JPH06349069A - 光記録読出し方法 - Google Patents

光記録読出し方法

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JPH06349069A
JPH06349069A JP5163892A JP16389293A JPH06349069A JP H06349069 A JPH06349069 A JP H06349069A JP 5163892 A JP5163892 A JP 5163892A JP 16389293 A JP16389293 A JP 16389293A JP H06349069 A JPH06349069 A JP H06349069A
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JP
Japan
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optical
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JP5163892A
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English (en)
Inventor
Kajiro Ushio
嘉次郎 潮
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 光源の波長や開口数を変更することなくC/
N比を向上させ、高密度の記録読出しを可能とするこ
と。 【構成】 基板2と、温度により光学特性の変化する熱
光学材料からなる記録層3とを備えた光ディスクを回転
させるとともにレーザ光を集光照射して、その反射光又
は透過光を検出することにより記録された情報の読出し
を行う光記録読出し方法において、前記光ディスクは、
基板2にレーザ光の回折限界以下のオーダの周期の凹凸
4を選択的に配して該凹凸4を設けた部分の有無又は長
さによって記録情報としたものである。前記凹凸は、記
録層3に設けてもよい。更に、記録層3の少なくとも一
方の面に熱反射層又は断熱層を設けたものを開示する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光記録読出し方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】コンピュータ、通信、映像機器をはじめ
とする情報機器の高機能化、パーソナル化の進捗にとも
ないその処理すべき情報の増大は止むことがない。この
ような背景の下、記録装置、媒体の高性能化は近年大き
な開発ターゲットとなっており、なかんずく記録の高密
度化、大容量化は来るべき画像情報のデジタル化時代を
鑑みても非常に大きな要請であるといえる。そして媒体
からの記録の読出し方法としての光学的方法は今後とも
高密度、大容量メモリーに関しての有力な方法であるこ
とは間違いないところである。
【0003】光記録読出し方法を用いた製品は、現在既
に音楽用CDやCD−ROM、LD或いは光磁気ディス
クなどとして広く提供されている。これらにおいては、
光源(読出し装置の小型化のために半導体レーザが用い
られることが多い。)からの照射光を記録媒体である回
転ディスク上に集光し、ディスク上の記録情報をその反
射光によって検出している。
【0004】記録情報としては、CDなどではディスク
上に設けた凹凸であり、そこからの反射光の大小が再生
情報となる。また光磁気ディスクでは、記録媒体の磁化
の向きが情報となり、磁化の向きによる照射光の反射光
(或いは透過光)の偏光面の変化によりその情報を読み
出している。
【0005】このように光記録読出し方法においては、
記録ディスク上に小さく集光することにより情報単位を
その大きさにまで小さくすることができ、このため大き
な記録密度が実現されている。現在、光磁気ディスクに
おいて約108 マーク/cm2 程度である。
【0006】なお、こうした光読出し用の光学ヘッド
は、半導体レーザなどの光源や、レンズ、ミラーなどの
集光光学系により構成されており、フォーカスやトラッ
キングなどのサーボ機構を備えている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
ような光を利用した情報の記録読出し方法においては、
照射光の集光の度合い(スポット径)が情報単位の大き
さ即ち、記録密度を決定しており、このスポット径の最
小値は光源の波長、および集光レンズ系の開口数によっ
て制限され、回折限界以下に小さくすることはできな
い。
【0008】現在の光源及び光学系での記録密度はほぼ
その限界に達しており、現在以上に記録密度をあげよう
とした場合には、光学系の改造で大きな開口数を得る
か、或いは、より短波長の光源を使用するかが考えられ
るが、どちらも装置の巨大化、高価格化を招き、好まし
くない。
【0009】そこで、最近においては、例えば、本出願
人が先に提案した特願平5−100704号などのよう
に、読出し方法に熱の効果を使った非線形物性をとり入
れ、より高密度の読出しを行う方法の提案がなされてい
る。このような方法では、加熱された部分だけを読み出
すという方法が取られることが多く、加熱効果の違いを
断熱層や熱拡散層の有無でつけるものである。
【0010】本発明は、このような光記録読み取りにお
けるC/N比を上昇させ、光源や開口数の大きな変更な
しに高密度の記録読出しを可能とする光記録読出し方法
を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成すべく、
本願の請求項1の発明に係る光記録読出し方法は、基板
と、温度により光学特性の変化する熱光学材料からなる
記録層とを備えた光ディスクを回転させるとともにレー
ザ光を集光照射して、その反射光又は透過光を検出する
ことにより記録された情報の読出しを行う光記録読出し
方法において、前記光ディスクは、前記基板に前記レー
ザ光の回折限界以下のオーダの周期の凹凸を選択的に配
して該凹凸を設けた部分の有無又は長さによって記録情
報としたものであることを特徴とするものである。
【0012】請求項2の発明に係る光記録読出し方法
は、基板と、温度により光学特性の変化する熱光学材料
からなる記録層とを備えた光ディスクを回転させるとと
もにレーザ光を集光照射して、その反射光又は透過光を
検出することにより記録された情報の読出しを行う光記
録読出し方法において、前記光ディスクは、前記記録層
に前記レーザ光の回折限界以下のオーダの周期の凹凸を
選択的に配して該凹凸の有無又は長さによって記録情報
としたものであることを特徴とするものである。
【0013】請求項3の発明に係る光記録読出し方法
は、前記請求項1又は2に記載の光記録読出し方法にお
いて、前記光ディスクは、前記記録層の少なくとも一方
の面に熱反射層が設けられたものであることを特徴とす
るものである。
【0014】請求項4の発明に係る光記録読出し方法
は、前記請求項1又は2に記載の光記録読出し方法にお
いて、前記光ディスクは、前記記録層の少なくとも一方
の面に断熱層が設けられたものであることを特徴とする
ものである。
【0015】
【作用】前記のように構成された本発明は、レーザ光の
照射による加熱により媒体の光学的性質が変化し、その
際の反射光量の変化(光量、偏光面)により情報を読み
出す方法に適用されるもので、照射光による記録媒体の
加熱の効果に大きな差をつけ、その温度差を反射光量
(又は透過光量)の差とし、C/N比を向上させるもの
である。
【0016】以下、図1を参照して本発明の光記録読出
し方法の原理を説明する。なお、同図の(a)はディス
クの断面の一部を模式的に示す図であり、(b)はディ
スクと直交する方向からディスクの一部を示す図であ
る。
【0017】従来、光磁気ディスクにレーザ光を集光照
射して該ディスクに記録された情報を読み出す方法にお
いては、回折限界まで集光されたレーザスポットに、二
値化した情報単位が多数個入った場合には、その識別は
できなかった。すなわち、スポットに情報単位「1」及
び「0」が3個入ったような場合、例えば、「100」
と「010」と「001」とでは、同じ検出信号強度を
示してしまい、これらを識別することは不可能であっ
た。
【0018】しかし、本発明の読出し方法では、次のよ
うにして、レーザスポット内に複数の情報単位が記録さ
れている場合にもそれらの情報の読出しが可能である。
すなわち、本発明においては、図1に示すように、ディ
スクの基板表面に細かい凹凸が選択的に設けてあり、こ
の凹凸を設けた領域4の有無又は長さにより情報を表示
する。
【0019】この凹凸は基板射出成型の際の金型の、原
型となるフォトレジスト或いは基板表面に凹凸をつける
ことにより得られる。これは、溶液やイオンによるエッ
チングで表面を「荒らす」ことで行えるし、また、より
規則性のよい凹凸を作成するためには、分割多光線によ
る干渉パターンによる露光という方法も用いることがで
きる。
【0020】そして、さらにこの基板に熱光学材料を薄
膜で形成した記録層3を設ける。この熱光学材料とは、
温度によって光学的な性質が変化する材料をいい、例え
ば、相変化型の合金であるGe−Sb−Teや、In−
Sb−Te、TeOx、屈折率の温度依存性の大きな材
料であるMoS2 やSBN、BaTiO3 、SbSIな
どを使用する。また加熱と磁場印加によって偏光方向が
異なる材料である光磁気媒体を使用することもできる。
【0021】このようなディスクに集光レンズ1により
集光されたレーザ光が照射されると、該レーザビームに
より熱光学材料(記録層3)は加熱されるが、前記凹凸
を設けた領域と設けていない領域とでは大きな温度差が
生ずる。すなわち、凹凸をつけた領域は、材料の単位体
積当たりの加熱エネルギーが小さくなる上に、放熱効果
も大きく、平滑な領域より温度が低くなる。このようし
て、凹凸の有無によって反射光強度が大きく異なる情報
単位「0」と「1」とが形成される。
【0022】今、凹凸を設けない温度の上昇する領域を
「1」、凹凸を設け温度のあまり上がらない領域を
「0」とすれば、一例として示した図1の場合、ビーム
スポット5の面積内に最小情報単位が3つ(情報は「1
01」である。)入っている。
【0023】ビームスポット5の光強度分布はビームの
中心程強く、近似的にガウス分布を見せるが、ディスク
の回転によりスポット5は相対的にディスク上を移動す
るため(図の右方、矢印10)、その加熱による温度分
布は同図の線図9に示すように光ビームスポット5の位
置からは少し後方にずれた形となる。
【0024】このため、次の情報単位「1」(同図の
8)が新たにビームスポット5内に入って来てもそこは
反射光の変化として識別しない。すなわち、ビームスポ
ット5内での進行方向に対し後方の、高温になった(凹
凸のない)情報単位「1」だけ(同図の6)の情報を反
射光は反映することとなり、結果的にビームスポット内
の最小情報単位の一個を「重み」をつけて読み出すこと
が可能となる。
【0025】ここで、前記熱光学材料は温度変化に対
し、可逆的な光反射率変化を見せる。したがって反射光
信号としては、常に温度分布を反映した、高温の領域だ
け(同図の6)の反射光強度を強く(重みをもって)反
映した信号が得られることとなり、より集光度が上昇し
たのと等価の効果が得られるのである。
【0026】また、前記凹凸はそれによる反射光の変調
(読み取っている信号の周波数成分での)が小さいこと
が望ましく、それには凹凸のサイズオーダが使用される
レーザ光の回折限界に比べて小さいことが要求される。
なぜなら、前記凹凸を回折限界より大きいものとする
と、該凹凸部でのレーザ光の回折により反射光量が変化
し、これが読み出される信号の雑音の原因となるからで
ある。
【0027】以上のように、本発明によれば、高密度で
記録された情報を、高C/N比で読み出すことが可能と
なる。
【0028】前述の説明では、基板2に凹凸を設けるも
のとしたが、前記請求項2に示すように熱光学材料(記
録層3)そのものに直接凹凸を設けるものとしてもよ
い。この場合には、記録層の成膜後にエッチングなどを
行うことにより該凹凸の形成を行うことができる。
【0029】さらに、請求項3に係る発明では、前記の
ようにディスクの記録層(熱光学材料)の少なくとも一
方の面に熱反射層が設けられ、また、請求項4に係る発
明では、前述のようにディスクの記録層(熱光学材料)
の少なくとも一方の面に断熱層が設けられているが、こ
れにより記録層(熱光学材料)の加熱がより効率的に行
われ、記録された情報単位(「0」と「1」)が、凹凸
の有無によるビーム照射時の温度として、より明確に区
別され読み出される。
【0030】なお、前記熱反射層及び断熱層は、図2に
示すように記録層3(熱光学材料)に接して設けられる
ことが望ましい(同図の11,11a)。また、その
際、該熱反射層及び断熱層11,11aは、図2に示す
ように記録層3の両面に設けてもよいし、レーザ光の照
射側、又はその逆側のどちらかに設けてもよい。ただ
し、光照射側に設ける場合には、該層として、光が大き
く吸収されたり、反射されたりしない材料を用いる。
【0031】前記熱反射層は、例えば、赤外線反射膜と
して知られるITOやZnO、TiO2 により、また、
前記断熱層は、例えば、SiO2 やZnS−SiO2
SiNなどにより形成することが望ましい。
【0032】
【実施例】本発明の実施例を説明する。図3は本発明の
第1の実施例に係る光記録読出し方法に使用するディス
クの断面の一部を示す模式図であり、図4は該実施例に
係る光記録読出し方法を説明するための概念図である。
【0033】図3に示すディスクは、次のようにして作
成した。先ず、ガラスの信号原板を使用波長400〜5
00nmのレーザカッティングマシーンで作成し、マー
クの形式は従来のCD(コンパクトディスク)やLD
(レーザディスク)と同様とし、最小マークサイズは長
さ0.5μm、幅0.5μm、トラック間隔は1.3μ
mとした。
【0034】レジストを塗布した後、フッ酸溶液でエッ
チングを行うことでガラス基板面を荒らした後、レジス
ト除去により、選択的に表面に凹凸のある信号原板を得
た。凹凸のサイズ、数は、溶液濃度、エッチング時間で
制御した。このガラス原板をマスターとして、ポリカー
ボネイト(ユーピロンH−4000)の射出成型で、信
号書き込み基板を得た。
【0035】こうして得た基板22に、図3に示すよう
に、ZnS−SiO2 膜(重量比4:1)をスパタリン
グにより50nm成膜して断熱層21とし、その上にT
eOxをO2 導入の反応性スパタリングによって約50
nm成膜して記録層23を形成した。さらに、ZnS−
SiO2 を100nm成膜して断熱層21aを形成し、
最後にエポキシ樹脂15をロールコーターにより塗布
し、硬化を行い、光ディスクを完成させた。
【0036】そして、図4に示すように、前記光ディス
クに対する照射光として波長λ=780nmの半導体レ
ーザ16を用い、開口数0.5の集光レンズ1により集
光を行うとともに、該ビームが7m/secの定線速度
で移動するようにディスクを回転させ、記録情報の読出
しを行った。なお、図4では、ディスクについて基板2
2と記録層23のみを示した。
【0037】照射光の集光(フォーカス)並びにトラッ
キングは、従来の光ディスク方式と同様に行う。すなわ
ち、ビームスプリッタ17により反射光をサーボ用分割
フォトセンサ18に取り入れ、サーボ用回路19によ
り、フォーカシング30は反射光のビーム形状によるサ
ーボで、また、トラッキングのサーボ31はマーク列か
らの回折光(プッシュプル信号)により実現した。
【0038】この読出し方法により、レーザーパワー4
mWで、最小マークサイズ長0. 5μm,マーク間隔
0. 5μmの信号列を50dB以上のC/Nレベルで読
み出すことができた。
【0039】次に第2の実施例について説明する。本実
施例では、次のようにして作成したディスクを使用し
た。すなわち、前記第1の実施例と同じく信号原板を使
用波長400〜500nmのレーザカッティングマシー
ンで作成し、フォトレジスト膜厚は通常のCD作成時よ
り小さくし(50nm程度)、マークの形式はやはりC
D、LDと同様に、最小マークサイズは長さ0.5μ
m、幅0.5μm、トラック間隔は1.3μmとした。
【0040】作成したフォトレジスト原板はArイオン
でボンバード(衝突)して表面を荒らし、前記凹凸を形
成した。この際、ガス圧、放電パワーによって、凹凸の
サイズ、数を制御した。この原板からNi膜のメッキに
より成型用のマスターを作成し、ポリカーボネイト(ユ
ーピロンH−4000)の射出成型で、信号書き込み基
板を得た。
【0041】そして前記第1の実施例のディスクと同様
に、ZnS−SiO2 膜を、スパタリングにより、50
nm成膜して断熱層とし、その上にTeOxをスパタリ
ングによって約50nm成膜して記録層を形成する。さ
らに、ZnS−SiO2 を100nm成膜して断熱層を
形成し、最後にエポキシ樹脂をロールコーターにより塗
布し、硬化を行い、光ディスクを完成させた。
【0042】このようにして作成したディスクを用いて
前記図4に基づいて説明した第1の実施例と同様の読出
しを行ったところ、レーザパワー4mWで、最小マーク
サイズ長0. 5μm,マーク間隔0. 5μmの信号列を
45dB以上のC/Nレベルで読み出すことができた。
【0043】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
温度差を反射光差として読み取る方法によって、光源の
波長や開口数の変更をすることなくC/N比を向上さ
せ、高密度の記録読出しを可能とすることができる。ま
た、本発明では、形状によって加熱効果の差をつけてい
るため、射出成型などの一括成型が可能となり、生産性
の点で非常に効率的で安価である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光記録読出し方法の原理を説明する概
念図である。
【図2】本発明の光記録読出し方法に使用する光ディス
クの断面の一部を示す模式図である。
【図3】本発明の一実施例に係る光記録読出し方法に使
用するディスクの断面の一部を示す模式図である。
【図4】本発明の一実施例に係る光記録読出し方法を説
明するための概念図である。
【符号の説明】
1 集光レンズ 2,22 基板 3,23 記録層(熱光学材料) 4 選択的に設けた凹凸部 4´ 凹凸部の拡大図 5 照射光スポット 6 温度上昇による反射率変化により読み出され
る情報単位「1」 7 温度上昇しない領域(情報単位「0」を示
す) 8 読み出されない情報単位「1」 9 記録層の温度分布曲線 10 基板の移動方向(スポットの移動方向と逆) 11,11a,21,21a 熱反射層または断熱層 15 封止用エポキシ樹脂層 16 半導体レーザ 17 ビームスプリッター 18 サーボ用分割フォトセンサ 19 サーボ用回路 尚、各図中同一符号は同一又は相当部分を示す。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板と、温度により光学特性の変化する
    熱光学材料からなる記録層とを備えた光ディスクを回転
    させるとともにレーザ光を集光照射して、その反射光又
    は透過光を検出することにより記録された情報の読出し
    を行う光記録読出し方法において、 前記光ディスクは、前記基板に前記レーザ光の回折限界
    以下のオーダの周期の凹凸を選択的に配して該凹凸を設
    けた部分の有無又は長さによって記録情報としたもので
    あることを特徴とする光記録読出し方法。
  2. 【請求項2】 基板と、温度により光学特性の変化する
    熱光学材料からなる記録層とを備えた光ディスクを回転
    させるとともにレーザ光を集光照射して、その反射光又
    は透過光を検出することにより記録された情報の読出し
    を行う光記録読出し方法において、 前記光ディスクは、前記記録層に前記レーザ光の回折限
    界以下のオーダの周期の凹凸を選択的に配して該凹凸の
    有無又は長さによって記録情報としたものであることを
    特徴とする光記録読出し方法。
  3. 【請求項3】 前記光ディスクは、前記記録層の少なく
    とも一方の面に熱反射層が設けられたものであることを
    特徴とする請求項1又は2に記載の光記録読出し方法。
  4. 【請求項4】 前記光ディスクは、前記記録層の少なく
    とも一方の面に断熱層が設けられたものであることを特
    徴とする請求項1又は2に記載の光記録読出し方法。
JP5163892A 1993-06-10 1993-06-10 光記録読出し方法 Pending JPH06349069A (ja)

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