JPH0637157A - 半導体ウエハ及び半導体ウエハの検査方法 - Google Patents

半導体ウエハ及び半導体ウエハの検査方法

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JPH0637157A
JPH0637157A JP18948392A JP18948392A JPH0637157A JP H0637157 A JPH0637157 A JP H0637157A JP 18948392 A JP18948392 A JP 18948392A JP 18948392 A JP18948392 A JP 18948392A JP H0637157 A JPH0637157 A JP H0637157A
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JP
Japan
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pads
semiconductor
wafer
semiconductor chip
semiconductor wafer
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Application number
JP18948392A
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English (en)
Inventor
Tomoya Aizawa
智哉 相沢
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JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 プローブピンの最小間隔よりも短いピッチで
配列されたボンディングパッドに対して検査を実施でき
る半導体ウエハ及び半導体ウエハの検査方法を提供する
ことにある。 【構成】 配列された各半導体チップ2のうち、スクラ
イブ領域4を挟んで相対するパッド3同士を個々に導電
層5を介して電気的に接続し、半導体ウエハ1を形成す
る。機能検査の際には、検査対象の半導体チップ2のパ
ッド3に対し、1つ置きにプローブピンを位置させ、こ
のプローブピンが位置しないパッド3に対しては、この
パッド3と電気的に接続された別の半導体チップ2のパ
ッド3に対してプローブピンを位置させる。そしてこの
各プローブピンを相対する各パッド3にそれぞれ接触さ
せることにより、該当する半導体チップ2の機能検査を
行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】多数の半導体チップを配列形成し
た半導体ウエハ、及びこの半導体ウエハの検査方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体チップの製造において
は、1枚の半導体ウエハ上に多数の半導体チップを配列
させた状態で形成し、この後、このウエハを個々の半導
体チップに分割する、いわゆるダイシングが行われる。
通常、このダイシングの前にウエハ状態の半導体チップ
の機能検査を行い、不良品にマーキングを施しておく。
【0003】図4にウエハ状態の半導体チップ12を示
す。この配列された各半導体チップ12間にはスクライ
ブ領域14が形成されており、この領域部分を、高速回
転するダイヤモンドブレードなどによって深く切り込
み、ダイシングを行うものである。
【0004】また、各半導体チップ12の上部には、チ
ップの各辺に沿ってボンディングパッド13が形成され
ている。機能検査の際には、開口部を有するプローブ保
持板からこの開口部中央に向かって放射状に向けられた
多数のウエハープローブピン15を、該当する各ボンデ
ィングパッド13に接触させて検査を行う(図2参
照)。このウエハープローブピン15を介して試験装置
から電源及び入力信号が供給されると共に、その出力信
号が検出される。
【0005】このウエハープローブピン15の先端部
は、各ボンディングパッド13の配列位置に対応して予
め位置決めされており、プローブ保持板に対して半導体
ウエハ10が上昇及び下降することにより、ボンディン
グパッド13とウエハープローブピン15との接離が行
われる。1つの半導体チップ12の検査が終了した後、
隣接する半導体チップ12に対象を移し、同様な検査が
繰り返され、ウエハ上の全ての半導体チップに対して順
に検査が行われる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】この半導体チップの高
密度集積化を進める上では、一定の範囲内に多数のボン
ディングパッドが配列できることが望ましい。しかし、
この半導体チップを検査するウエハープローブピン同士
の先端部の最小ピッチは、各プローブピンの太さなどの
制約から、数10μm程度である。即ち、ボンディング
パッドのピッチが、この間隔よりも短い場合には従来の
装置では測定できず、これがボンディングパッドのピッ
チを短くする上での一つの課題となっていた。
【0007】本発明はこのような課題を解決すべくなさ
れたものであり、その目的は、このような従来のウエハ
ープローブピンを用いた検査方法によっても、従来より
も短いピッチでボンディングパッドを形成した半導体チ
ップに対しても検査できる半導体ウエハ及び半導体ウエ
ハの検査方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明にかかる半導体ウ
エハは、多数の半導体チップを配列形成した半導体ウエ
ハにおいて、配列された各半導体チップはそれぞれ複数
のパッドを有しており、隣接する半導体チップのうち、
スクライブ領域を挟んで相対するパッド同士を、個々に
電気的に接続して構成する。
【0009】また、本発明に係る半導体ウエハの検査方
法は、半導体ウエハ上に配列形成された半導体チップの
各パッドに対し、この各パッドの配列位置に対応して設
けられた各検査プローブをそれぞれ接触させて検査を行
う半導体ウエハの検査方法において、この半導体ウエハ
は、隣接する半導体チップのうち、スクライブ領域を挟
んで相対するパッド同士を、個々に電気的に接続して形
成されており、検査すべき半導体チップのうち、この半
導体チップの1つの辺に沿って配列されたパッドに対
し、1つ置きに各検査プローブを位置させ、かつ、この
検査プローブが位置しないパッドに対しては、このパッ
ドと電気的に接続された隣接する別の半導体チップのパ
ッドに対して前記各検査プローブを位置させ、この各検
査プローブを相対する各パッドにそれぞれ接触させるこ
とにより、該当する半導体チップの検査を行うことを特
徴とするものである。
【0010】
【作用】本発明に係る半導体ウエハは、1つの半導体チ
ップとその四方に隣接する半導体チップ間で、相対する
辺に配列された前記パッド同士を、個々に電気的に接続
して構成している。従って、電気的に接続されたパッド
同士は、互いに共通のパッドとして利用でき、検査時に
は、接続されたパッドのいずれかに検査プローブを接触
させれば、所望のパッドに接続できたことになる。
【0011】一方、半導体ウエハの検査方法では、この
ように半導体ウエハを構成したので、検査する半導体チ
ップには、配列されたパッドに対して1つ置きに各検査
プローブを位置させるものとする。そして、この検査プ
ローブが位置しないパッドには、このパッドと接続状態
の他の半導体チップ上のパッドに対して、検査プローブ
を位置させる。この状態から、各検査プローブを相対す
る前記各パッドに接触させれば、検査すべき半導体チッ
プの全てのバッドに検査プローブが接続される。
【0012】
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。図1は、半導体ウエハ1の一部を拡大して示
すものであり、多数の半導体チップ2が規則正しく配列
形成されている。各半導体チップ2上部の周縁には、各
辺に沿って、それぞれ4つのボンディングパッド3が一
定の間隔で形成されている。この各辺に沿って形成され
たボンディングパッド3は、図において斜線で示すスク
ライブ領域4を挟んで、導電層5を介して相対する辺に
沿って形成されたボンディングパッド3と電気的に接続
されている。この導電層5は、ウエハ上のアルミ配線層
を利用して形成しているが、この他にも、ポリシリコン
層、イオン注入によって形成した半導体導電層など、ス
クライブ領域4を渡るいずれのレイヤーも利用すること
ができ、ボンディングパッド同士が互いに電気的に接続
できればどのレイヤーを利用しても良い。なお、各半導
体チップ2の配列間隔は、従来のものと同一の間隔で配
列している。
【0013】次に、このように形成した半導体ウエハ1
の検査方法について説明する。この検査は、図2に示す
ように、開口部の中央に向かって放射状に向けられた多
数のウエハープローブピン6を有するプローブ保持板7
を用いて行う。このウエハープローブピン6の先端部
は、検査すべきボンディングパッド3の配列位置に対応
して予め位置決めされており、このプローブ保持板7に
対して半導体ウエハ1が上昇及び下降することにより、
各半導体チップ2の各ボンディングパッド3とウエハー
プローブピン6との接離が行われる。
【0014】図3は、この半導体ウエハ1に配列された
半導体チップ2のうち、隣接する2つの半導体チップを
取り出して示したものであり、それぞれをA、Bとす
る。また、この各半導体チップA,Bの相対するボンデ
ィングパッドを、それぞれa1〜a4 、及びb1 〜b4
とする。図3の例では、a1 −b1 ,a2 −b2 ,a3
−b3 ,a4 −b4 が、導電層5を介してそれぞれ電気
的に接続されている。
【0015】ここで、例えば半導体チップAについて機
能検査を行う場合には、図2で示したように、プローブ
保持板7から放射状に向けられた多数のウエハープロー
ブピン6の先端部を、該当する各ボンディングパッドに
接触させて検査を行う。
【0016】このとき、検査用のウエハープローブピン
6を接触させるべきボンディングパッドを、図3に示す
ように、a1 ,b2 ,a3 及びb4 として定め、この上
方部にウエハープローブピン6の先端部を位置させる。
また図3では、右隣の半導体チップBのみを図示した
が、半導体チップAの上方、下方及び左隣にも半導体チ
ップが位置しており、半導体チップAの残る辺に沿って
形成されたボンディングパッドに対しても、同一の配置
で、隣接する半導体チップのボンディングパッドを利用
しながら、ウエハープローブピン6の先端部を位置させ
る。即ち、検査すべき半導体チップA上の各辺に沿って
配列したボンディングパッドに対しては、1つ置きにウ
エハープローブピン6の先端部を位置させ、この半導体
チップAにおいてウエハープローブピン6が位置しない
ボンディングパッドに対しては、この各ボンディングパ
ッドと電気的に接続され、かつ、周囲の別の半導体チッ
プに形成されたボンディングパッド上にウエハープロー
ブピン6を位置させるものである。
【0017】この各ウエハープローブピン6は、その先
端部が、これら該当する各ボンディングパッドに接触す
るように、該当するボンディングパッドの配列に対応さ
せ予め位置決めして形成しておく。そして、このウエハ
ープローブピン6を支持するプローブ保持板7に対して
半導体ウエハ1を上昇及び下降させて、各ウエハープロ
ーブピン6の先端部と、該当する各ボンディングパッド
との接離を行う。このようにして検査を行えば、検査対
象となる半導体チップの全てのボンディングパッドに対
して、直接、または導電層5を介して間接的に、ウエハ
ープローブピン6を接続させることができる。このよう
にウエハープローブピン6は、検査すべき半導体チップ
Aの全てのボンディングパッドと電気的に接続された状
態であるので、各ウエハープローブピン6を介して試験
装置から電源及び入力信号を供給すると共に、その出力
信号を検出して、従来と同様に機能検査を行うことがで
きる。
【0018】このような状態にウエハープローブピン6
を配置することにより、ウエハープローブピン同士の先
端部の間隔はl1 或いはl2 となる(図3参照)。従っ
て、例えばこのl1 の間隔を、ウエハープローブピン先
端部の最小ピッチに設定した場合にも、このピッチより
も短いピッチで配列するボンディングパッドに対して
も、ウエハープローブピンを用いて検査することが可能
となる。
【0019】全ての半導体チップ2に対して機能検査を
行って不良品にマーキングを施すなどした後、スクライ
ブ領域3にダイシングを施して、個々の半導体チップ2
に分割する。このダイシングによって、スクライブ領域
3の導電層5は切断され、各ボンディングパッド同士の
電気的接続も解消される。このとき、分割された各半導
体チップ2の外周部には、スクライブ領域4の切削残部
と共に、ボンディングパッドと接続状態の導電層5も一
部残ることになるが、この後のダイボンディング工程、
ワイヤボンディング工程でも、何等支障となることはな
く、従来の半導体チップと同様に取り扱うことができ
る。
【0020】本実施例では、図3において、ウエハープ
ローブピンを接触させるボンディングパッドとして、a
1 ,b2 ,a3 ,b4 を選定したが、対抗側のb1 ,a
2 ,b3 ,a4 にウエハープローブピンを接触させ検査
を行うことも勿論可能である。これは、半導体チップA
の上方、下方及び左隣に位置する半導体チップのボンデ
ィングパッドに対しても同様である。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかる半
導体ウエハは、スクライブ領域を挟んで相対するパッド
同士を互いに電気的に接続して構成したので、この接続
されたパッド同士は、たとえ別個の半導体チップに形成
されたパッドであっても、機能検査時には、互いに共通
のパッドとして利用することができる。
【0022】また、半導体ウエハの検査方法では、この
ように形成された半導体ウエハ上の1つの半導体チップ
の検査を行う場合、配列されたパッドに対して1つ置き
に各検査プローブを位置させ、検査プローブが位置しな
いパッドには、このパッドと接続状態の他の半導体チッ
プ上のパッドに対して、検査プローブを位置させる方法
を採用した。
【0023】よって、この状態から、各検査プローブを
相対する各パッドに接触させれば、検査すべき半導体チ
ップの全てのバッドに検査プローブが接続された状態と
なり、かつ、検査すべき半導体チップ上のパッドには、
1つ置きに各検査プローブが接触している状態である。
従って、検査プローブの最小ピッチに比べて短いピッチ
でパッドが配列する半導体チップに対しても、検査プロ
ーブを用いる方法によって確実に検査することが可能と
なる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる半導体ウエハの一部を拡大して
示す概略平面図である。
【図2】検査状態を示す概略斜視図である。
【図3】半導体ウエハに配列された半導体チップのう
ち、隣接する2つの半導体チップを取り出して概略的に
示す説明図である。
【図4】従来の半導体ウエハ及びその検査方法を示すた
め、半導体ウエハの一部を拡大して示す概略平面図であ
る。
【符号の説明】
1…半導体ウエハ、2…半導体チップ、3…ボンディン
グパッド、4…スクライブ領域、5…導電層。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多数の半導体チップを配列形成した半導
    体ウエハにおいて、 前記配列された各半導体チップはそれぞれ複数のパッド
    を有しており、隣接する半導体チップのうち、スクライ
    ブ領域を挟んで相対するパッド同士を、個々に電気的に
    接続してなる半導体ウエハ。
  2. 【請求項2】 半導体ウエハ上に配列形成された半導体
    チップの各パッドに対し、この各パッドの配列位置に対
    応して設けられた各検査プローブをそれぞれ接触させて
    検査を行う半導体ウエハの検査方法において、 この半導体ウエハは、隣接する前記半導体チップのう
    ち、スクライブ領域を挟んで相対する前記パッド同士
    を、個々に電気的に接続して形成されており、 検査すべき前記半導体チップのうち、この半導体チップ
    の1つの辺に沿って配列された前記パッドに対し、1つ
    置きに前記各検査プローブを位置させ、かつ、この検査
    プローブが位置しないパッドに対しては、このパッドと
    電気的に接続された隣接する別の半導体チップのパッド
    に対して前記各検査プローブを位置させ、 この各検査
    プローブを相対する各パッドにそれぞれ接触させること
    により、該当する半導体チップの検査を行うことを特徴
    とする半導体ウエハの検査方法。
JP18948392A 1992-07-16 1992-07-16 半導体ウエハ及び半導体ウエハの検査方法 Pending JPH0637157A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6072236A (en) * 1996-03-07 2000-06-06 Micron Technology, Inc. Micromachined chip scale package
US6091156A (en) * 1996-09-02 2000-07-18 Nec Corporation Semiconductor pellet having plural chips

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6072236A (en) * 1996-03-07 2000-06-06 Micron Technology, Inc. Micromachined chip scale package
US6124634A (en) * 1996-03-07 2000-09-26 Micron Technology, Inc. Micromachined chip scale package
US6207548B1 (en) 1996-03-07 2001-03-27 Micron Technology, Inc. Method for fabricating a micromachined chip scale package
US6358833B1 (en) 1996-03-07 2002-03-19 Micron Technology, Inc. Method of fabricating a micromachined chip scale package
US6407451B2 (en) 1996-03-07 2002-06-18 Micron Technology, Inc. Micromachined chip scale package
US6091156A (en) * 1996-09-02 2000-07-18 Nec Corporation Semiconductor pellet having plural chips

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