数１１０００ＲＰで攪拌した。昇温開
始後１５分で設定温度８５°Ｃに到達したので反応開始
とした。反応中は温度、圧力を保持てる様に調整しなが
ら水素添加を行なった。反応開始後、９０分経過した時
点で水素の供給を停止し、オートクレーブを冷却し反応
を停止した。反応終了後、反応液の重量測定、ガスク６
− ロマトグラ７での分析結果から、反応成績はＤＭＡＤＮ
の転化率で１００チ、ＤＭＨＭＤの選択率で９９．８
％であった。副生成−としては、ガスクロマトグラフで
は検出されなかった。
実施例２
実施例１のエチルアルコールからメチルアルコールに変
更する以外は全て実施例１と同一条件で水添反応を行っ
たところ、反応成績は、ＤＭＡＤＮの転化率で１００％
、ＤＭＨＭＤの選択率で９２．８％、副生成物であるＤ
ＭＨＭＩの選択率は５．４％であった。
更する以外は全て実施例１と同一条件で水添反応を行っ
たところ、反応成績は、ＤＭＡＤＮの転化率で１００％
、ＤＭＨＭＤの選択率で９２．８％、副生成物であるＤ
ＭＨＭＩの選択率は５．４％であった。
実施例６
実施例１のラネーニッケル触媒の代わりに、市販のラネ
ーコバルト合金（Ａｌ ： Ｃｏ重量比＝５０：５０）
を ＮａＯＨ水溶液で展開した後水洗して得られたラネ
ーコバルト触媒０．５ｇをエチルアルコールで水を置換
したものを用いる以外は実施例１と同様にして水添反応
を行ったところ、反応成績はＤＭＡＤＮの転化率で１０
０チ、ＤＭ服りの選択率で９８．２％、ＤＭＨＭＩの選
択率で１．４％であった。
ーコバルト合金（Ａｌ ： Ｃｏ重量比＝５０：５０）
を ＮａＯＨ水溶液で展開した後水洗して得られたラネ
ーコバルト触媒０．５ｇをエチルアルコールで水を置換
したものを用いる以外は実施例１と同様にして水添反応
を行ったところ、反応成績はＤＭＡＤＮの転化率で１０
０チ、ＤＭ服りの選択率で９８．２％、ＤＭＨＭＩの選
択率で１．４％であった。
実施例４
実施例１０３０％−ＮａＯＨ水溶液０．６ｇから６０％
−ＫＯＨ水溶液０．３ｇへ、反応温度８５℃から１２
０℃へ変更する以外は実施例１と同様にして水添反応を
行ったところ、反応成績は、ＤＭＡＤＮの転化率で１０
０チ、ＤＭＨＭＤの選択率で９９．１％、ＤＭＨＭＩの
選択率で０．５％であった。
−ＫＯＨ水溶液０．３ｇへ、反応温度８５℃から１２
０℃へ変更する以外は実施例１と同様にして水添反応を
行ったところ、反応成績は、ＤＭＡＤＮの転化率で１０
０チ、ＤＭＨＭＤの選択率で９９．１％、ＤＭＨＭＩの
選択率で０．５％であった。
特許出願人 旭化成工業株式会社
Claims (1)
- ジメチルアジポニトリルを低級アルキルアルコール溶媒
中で、ラネー触媒及び塩基性助触媒を用いて水素添加す
ることを特徴とするジメチルへキサメチレンジアミンの
製造法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58156275A JPS6048951A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | ジメチルヘキサメチレンジアミンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58156275A JPS6048951A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | ジメチルヘキサメチレンジアミンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6048951A true JPS6048951A (ja) | 1985-03-16 |
Family
ID=15624245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58156275A Pending JPS6048951A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | ジメチルヘキサメチレンジアミンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6048951A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62226786A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-05 | Toshiba Corp | 監視装置 |
| US4987263A (en) * | 1987-08-12 | 1991-01-22 | Rhone-Poulenc Chimie | Preparation of 2-methylpentadiamine |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5441804A (en) * | 1977-09-02 | 1979-04-03 | Takeda Chem Ind Ltd | Preparation of primary amines |
-
1983
- 1983-08-29 JP JP58156275A patent/JPS6048951A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5441804A (en) * | 1977-09-02 | 1979-04-03 | Takeda Chem Ind Ltd | Preparation of primary amines |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62226786A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-05 | Toshiba Corp | 監視装置 |
| US4987263A (en) * | 1987-08-12 | 1991-01-22 | Rhone-Poulenc Chimie | Preparation of 2-methylpentadiamine |
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