JPH06151535A - 半導体ウエハ及び半導体ウエハの検査方法 - Google Patents

半導体ウエハ及び半導体ウエハの検査方法

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JPH06151535A
JPH06151535A JP29535992A JP29535992A JPH06151535A JP H06151535 A JPH06151535 A JP H06151535A JP 29535992 A JP29535992 A JP 29535992A JP 29535992 A JP29535992 A JP 29535992A JP H06151535 A JPH06151535 A JP H06151535A
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JP
Japan
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semiconductor
pads
wafer
inspection
semiconductor wafer
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JP29535992A
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Tomoya Aizawa
智哉 相沢
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JFE Steel Corp
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Kawasaki Steel Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体チップに形成された各ボンディングパ
ッドに損傷を与えることなく、検査を実施することがで
きる半導体ウエハ及び半導体ウエハの検査方法を提供す
ることにある。 【構成】 半導体ウエハ1は、配列された各半導体チッ
プ2のうち、スクライブ領域4を挟んで相対するパッド
3同士を導電層5を介して個々に電気的に接続し、か
つ、このスクライブ領域4には、この各導電層5と個々
に電気的に接続された検査用パッド8をそれぞれ形成し
て構成する。検査時には、該当する半導体チップ2上の
パッド3に対してではなく、その周囲のスクライブ領域
4に形成された各検査用パッド8に対して各検査用プロ
ープを接触させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】多数の半導体チップを配列形成し
た半導体ウエハ、及びこの半導体ウエハの検査方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体チップの製造において
は、1枚の半導体ウエハ上に多数の半導体チップを配列
形成し、この後、このウエハを個々の半導体チップに分
割する、いわゆるダイシングが行われる。通常、このダ
イシングの前にウエハ状態の半導体チップの機能検査を
行い、不良品にマーキングを施しておく。
【0003】図5にウエハ状態の半導体チップ12を示
す。この配列された各半導体チップ間にはスクライブ領
域14が形成されており、この領域部分を、高速回転す
るダイヤモンドブレードなどによって深く切り込み、ダ
イシングを行うものである。
【0004】また、各半導体チップ12の上部には、チ
ップの各辺に沿ってボンディングパッド13が形成され
ている。機能検査の際には、開口部を有するプローブ保
持板から開口部中央に向かって放射状に向けられた多数
のウエハープローブピン15を、該当する各ボンディン
グパッド13に接触させて検査を行う(図2参照)。こ
のウエハープローブピン15を介して試験装置から電源
及び入力信号が供給されると共に、その出力信号が検出
される。
【0005】このウエハープローブピン15の先端部
は、各ボンディングパッド13の配列位置に対応して予
め位置決めされており、プローブ保持板に対して半導体
ウエハ10が上昇及び下降することにより、ボンディン
グパッド13とウエハープローブピン15との接離が行
われる。1つの半導体チップ12の検査が終了した後、
隣接する別の半導体チップ12に対象を移し、同様な検
査が繰り返され、ウエハ上の全ての半導体チップに対し
て順に検査が行われる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】この検査の際には、図
6(a)に示すように、ウエハープローブピン15がボ
ンディングパッド13に対して一定の力で押圧されて互
いに接触するが、従来のウエハープローブピン15は比
較的弾性に乏しいため、図6(b)に示すように、半導
体チップ12上のボンディングパッド13は、ウエハー
プローブピン15の先端部に押圧されて変形する場合が
あった。このようなボンディングパッド15の変形は、
後に施すワイヤボンディング工程において接触不良を引
き起こし、半導体チップの不良品発生の1つの原因にも
なっていた。
【0007】本発明は、このような課題を解決すべくな
されたものであり、半導体チップに形成された各ボンデ
ィングパッドに損傷を与えることなく、検査を実施する
ことができる半導体ウエハ及び半導体ウエハの検査方法
を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明にかかる半導体ウ
エハは、多数の半導体チップを配列形成した半導体ウエ
ハにおいて、配列された各半導体チップはそれぞれ複数
のパッドを有しており、隣接する半導体チップのうち、
スクライブ領域を挟んで相対するパッド同士を、このス
クライブ領域に形成された導電層によって個々に電気的
に接続し、かつ、このスクライブ領域には、この各導電
層と個々に電気的に接続された検査用パッドをそれぞれ
形成して構成する。
【0009】また、本発明にかかる半導体ウエハの検査
方法は、半導体ウエハ上に配列形成された半導体チップ
の各パッドに対し、この各パッドの配列位置に対応して
設けられた各検査プローブをそれぞれ接触させて検査を
行う半導体ウエハの検査方法において、この半導体ウエ
ハは、隣接する半導体チップのうち、スクライブ領域を
挟んで相対するパッド同士を、このスクライブ領域に形
成された導電層によって個々に電気的に接続し、かつ、
このスクライブ領域には、この各導電層と個々に電気的
に接続された検査用パッドをそれぞれ形成しており、検
査対象となる半導体チップのパッドと電気的に接続され
た各検査用パッドに対し、各検査用プローブを接触させ
て検査を行うことを特徴とする。
【0010】
【作用】本発明に係る半導体ウエハは、1つの半導体チ
ップとその四方に隣接する半導体チップ間で、相対する
パッド同士を、導電層によって個々に電気的に接続して
おり、スクライブ領域には、この各導電層と個々に電気
的に接続された多数の検査用パッドを形成している。従
って、スクライブ領域の各検査用バッドは、導電層を介
してその両側に位置する各半導体チップのパッドと電気
的に接続された状態であり、検査時には互いに共通のパ
ッドとして利用できる。
【0011】一方、半導体ウエハの検査方法では、この
ように半導体ウエハを構成したので、検査を実施する際
には、該当する半導体チップ上のパッドに対してではな
く、その周囲のスクライブ領域に形成された各検査用パ
ッドに対して各検査用プロープを接触させれば、該当す
る半導体チップの各パッドに各検査用プローブが接続さ
れた状態となる。
【0012】
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。図1は、半導体ウエハ1の一部を拡大して示
すものであり、多数の半導体チップ2が規則正しく配列
形成されている。各半導体チップ2上部の周縁には、各
辺に沿って、それぞれ4つのボンディングパッド3が一
定の間隔で形成されている。この各辺に沿って形成され
たボンディングパッド3は、図において斜線で示すスク
ライブ領域4を挟んで、導電層5を介して相対する辺に
沿って形成されたボンディングパッド3と電気的に接続
されている。また、スクライブ領域4の各導電層5上に
は、検査用パッド8を個々に形成しており、各導電層5
と検査用パッド8とは電気的に接続された状態である。
なお、この導電層5は、ウエハ上のアルミ配線層を利用
して形成しているが、この他にも、ポリシリコン層、イ
オン注入によって形成した半導体導電層など、スクライ
ブ領域4を渡るいずれのレイヤーも利用することがで
き、相対するボンディングパッドと検査用パッドとが互
いに電気的に接続できればどのレイヤーを利用しても良
い。
【0013】次に、このように形成した半導体ウエハ1
の検査方法について説明する。この検査は、図2に示す
ように、開口部の中央に向かって放射状に向けられた多
数のウエハープローブピン6を有するプローブ保持板7
を用いて行う。このウエハープローブピン6の先端部
は、検査すべきパッドの配列位置に対応して予め位置決
めされており、このプローブ保持板7に対して半導体ウ
エハ1が上昇及び下降することにより、各半導体チップ
2の各ボンディングパッド3とウエハープローブピン6
との接離が行われる。
【0014】図3は、この半導体ウエハ1に配列された
半導体チップ2のうち、検査すべき1つの半導体チップ
を拡大して示したものである。前述したように、プロー
ブ保持板7から放射状に向けられた多数のウエハープロ
ーブピン6の先端部を、該当する各パッドに接触させて
検査を行うが、本検査方法では、ボンディングパッド3
に直接、ウエハープローブピン6を接触させるのではな
く、この各ボンディングパッド3に対し、導電層5を介
して電気的に接続された各検査用パッド8にウエハープ
ローブピン6を接触させる。従って、ウエハープローブ
ピン6の先端部を、各検査用パッド8の配列位置に対応
させて予め位置決めして配列しておく。このように配列
された各ウエハープローブピン6の先端部と、該当する
各検査用パッド8とを接触させて検査を行えば、検査対
象となる半導体チップの全てのボンディングパッド3に
対して、ウエハープローブピン6は電気的に接続された
状態となる。従って、各ウエハープローブピン6を介し
て試験装置から電源及び入力信号を供給すると共に、そ
の出力信号を検出して、従来と同様に機能検査を行うこ
とができる。
【0015】このようにして順に全ての半導体チップ2
に対して機能検査を行い不良品にマーキングを施すなど
した後、スクライブ領域3にダイシングを施し、個々の
半導体チップ2に分割する。このダイシングによって、
スクライブ領域3に形成された検査用パッド8は切削除
去されると共に導電層5も切断され、各ボンディングパ
ッド同士の電気的接続も解消される。このとき、分割さ
れた各半導体チップ2の外周部には、スクライブ領域4
の切削残部と共に、ボンディングパッドと接続状態の導
電層5も一部残ることになるが、この後のダイボンディ
ング工程、ワイヤボンディング工程でも、何等支障とな
ることはなく、従来の半導体チップと同様に取り扱うこ
とができる。
【0016】さらに、他の実施例を図4に示す。図4
は、この半導体ウエハ1に配列された半導体チップ2の
うち、隣接する2つの半導体チップを取り出して示した
ものであり、それぞれをA、Bとする。この各半導体チ
ップA,Bの相対するボンディングパッドを、それぞれ
1 〜a4 、及びb1 〜b4 とし、各検査用パッドをc
1 〜c4 とする。図4の例では、a1 −c1 −b1 ,a
2 −c2 −b2 ,a3 −c3 −b3 ,a4 −c4 −b4
が、導電層5を介してそれぞれ電気的に接続されてい
る。
【0017】ここで、例えば半導体チップAについて機
能検査を行う場合には、ウエハープローブピン6を接触
させるパッドとして、a1 ,c2 ,a3 ,c4 を選定す
る。図4では、右隣の半導体チップBのみを図示した
が、半導体チップAの上方、下方及び左隣にも半導体チ
ップが位置しており、半導体チップAの残る辺に沿って
形成されたボンディングパッドに対しても、同一の配置
で、ウエハープローブピン6の先端部を位置させる。こ
のようにウエハープローブピン6の先端部を配列させて
も、各半導体チップの検査を同様に行うことができる。
この状態にウエハープローブピン6を配置することによ
り、ウエハープローブピン同士の先端部の間隔はl1
いはl2 となる(図4参照)。従って、例えばこのl1
の間隔を、ウエハープローブピン先端部の最小ピッチに
設定した場合にも、このピッチよりも短いピッチで配列
するボンディングパッドに対しても、ウエハープローブ
ピンを用いて検査することが可能となる。なお、ウエハ
ープローブピンを接触させるボンディングパッドとし
て、a1 ,c2 ,a3 ,c4 を例示したが、対抗側のc
1 ,a2 ,c3 ,a4 に接触するようにウエハープロー
ブピンを配列して検査を行うことも勿論可能である。こ
れは、半導体チップAの上方、下方及び左隣に位置する
半導体チップのボンディングパッドに対しても同様であ
る。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかる半
導体ウエハは、スクライブ領域を挟んで相対するパッド
同士を互いに電気的に接続し、かつ、このスクライブ領
域には、この各導電層と個々に電気的に接続された検査
用パッドを備えて構成したので、半導体チップ上の各パ
ッドとこれに接続された各検査用パッドとは、機能検査
時に、互いに共通のパッドとして利用することができ
る。また、スクライブ領域に形成された検査用パッド及
び導電層は、この後のダイシング工程で切削除去される
ので、さらにその後のダイボンディング工程、或いはワ
イヤボンディング工程でも、何等支障となることはな
く、従来の半導体チップと同様に取り扱うことができ
る。
【0019】また、半導体ウエハの検査方法では、該当
する半導体チップ上のパッドに対してではなく、その周
囲のスクライブ領域に形成された各検査用パッドに対し
て各検査用プロープを接触させるので、半導体チップ上
に形成された各ボンディングパッドに損傷を与えること
なく、機能検査を実施することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる半導体ウエハの一部を拡大して
示す概略平面図である。
【図2】検査状態を示す概略斜視図である。
【図3】半導体チップの検査方法を示す概略平面図であ
る。
【図4】他の検査方法を示す概略平面図である。
【図5】従来の半導体ウエハ及びその検査方法を示すた
め、半導体ウエハの一部を拡大して示す概略平面図であ
る。
【図6】(a),(b)は、ウエハープローブピンと接
触するボンディングパッドを示す概略側面図である。
【符号の説明】
1…半導体ウエハ、2…半導体チップ、3…ボンディン
グパッド、4…スクライブ領域、5…導電層、6…ウエ
ハープローブピン、8…検査用パッド。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多数の半導体チップを配列形成した半導
    体ウエハにおいて、 前記配列された各半導体チップはそれぞれ複数のパッド
    を有しており、隣接する半導体チップのうち、スクライ
    ブ領域を挟んで相対するパッド同士を、このスクライブ
    領域に形成された導電層によって個々に電気的に接続
    し、かつ、このスクライブ領域には、この各導電層と個
    々に電気的に接続された検査用パッドをそれぞれ形成し
    てなる半導体ウエハ。
  2. 【請求項2】 半導体ウエハ上に配列形成された半導体
    チップの各パッドに対し、この各パッドの配列位置に対
    応して設けられた各検査プローブをそれぞれ接触させて
    検査を行う半導体ウエハの検査方法において、 この半導体ウエハは、隣接する前記半導体チップのう
    ち、スクライブ領域を挟んで相対する前記パッド同士
    を、このスクライブ領域に形成された導電層によって個
    々に電気的に接続し、かつ、このスクライブ領域には、
    この各導電層と個々に電気的に接続された検査用パッド
    をそれぞれ形成しており、 検査対象となる前記半導体チップのパッドと電気的に接
    続された前記各検査用パッドに対し、前記各検査用プロ
    ーブを接触させて検査を行うことを特徴とする半導体ウ
    エハの検査方法。
JP29535992A 1992-11-04 1992-11-04 半導体ウエハ及び半導体ウエハの検査方法 Pending JPH06151535A (ja)

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