JPH06349982A - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置

Info

Publication number
JPH06349982A
JPH06349982A JP5134473A JP13447393A JPH06349982A JP H06349982 A JPH06349982 A JP H06349982A JP 5134473 A JP5134473 A JP 5134473A JP 13447393 A JP13447393 A JP 13447393A JP H06349982 A JPH06349982 A JP H06349982A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
conductor
semiconductor device
lead frame
chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5134473A
Other languages
English (en)
Inventor
Makoto Tanaka
田中  誠
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP5134473A priority Critical patent/JPH06349982A/ja
Publication of JPH06349982A publication Critical patent/JPH06349982A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05554Shape in top view being square
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48257Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a die pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • H01L2224/48465Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4911Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49171Fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/494Connecting portions
    • H01L2224/4943Connecting portions the connecting portions being staggered
    • H01L2224/49431Connecting portions the connecting portions being staggered on the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/494Connecting portions
    • H01L2224/4943Connecting portions the connecting portions being staggered
    • H01L2224/49433Connecting portions the connecting portions being staggered outside the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • H01L2224/7825Means for applying energy, e.g. heating means
    • H01L2224/783Means for applying energy, e.g. heating means by means of pressure
    • H01L2224/78301Capillary
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92Specific sequence of method steps
    • H01L2224/922Connecting different surfaces of the semiconductor or solid-state body with connectors of different types
    • H01L2224/9222Sequential connecting processes
    • H01L2224/92242Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
    • H01L2224/92247Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01078Platinum [Pt]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191Disposition
    • H01L2924/19101Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19107Disposition of discrete passive components off-chip wires

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Die Bonding (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 樹脂封止型半導体装置において、リードフレ
ームの品揃えを少なくし、標準化を図ることができ、し
かも、小型化でき、放熱効果を高めることができるもの
である。 【構成】 ダイパッドがなく、インナーリード5を有す
るリードフレームと、ポリイミドフィルムの表裏面に接
着剤を塗布して、対向するインナーリード5の先端上に
固着した3層構造フィルム10と、この3層構造フィル
ム10上に固着した導体板11とを備え、この導体板1
1上にICチップ1を搭載するものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は樹脂封止型半導体装置の
内部構造に関し、特に、その放熱性、小型化、リードフ
レームの品揃え、ICパッケージの割れ、などに優れた
樹脂封止型半導体装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図5は、従来の樹脂封止型半導体装置を
示す概略断面図である。図において、1はICチップ、
2はこのICチップ1の表面に設けた電極パターンであ
り、この電極パターン2はこのICチップ機能を入出力
する。3はリードフレームのダイパッドであり、このダ
イパッド3は金属合金から作られる。4は導電性接着剤
などの接着剤、5はインナーリード、6は金線などの金
属細線、7はモールド樹脂であり、このモールド樹脂7
はエポキシを主剤とする成形用樹脂などである。次に、
上記構成による樹脂封止型半導体装置の製造工程につい
て説明する。まず、リードフレームのダイパッド3上に
接着剤4を塗布する。そして、この接着剤4によってI
Cチップ1を固着したのち、金属細線6を用いて、電極
パターン2とインナーリード5を電気的に接続する。そ
して、全体をモールド樹脂7で封止する。
【0003】一方、上記ICチップは、トランジスタゲ
ート長による製造プロセスの違いとICチップの面積に
よって製造原価が決定されるため、市場の求めるIC機
能を満し、かつ、最小の面積で製造することになる。そ
の結果、ICチップの面積的種類は、多くなり、例えば
ゲートアレイなどでは、4×4mm〜15×15mmの
サイズまで幅広く存在する。また、市場の多機能要求に
伴い、ゲートアレイなどのゲート数増大によりICチッ
プの動作時の発熱量も増加してきている。このICチッ
プはシリコンでできているため、正常動作するには、例
えば温度125℃以下にしておく必要があるため、図5
に示す構造では、放熱経路がモールド樹脂の表面しかな
く、限界にきている。そこで、その解決策として、モー
ルド樹脂の表面に、金属体を接着剤で固着し、放熱効果
を高めるものが提案されているが、この放熱用金属体を
備えた樹脂封止型半導体装置(以下、ICパッケージと
言う)自体が大形になるため、それを使用する電子機器
も大きくなる。その解決策として、リードフレーム材質
を、鉄系ニッケル合金(一般的に広く使用されている)
から放熱性の高い銅系合金に変更する方法である。その
放熱経路は、モールド樹脂7の熱が、リードフレームを
介してICパッケージが搭載された基板上に放熱され
る。なお、この銅系合金のリードフレームは、その放熱
性の利点に反して、ICパッケージを基板に搭載した後
の市場における温度変化に対して鉄系合金のリードフレ
ームに比較して劣る。
【0004】また、ゲートアレイなどの高集積化に伴
い、高速化が進んでおり、同時スイッチングノイズが問
題となる。この同時スイッチングノイズは、ICチップ
1の出力バッファ(図示せず)が同時にスイッチングす
る場合、電流の集合する電源およびグランドの配線イン
ダクタンスにより、電圧の変動(ノイズ)が生じる。こ
の変動(ノイズ)がスイッチングしていない静止端子の
信号に乗り、誤動作を引き起す。特に、クロック周波数
が50MHzを越えると顕著になる。そこで、その解決
方法は、ICパッケージのリードに割り当てる電源とグ
ランドの本数を増やす方法がとられる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の樹脂封止型半導体装置、特に、ICチップの面積的
種類が多い場合では、(A1)ダイパッド3に対して、
ICチップ1が僅かに小さい、例えば0.2mm程小さ
い場合、ICチップ1をダイパッド3に接着剤4で固着
する工程では、位置決め装置の精度によっては、図6に
示すように、ダイパッド3からICチップ1が、はみ出
すことになる。その状態で金属細線6を接続するワイヤ
ボンディング工程を実行すると、キャピラリー8が電極
パターン2に圧力を加えるため、この電極パターン2の
直下に応力が働き、微小な割れが生じる。(A2)ダイ
パッド3に対してICチップ1が可成り小さい、例えば
1.5〜2.0mm程度小さい場合、図7に示すよう
に、金属細線6がダイパッド3に接触し、電気的に、シ
ョートした状態となる。これを防ぐため、ICチップ1
の面積、もしくは、細長いICチップなどに応じたリー
ドフレームを準備することになる。その結果、リードフ
レームの品揃えが増加し、購買発注工数や受入検査工
数、在庫管理工数のみならず、リードフレームの低価格
製造方法であるスタンピングの金型費の負担が大きくな
る。(A3)ICチップの多機能化により、年々大型化
し、例えば15×15mmのICチップを、大型ICパ
ッケージに搭載した場合、基板上に半田接合する工程の
リフローなどの熱により、ICパッケージが割れる。
(B)リードに割り当てる電源およびグランドの本数を
増加したICパッケージでは、その分のピン数が増加
し、結果的にICパッケージが大きくなる。(C)銅系
合金のリードフレームが、使用されたモールド樹脂とほ
ぼ近い熱膨張係数であるため、温度変化(一時的に製品
の加速試験では−65℃〜+150℃)が加わった際、
ICチップに全応力が集中し、ICチップの表面に剥離
が生じ、最悪の場合には、ICパッケージ内部に割れが
生じる、などの問題点があった。
【0006】本発明は、以上述べた(a1)ワイヤボン
ディング工程でICチップの電極パターン真下に割れが
発生すること、(a2)リードフレームの品揃えが多く
なること、(a3)半田接合工程で、ICパッケージが
割れること、(B)ピン数が増加し、ICパッケージが
大きくなること、(C)ICパッケージ内部に割れが生
じること、などの問題点を除去するため、ダイパッドの
ないリードフレームを使用し、このリードフレームの対
向するインナーリード先端上に、絶縁性物質を介して導
体板、あるいは導体と絶縁体の積層体を固着する、優れ
た装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】第1の発明に係る樹脂封
止型半導体装置は、ダイパッドのないリードフレーム
と、このリードフレームの対向するインナーリード先端
上に固着した絶縁性物質と、この絶縁性物質上に固着し
た導体板とを備え、この導体板上にICチップを搭載す
るものである。
【0008】第2の発明に係る樹脂封止型半導体装置
は、ダイパッドのないリードフレームと、少なくとも導
体と絶縁体を交互に積層して固着し、リードフレームの
対向するインナーリード先端上に固着したN層積層体と
を備え、このN層積層体の導体上にICチップを搭載す
るものである。
【0009】
【作用】本発明は、リードフレームの品揃えを少なくす
ることができ、標準化を図ることができる。しかも、放
熱効果を高めることができ、また、電源、グランド共に
低インダクタンス化することができる。
【0010】
【実施例】図1は本発明に係る樹脂封止型半導体装置の
一実施例を示す断面図であり、特に、ダイパッドのない
リードフレームを用いた場合を示す。図において、9は
インナーリード5に施したダイスボンディング用および
ワイヤーボンディング用のメッキ、10は絶縁体として
機能する3層構造フィルムであり、この3層構造フィル
ム10は、例えば10〜125μmのポリイミドフィル
ムを中心に、その表裏面に塗布した、例えば10〜25
μmの熱可塑もしくは熱硬化の接着剤から構成する。1
1は、導体板であり、この導体板11は、ニッケルを含
有する鉄系合金、例えば0.15mm厚の42アロイに
Agメッキを施したものであり、3層構造フィルム9上
に接着によって固定する。
【0011】なお、リードフレーム5は、銅系合金が望
ましい。また、導体板11は、テープキャリヤーのフィ
ルム、あるいは、印刷回路銅張積層板を用いてもよい。
【0012】次に、上記構成による樹脂封止型半導体装
置の構造工程について説明する。まず、リードフレーム
は、そのインナーリードの先端を現在のエッチング、ま
たはスタンピングで加工できる量産限界の細さまで加工
する。例えば、42アロイで0.15μm厚の場合、イ
ンナーリード間のピッチは、220μmである。そし
て、インナーリード5に、ダイスボンディングおよびワ
イヤーボンディング用のメッキ9を施す。このメッキ9
を施す大きさは、例えばモールド樹脂7の大きさが28
×28mmの場合、27×27mmとする。特に、メッ
キ9がICパッケージの外部リードに漏れない寸法とす
る。一方、3層構造フィルム10上に導体板11を搭載
し、例えば温度約110〜160℃、圧力1kg/cm
2 〜4kg/cm2 で、0.2〜1秒の処理を行い、導
体板11と3層構造フィルム10とを仮貼付する。そし
て、この導体板11と3層構造フィルム10を仮貼付で
一体化したものを、ダイスボンディングおよびワイヤボ
ンディング用のメッキ9上に搭載し、例えば、温度約1
90℃で、約2時間、加熱処理し、完全接着の貼合せを
行なう。そして、この導体板11上に、例えばエポキシ
系Agペーストの接着剤4を塗布して、ICチップ1を
搭載し、例えば、温度約1,800℃で熱硬化接着を行
なう。そして、金属細線6を用いて電極パターン2とイ
ンナーリード5を電気的に接続する。そして、全体をモ
ールド樹脂7で封止するものである。
【0013】このように構成した樹脂封止型半導体装置
では、ダイパッドのないリードフレームの、対向するイ
ンナーリード5の先端に、絶縁体として機能する3層構
造フィルム10、およびこの3層構造フィルム10上
に、ICチップ1の縦と横の寸法に適した導体板11を
固着したので、少ないリードフレームの品揃えで多くの
ICチップを搭載できる優れた標準化を提供できるこ
と、ICチップ1で発生した熱は、導体板11−3層構
造フィルム10−対向するインナーリード5を介して、
外部リードからICパッケージが接合(一般的に半田)
されたPCB(Printed Curcuit Bo
ard)上に放熱されるので、ICパッケージの大きさ
を大きくしなくてもすむという優れた熱特性が得られる
こと、対向するインナーリード5間に、モールド樹脂7
が入り込むため、基板に半田接合する工程で、リフロー
熱を受け、モールド樹脂7と導体板11間に働く熱膨張
係数差の応力に対する抗力になり、ICパッケージの割
れを防止することができる。
【0014】なお、上述の実施例では、あらかじめ接着
性を有する絶縁性の物質を絶縁性のポリイミドフィルム
の表裏面に塗布した3層構造フィルム10を用いたが、
これに限定せず、接着性を有する絶縁性の物質を導体板
11に塗布してもよいことはもちろんである。
【0015】図2は本発明に係る樹脂封止型半導体装置
の他の実施例を示す一部破断した側面図であり、特にダ
イパッドのないリードフレームを用いた場合を示す。図
において、12は7層積層体であり、この7層積層体1
2は、その詳細な断面を図3に示すように、最下層から
最上層に向って第1絶縁板13a、第1接着剤14a、
グランド用の第1導体15a、第2接着剤14b、第2
絶縁板13b、第3接着剤14c、電源用の第2導体1
5b、第4接着剤14d、第3絶縁板13c、第5接着
剤14e、第3導体15c、第6接着剤14f、第4絶
縁板13dが積層され、中央部に、第3導体15cを露
出する穴16cを中心に、左側に第2導体15bの一部
を露出する穴16b、右側に第1導体15aの一部を露
出する穴16aが設けられている。17および18は絶
縁性もしくは導電性の接着剤であり、この接着剤17
は、7層積層体12の第3導体層15c上に塗布してI
Cチップ1を固着する。接着剤18は、メッキ9上に塗
布して7層積層体12を固着する。19a〜19eは、
例えば25〜35μmφの金属細線であり、金属細線1
9aは、一方のインナーリード5と第2導体15bを電
気的に接続し、金属細線19bは第2導体15bとIC
チップ1の電極パターン2を電気的に接続し、金属細線
19cはICチップ1の電極パターン2と他方のインナ
ーリード5を電気的に接続し、金属細線19dはICチ
ップ1の電極パターン2と第1導体15aを電気的に接
続し、金属細線19eは第1導体15aと他方のインナ
ーリード5を電気的に接続する。
【0016】なお、図4は図2の概略平面図であり、そ
のA1−A2断面側面図を図2に示す。図4において、
この7層積層体12は、ICチップ1を搭載する搭載部
と左右に突出する突出部12aから構成する。また、第
1導体15a〜第3導体15cは、例えば厚さ35μm
の銅箔が用いられ、この銅箔上に厚さ5〜10μmのニ
ッケルメッキを施し、その上に厚さ0.3〜1.0μm
の金メッキを施すものである。
【0017】また、第1絶縁板13aと第1接着剤14
a、第2絶縁板13bとこの表裏面に塗布した第2接着
剤14bおよび第3接着剤14c、第3絶縁板13cと
この表裏面に塗布した第4接着剤14dおよび第5接着
剤14e、第4絶縁板13dと第6接着剤14fは、例
えばエポキシ系接着樹脂を含浸した、厚さ約50〜10
0μmの絶縁板・プリプレグを用いてもよい。
【0018】また、搭載するICチップ1の大きさ、こ
のICチップ1を搭載する7層積層体12の搭載部の大
きさについては、例えば、ICチップ1の大きさが10
×10mmの場合、第1導体15a〜第3導体15cの
大きさは、11×11mmとし、第1絶縁板13a〜第
4絶縁板13dの大きさは、12×12mmとする。そ
して、この7層積層体12の突出部12a(図4参照)
の幅は、金属細線19b,19d,19eでワイヤボン
ディングできる寸法0.5mm程度とすると、約1.5
mm程度である。
【0019】また、上記第1絶縁板13a〜第4絶縁板
13dおよび第1導体15a〜第3導体15cは、その
外形をプレス金型で打抜き、しかも、必要な位置にあら
かじめ穴16a〜16cを打抜くものであり、あるい
は、積層し、貼り合わせたのち、穴16a〜16cを形
成してもよい。
【0020】次に、上記構成の樹脂封止型半導体装置の
製造工程について説明する。まず、リードフレームは、
そのインナーリードの先端を、現在のエッチングまた
は、スタンピングで加工できる量産限界の細さまで加工
する。例えば、42アロイで0.15μm厚の場合、イ
ンナーリード間のピッチは、220μmである。そし
て、インナーリード5に、ダイスボンディングおよびワ
イヤーボンディング用のメッキ9、例えばAgメッキを
厚さ3〜8μmを施すが、そのメッキ9を施す大きさ
は、例えば、モールド樹脂7の大きさが28×28mm
の場合、27×27mmとする。また、7層積層体12
は、第1接着剤14aを塗布した第1絶縁板13a、第
1導体15a、裏面に第2接着剤14bを塗布し表面に
第3接着剤14cを塗布した第2絶縁板13b、第2導
体15b、表面に第4接着剤14dを塗布し表面に第5
接着剤14eを塗布した第3絶縁板13c、第3導体1
5c、第6接着剤14fを塗布した第4絶縁板13dを
積層し、貼り合せて、熱プレス硬化接着する。そして、
前記したインナーリード5の先端のメッキ9を施した部
分に、導電性の接着剤18を塗布したのち、前記した7
層積層体12を搭載し、温度約180℃で熱硬化接着す
る。そして、この7層積層体12の第3導体15c上
に、導電性の接着剤17を塗布し、ICチップ1を接着
固定する。そして、電源用のインナーリード5のメッキ
9と電源用の第2導体15bを、金属細線19aで電気
的に接続し、電源用の第2導体15bとICチップ1の
電源用の電極パターン2を、金属細線19bで電気的に
接続し、ICチップ1の信号用の電極パターン2と信号
用のインナーリード5のメッキ9を、金属細線19cで
電気的に接続し、ICチップ1のグランド用の電極パタ
ーン2とグランド用の第1導体15aを、金属細線19
dで電気的に接続し、グランド用の第1導体15aとグ
ランド用のインナーリード5のメッキ9を、金属細線1
9eで電気的に接続する。そして、全体をモールド樹脂
7で封止するものである。
【0021】このように構成した樹脂封止型半導体装置
では、ダイパッドのないリードフレームの、対向するイ
ンナーリード5の先端に、7層積層体12および、この
7層積層体12上にICチップを固着するので、ICチ
ップ1の電源用の電極パターンおよびグランド用の電極
パターンは、それぞれ面積の大きな電源用の第2導体1
5bおよびグランド用の第1導体15aに接続すること
ができるため、インダクタンスを下げることができ、し
かも、ピン数を増加させずに、同時スイッチングノイズ
による誤動作を防止することができる。
【0022】なお、以上の実施例では、7層積層体につ
いて説明したが、これに限定せず、N層(ただし、N≧
2)としても同様にできることは、もちろんである。
【0023】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る樹脂封止型半導体装置によれば、搭載するICチップ
の大きさに合わせた大きさの導体板あるいはN層積層体
を作成し、対向するインナーリードの先端に接着固定す
る構造のため、リードフレームの品揃えを少なくするこ
とができ、標準化を図ることができる。その結果、購買
発注工数、在庫管理工数のみならず、リードフレームの
低価格製造方法であるスタンピングの金型費の負担を低
減することができる。また、特に、第1実施例では、導
体板が3層構造フィルムを介してインナーリードに接着
しているので、ICチップの発熱をインナーリードに伝
え、更にICパッケージを搭載する基板に伝えることが
できるので、放熱効果を高めることができる。この結
果、ICパッケージ表面に金属の放熱フィンなどの取り
付けが不要になり、ICパッケージを小型化することが
できる。しかも、充分な長さのインナーリード上に、絶
縁性物質を介してICチップが搭載されているため、I
Cパッケージを基板などに半田接合する際のリフローな
どの熱ストレスに対して優れた耐熱性を有する。また、
特に、第2実施例では、N層積層体に、電源用の導体、
グランド用の導体を絶縁体をはさんで設け、ICチップ
の電源用電極、グランド用電極をこの電源用の導体、グ
ランド用の導体を介してインナーリードに電気的に接続
するため、電源、グランド共に低インダクタンス化を計
ることができる。その結果、インナーリードを複数本、
電極用、グランド用として接続することが不要となり、
ICパッケージのピン数を不必要に増やす必要がなくな
り、パッケージを小型化することができる、などの効果
がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る樹脂封止型半導体装置の一実施例
を示す断面図である。
【図2】本発明に係る樹脂封止型半導体装置の他の実施
例を示す一部破断した側面図である。
【図3】図2の7層積層体を示す詳細な断面図である。
【図4】図2の概略平面図である。
【図5】従来の樹脂封止型半導体装置を示す断面図であ
る。
【図6】図5におけるダイパッドとICチップの関係を
示す図である。
【図7】図5における大きなダイパッドとICチップの
関係を示す図である。
【符号の説明】
9 メッキ 10 3層構造フィルム 11 導体板 12 7層積層体 13a〜13d 絶縁板 14a〜14f 接着剤 15a〜15c 導体 17,18 接着剤 19a〜19e 金属細線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/50 S

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 樹脂封止型半導体装置において、ダイパ
    ッドのないリードフレームと、このリードフレームの対
    向するインナーリード先端上に固着した絶縁性物質と、
    この絶縁性物質上に固着した導体板とを備え、この導体
    板上にICチップを搭載することを特徴とする樹脂封止
    型半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記絶縁性物質は、絶縁性フィルムと、
    この絶縁性フィルムの表裏面に塗布した熱可塑、もしく
    は熱硬化の接着剤で構成した3層構造フィルムであるこ
    とを特徴とする請求項1記載の樹脂封止型半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記導体板は、テープキャリヤーのフィ
    ルムであることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止型
    半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記導体板は、印刷回路銅張積層板であ
    ることを特徴とする請求項1記載の樹脂封止型半導体装
    置。
  5. 【請求項5】 樹脂封止型半導体装置において、ダイパ
    ッドのないリードフレームと、少なくとも導体と絶縁体
    を交互に積層して固着し、リードフレームの対向するイ
    ンナーリード先端上に固着したN層積層体とを備え、こ
    のN層積層体の導体上にICチップを搭載することを特
    徴とする樹脂封止型半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記N層積層体は、第1導体〜第3導体
    と第1絶縁体〜第4絶縁体を交互に積層し、固着した7
    層積層体であり、第1導体および第2導体を電源用およ
    びグランド用としたことを特徴とする請求項5記載の樹
    脂封止型半導体装置。
  7. 【請求項7】 前記N層積層体は、積層した絶縁板・プ
    リプレグを用いたことを特徴とする請求項5記載の樹脂
    封止型半導体装置。
  8. 【請求項8】 前記リードフレームは銅系合金であり、
    前記導体板あるいは導体はニッケルを含有する鉄系合金
    であることを特徴とする請求項1、または請求項6記載
    の樹脂封止型半導体装置。
JP5134473A 1993-06-04 1993-06-04 樹脂封止型半導体装置 Pending JPH06349982A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5134473A JPH06349982A (ja) 1993-06-04 1993-06-04 樹脂封止型半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5134473A JPH06349982A (ja) 1993-06-04 1993-06-04 樹脂封止型半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06349982A true JPH06349982A (ja) 1994-12-22

Family

ID=15129146

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5134473A Pending JPH06349982A (ja) 1993-06-04 1993-06-04 樹脂封止型半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06349982A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6482674B1 (en) Semiconductor package having metal foil die mounting plate
US6002165A (en) Multilayered lead frame for semiconductor packages
US6437449B1 (en) Making semiconductor devices having stacked dies with biased back surfaces
US4974057A (en) Semiconductor device package with circuit board and resin
KR20010012187A (ko) 볼그리드어레이 반도체패키지 및 그 제조방법
JP2001015679A (ja) 半導体装置及びその製造方法
US20050093121A1 (en) Chip package and substrate
US20020063331A1 (en) Film carrier semiconductor device
JP2569400B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP2740977B2 (ja) 半導体装置
CN113937074A (zh) 四方扁平无引线封装结构
JPH11145322A (ja) 半導体装置
JPH06349982A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP3314574B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPH06132441A (ja) 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JP2004200665A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2004200665A6 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP3147189B2 (ja) リードフレームおよびその製造方法
JPS58134450A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP3210503B2 (ja) マルチチップモジュールおよびその製造方法
JPS61272956A (ja) ハイブリツド型半導体装置
JPH08172142A (ja) 半導体パッケージ及びその製造方法並びに半導体装置
JP2669286B2 (ja) 複合リードフレーム
JP2518145B2 (ja) 放熱板付き多層リ―ドフレ―ム
JPH05129514A (ja) リードフレームおよびその製造方法