JPH06348023A - 顔料を含むカラーフィルター用レジストの塗布方法 - Google Patents
顔料を含むカラーフィルター用レジストの塗布方法Info
- Publication number
- JPH06348023A JPH06348023A JP15637593A JP15637593A JPH06348023A JP H06348023 A JPH06348023 A JP H06348023A JP 15637593 A JP15637593 A JP 15637593A JP 15637593 A JP15637593 A JP 15637593A JP H06348023 A JPH06348023 A JP H06348023A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- color filter
- pigment
- fluid
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】塑性流体、チキソトロピー性流体などの、降伏
値を持つ非ニュートン性流体である顔料を含むカラーフ
ィルター用レジストを回転塗布する際、膜厚が均一で、
再現性の良い塗膜を得る方法の開発。 【構成】回転塗布基上の基板に、塑性流体、チキソトロ
ピー性流体などの、降伏値を持つ非ニュートン性流体で
ある顔料を含むカラーフィルター用レジストを塗布する
前に、スタティックミキサーを通してそのチキソ比を
1.0〜1.1に調整してから回転塗布を行う。
値を持つ非ニュートン性流体である顔料を含むカラーフ
ィルター用レジストを回転塗布する際、膜厚が均一で、
再現性の良い塗膜を得る方法の開発。 【構成】回転塗布基上の基板に、塑性流体、チキソトロ
ピー性流体などの、降伏値を持つ非ニュートン性流体で
ある顔料を含むカラーフィルター用レジストを塗布する
前に、スタティックミキサーを通してそのチキソ比を
1.0〜1.1に調整してから回転塗布を行う。
Description
【産業上の利用分野】本発明は、レジストの塗布方法に
関し、更に詳しくは液晶表示等に用いられるカラーフィ
ルターを製造する際に使用される、顔料を含むカラーフ
ィルター用レジストの塗布方法に関する。
関し、更に詳しくは液晶表示等に用いられるカラーフィ
ルターを製造する際に使用される、顔料を含むカラーフ
ィルター用レジストの塗布方法に関する。
【0002】
【従来の技術】VTRカメラ用、カラー複写機用として
需要の大きいカラー固体撮像素子及び軽量化、薄型化の
趨勢、CRT方式からの転換が進みつつあるカラー液晶
表示装置に用いられるカラーフィルターは、2種以上の
色相に着色された微細な樹脂層からなる領域(薄膜)
を、固体撮像素子あるいは、ガラスなどの透明基板上に
設けることによって形成されている。このような着色薄
膜は、従来染色法、印刷法により製造されており、特に
高精細度の画素が要求される場合は、染色法で作製する
のが主流である。
需要の大きいカラー固体撮像素子及び軽量化、薄型化の
趨勢、CRT方式からの転換が進みつつあるカラー液晶
表示装置に用いられるカラーフィルターは、2種以上の
色相に着色された微細な樹脂層からなる領域(薄膜)
を、固体撮像素子あるいは、ガラスなどの透明基板上に
設けることによって形成されている。このような着色薄
膜は、従来染色法、印刷法により製造されており、特に
高精細度の画素が要求される場合は、染色法で作製する
のが主流である。
【0003】しかしながら、染色法によるカラーフィル
ターは通常基板上に、あらかじめゼラチン、カゼイン等
の天然感光性樹脂、アミン変ポリビニルアルコール、ア
ミン変性アクリル樹脂などの染色基材をもって画素を形
成したのち、酸性染料等の染料で染色して作製するが、
多色を同一基板上に形成させる必要上、色相を変えるご
とに防染加工する必要があり、工程が非常に長いと言う
問題点を持っている。また、使用する染料、樹脂自体の
耐光性、耐熱性、耐湿性が一般に弱いため、これらを用
いて作製したカラーフィルターもおのずから、耐光性、
耐熱性、耐湿性の点で信頼性の問題があった。
ターは通常基板上に、あらかじめゼラチン、カゼイン等
の天然感光性樹脂、アミン変ポリビニルアルコール、ア
ミン変性アクリル樹脂などの染色基材をもって画素を形
成したのち、酸性染料等の染料で染色して作製するが、
多色を同一基板上に形成させる必要上、色相を変えるご
とに防染加工する必要があり、工程が非常に長いと言う
問題点を持っている。また、使用する染料、樹脂自体の
耐光性、耐熱性、耐湿性が一般に弱いため、これらを用
いて作製したカラーフィルターもおのずから、耐光性、
耐熱性、耐湿性の点で信頼性の問題があった。
【0004】印刷法によるカラーフィルターは熱硬化
性、または光硬化性の樹脂に顔料を分散したインクを用
い、基板上に印刷した後、熱、又は光で硬化させること
により作製するが、高精細な画素の形成が困難であり、
また得られた画素の表面平滑性に問題があった。
性、または光硬化性の樹脂に顔料を分散したインクを用
い、基板上に印刷した後、熱、又は光で硬化させること
により作製するが、高精細な画素の形成が困難であり、
また得られた画素の表面平滑性に問題があった。
【0005】そこで近年、工程の簡略化、耐光性、耐熱
性、耐湿性の向上を目的として、あらかじめ顔料を樹脂
中に分散させたカラーフィルター用レジストによるカラ
ーフィルターの検討がなされている。
性、耐湿性の向上を目的として、あらかじめ顔料を樹脂
中に分散させたカラーフィルター用レジストによるカラ
ーフィルターの検討がなされている。
【0006】顔料を含むカラーフィルター用レジストを
用いてカラーフィルターを作製する場合、前記レジスト
にはあらかじめ色素が分散されているので、染色および
防染加工の必要性がなく工程を簡略化でき、また顔料お
よび樹脂の、耐熱性、耐光性、耐湿性が高いため、この
レジストを用いて作製されるカラーフィルターの信頼性
が高い。
用いてカラーフィルターを作製する場合、前記レジスト
にはあらかじめ色素が分散されているので、染色および
防染加工の必要性がなく工程を簡略化でき、また顔料お
よび樹脂の、耐熱性、耐光性、耐湿性が高いため、この
レジストを用いて作製されるカラーフィルターの信頼性
が高い。
【0007】上記レジストを用いてカラーフィルターを
作製する際には、乾燥して溶剤を除去した時の膜厚が、
通常、1〜2μmとなるように塗布する。塗布方法とし
てはロールコーター、ワイヤーコーター、スピンコータ
ーなどの方法が検討されているが、基板の大型化に伴
い、スピンコーターによる回転塗布方法が、最も高い信
頼性を得ている。
作製する際には、乾燥して溶剤を除去した時の膜厚が、
通常、1〜2μmとなるように塗布する。塗布方法とし
てはロールコーター、ワイヤーコーター、スピンコータ
ーなどの方法が検討されているが、基板の大型化に伴
い、スピンコーターによる回転塗布方法が、最も高い信
頼性を得ている。
【0008】ここで、顔料を含むカラーフィルター用レ
ジストのレオロジーを見てみると、特開昭63─107
769にも記載があるように、その流動特性は、塑性流
体あるいはチキソトロピー性流体としての流動特性を示
す。このような非ニュートン性流体の特性は、レジスト
中に含有される顔料粒子により引き起こされることは周
知の事実である。
ジストのレオロジーを見てみると、特開昭63─107
769にも記載があるように、その流動特性は、塑性流
体あるいはチキソトロピー性流体としての流動特性を示
す。このような非ニュートン性流体の特性は、レジスト
中に含有される顔料粒子により引き起こされることは周
知の事実である。
【0009】カラーフィルターの膜厚は、前述の様に1
〜2μmとするのが一般的であるが、画素の形状、表面
状態を向上させる為に、膜厚を薄くするのが好ましく、
同一の分光特性を得るためにカラーフィルター用レジス
ト中の、顔料の割合を高くする必要があるが、顔料の含
有比率を高めるとレジスト中の顔料によるチキソトロピ
ー性が顕在化し、ズリ応力の有無で流動特性が変化して
くる。このチキソトロピー性は、レジスト中の顔料によ
る3次元の構造性によるもので、静置されることにより
その構造性は顕著となる。
〜2μmとするのが一般的であるが、画素の形状、表面
状態を向上させる為に、膜厚を薄くするのが好ましく、
同一の分光特性を得るためにカラーフィルター用レジス
ト中の、顔料の割合を高くする必要があるが、顔料の含
有比率を高めるとレジスト中の顔料によるチキソトロピ
ー性が顕在化し、ズリ応力の有無で流動特性が変化して
くる。このチキソトロピー性は、レジスト中の顔料によ
る3次元の構造性によるもので、静置されることにより
その構造性は顕著となる。
【0010】ここで、上記の様なチキソトロピー性をお
びたレジストを、回転塗布法により塗布すると、中心に
近ければ近いほど、外向きの遠心力は小さくなりレジス
トにかかるズリ応力は小さいため粘度が高くなり又、流
動性もなくなるが、これとは逆に、周辺になるほど外向
きの遠心力は大きくなり、レジストにかかるズリ応力は
大きいため、レジストの粘度が低くなり又、流動性も大
きくなる。このため、中心部では、膜厚が厚くなり、周
辺部では膜厚が薄くなり、塗膜の膜厚均一性に問題が生
じてしまう。
びたレジストを、回転塗布法により塗布すると、中心に
近ければ近いほど、外向きの遠心力は小さくなりレジス
トにかかるズリ応力は小さいため粘度が高くなり又、流
動性もなくなるが、これとは逆に、周辺になるほど外向
きの遠心力は大きくなり、レジストにかかるズリ応力は
大きいため、レジストの粘度が低くなり又、流動性も大
きくなる。このため、中心部では、膜厚が厚くなり、周
辺部では膜厚が薄くなり、塗膜の膜厚均一性に問題が生
じてしまう。
【0011】上記の様な、塗膜の膜厚の均一性を改善す
る為に、特開昭63─137768、特開昭63─13
7769では、顔料を含むカラーフィルター用レジスト
を基板上に供給後、該基板を回転して塗膜を形成する工
程において、回転を開始する直前に、該基板を水平方向
に振動させ、基板中央部のレジストにもずり応力をか
け、顔料による構造性を破壊し、流動性を持たせた上
で、次に回転を実施し、塗膜の均一化を図っている。
る為に、特開昭63─137768、特開昭63─13
7769では、顔料を含むカラーフィルター用レジスト
を基板上に供給後、該基板を回転して塗膜を形成する工
程において、回転を開始する直前に、該基板を水平方向
に振動させ、基板中央部のレジストにもずり応力をか
け、顔料による構造性を破壊し、流動性を持たせた上
で、次に回転を実施し、塗膜の均一化を図っている。
【0012】しかしながら、この様な回転塗布装置は、
構造上複雑で、高価な装置となってしまうため問題があ
った。
構造上複雑で、高価な装置となってしまうため問題があ
った。
【0013】また、簡便な方法として、塗布直前に、該
レジストをスターラーなどで攪拌し、流動性を上げてか
ら塗布する方法や、スターラーの代わりに、該レジスト
に超音波をあて、その振動により流動性を上げてから塗
布する方法が考えられるが、製造ラインで、連続生産す
る際には不都合であり、スターラー攪拌では、気泡が混
入してしまうという問題点がある。
レジストをスターラーなどで攪拌し、流動性を上げてか
ら塗布する方法や、スターラーの代わりに、該レジスト
に超音波をあて、その振動により流動性を上げてから塗
布する方法が考えられるが、製造ラインで、連続生産す
る際には不都合であり、スターラー攪拌では、気泡が混
入してしまうという問題点がある。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】顔料を含むカラーフィ
ルター用レジストを、回転塗布方法によって塗布する
際、塗膜の膜厚が均一になるような塗布方法が望まれて
いる。
ルター用レジストを、回転塗布方法によって塗布する
際、塗膜の膜厚が均一になるような塗布方法が望まれて
いる。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するため鋭意検討した結果、塗膜の膜厚均一な
塗布方法を見出す事に成功した。
題を解決するため鋭意検討した結果、塗膜の膜厚均一な
塗布方法を見出す事に成功した。
【0016】即ち、本発明は、顔料を含むカラーフィル
ター用レジストを、スピンコーターにて塗布する際、ス
タティックミキサーにより該レジストのチクソ比を1.
0〜1.1としてから塗布することを特徴とする顔料を
含むカラーフィルター用レジストの塗布方法を提供す
る。
ター用レジストを、スピンコーターにて塗布する際、ス
タティックミキサーにより該レジストのチクソ比を1.
0〜1.1としてから塗布することを特徴とする顔料を
含むカラーフィルター用レジストの塗布方法を提供す
る。
【0017】本発明の顔料を含むカラーフィルター用レ
ジストの塗布方法を、詳しく説明する。
ジストの塗布方法を、詳しく説明する。
【0018】本発明で使用されるスタティックミキサー
は、米国ケニックス製をはじめ、国内各社の製品が広く
実用に供されている。この形式は乱流を生じさせるエレ
メントを直列に幾段か重ね、この中にミキシングしよう
とする液を通過させる事だけで、混合攪拌する方法であ
るが、このミキシング部が静止状態(スタティック)で
あるため、混合の動力が不要であることが大きな特徴で
ある。
は、米国ケニックス製をはじめ、国内各社の製品が広く
実用に供されている。この形式は乱流を生じさせるエレ
メントを直列に幾段か重ね、この中にミキシングしよう
とする液を通過させる事だけで、混合攪拌する方法であ
るが、このミキシング部が静止状態(スタティック)で
あるため、混合の動力が不要であることが大きな特徴で
ある。
【0019】また、このスタティックミキサーの方式に
は、ただ単に、乱流を生じさせる方式の他に、エレメン
トを通過する流体を、2分割し、ひねりを与えて混合す
る工程を繰り返すことにより混合する、分割型の方式が
あるが後者の方が望ましい。
は、ただ単に、乱流を生じさせる方式の他に、エレメン
トを通過する流体を、2分割し、ひねりを与えて混合す
る工程を繰り返すことにより混合する、分割型の方式が
あるが後者の方が望ましい。
【0020】また、混合度の向上は、エレメントの段数
を増やす事により実施でき、送液配管の途中に、このス
タティックミキサーを設置するだけで混合攪拌が可能で
あり、さらには、混合部が半密閉状態である為、気泡な
どの混入が避けられると言った利点を有している。
を増やす事により実施でき、送液配管の途中に、このス
タティックミキサーを設置するだけで混合攪拌が可能で
あり、さらには、混合部が半密閉状態である為、気泡な
どの混入が避けられると言った利点を有している。
【0021】次に、本発明におけるチクソ比について説
明する。チキソトロピー性とは、前述の様に、ズリ応力
が高くなるにつれ、その時の粘度が低下する性質であ
り、粘性を表す方法としては1点での粘度測定では十分
でない。このためズリ応力の異なる2点の粘度を測定
し、この2つの値の比を見ることが一般的であり、この
値をチクソ比と呼ぶ。
明する。チキソトロピー性とは、前述の様に、ズリ応力
が高くなるにつれ、その時の粘度が低下する性質であ
り、粘性を表す方法としては1点での粘度測定では十分
でない。このためズリ応力の異なる2点の粘度を測定
し、この2つの値の比を見ることが一般的であり、この
値をチクソ比と呼ぶ。
【0022】本発明でのチクソ比は、以下の方法により
求めたものである。測定には、東京計器社製R−SL型
粘度計にて、液温度25℃で、ローター回転数3RPM
での粘度をAとし、同じく7PPMでの粘度をBとし、
次式により求めた。 チクソ比=A/B
求めたものである。測定には、東京計器社製R−SL型
粘度計にて、液温度25℃で、ローター回転数3RPM
での粘度をAとし、同じく7PPMでの粘度をBとし、
次式により求めた。 チクソ比=A/B
【0023】本発明では、前述のスタッティックミキサ
ーにより、チクソ性を持つ、顔料を含むカラーフィルタ
ー用レジストのチクソ比が1.0〜1.1となるように
してから塗布する。
ーにより、チクソ性を持つ、顔料を含むカラーフィルタ
ー用レジストのチクソ比が1.0〜1.1となるように
してから塗布する。
【0024】本発明のスタティックミキサーを使用す
る、顔料を含むカラーフィルター用レジストの塗布方法
を具体的に説明する。
る、顔料を含むカラーフィルター用レジストの塗布方法
を具体的に説明する。
【0025】例えば、第1図に示す様な方法で実施され
る。加圧タンク(1)に入った顔料を含むカラーフィル
ター用レジスト(2)は、窒素、空気などの加圧気体
(3)により配管を通じ、スタティックミキサー(4)
に導入される。ここで、チキソトロピー性を持つレジス
トはスタティックミキサー中を通過する事により、攪拌
されそのズリ応力により充分に流動性のある状態とな
る。この流動性の高いレジストは、回転台(5)に設置
された基板上に供給されたのちガラス等の基板(6)に
回転塗布される。回転台の回転数は通常400〜120
0RPMであり、塗膜の厚さは通常乾燥時の厚膜で1〜
5μである。この時、基板上に供給されたレジストの流
動特性は均一である為、基板中央とその周辺での流動特
性に差が殆どなく、回転塗布されたレジストの膜厚は均
一となる。このため、上記の様な方法で塗布することに
より得られるカラーフィルターは色むらが極めて少な
い。
る。加圧タンク(1)に入った顔料を含むカラーフィル
ター用レジスト(2)は、窒素、空気などの加圧気体
(3)により配管を通じ、スタティックミキサー(4)
に導入される。ここで、チキソトロピー性を持つレジス
トはスタティックミキサー中を通過する事により、攪拌
されそのズリ応力により充分に流動性のある状態とな
る。この流動性の高いレジストは、回転台(5)に設置
された基板上に供給されたのちガラス等の基板(6)に
回転塗布される。回転台の回転数は通常400〜120
0RPMであり、塗膜の厚さは通常乾燥時の厚膜で1〜
5μである。この時、基板上に供給されたレジストの流
動特性は均一である為、基板中央とその周辺での流動特
性に差が殆どなく、回転塗布されたレジストの膜厚は均
一となる。このため、上記の様な方法で塗布することに
より得られるカラーフィルターは色むらが極めて少な
い。
【0026】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
する。 実施例1 スチレン─マレイン酸共重合物のエチルハーフエステル
(分子量2000)15重量部と、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート10重量部と、チバ─ガイギー
社製光重合開始剤イルガキュアー907を1.8重量
部、日本化薬社製光重合開始剤DETXを0.9重量部
を42重量部のエチルセロソルブアセテートに溶解する
ことにより感光性樹脂を得た。
する。 実施例1 スチレン─マレイン酸共重合物のエチルハーフエステル
(分子量2000)15重量部と、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート10重量部と、チバ─ガイギー
社製光重合開始剤イルガキュアー907を1.8重量
部、日本化薬社製光重合開始剤DETXを0.9重量部
を42重量部のエチルセロソルブアセテートに溶解する
ことにより感光性樹脂を得た。
【0027】次に表1に示す顔料を、表記の混合比で配
合し後記する方法により分散化した。(表において混合
比は部で示す。)
合し後記する方法により分散化した。(表において混合
比は部で示す。)
【0028】
【表1】
【0029】上記、各顔料組成20部に対し、分散剤と
してソルビタン脂肪酸エステル系化合物を4部加え、さ
らにエチルセロソルブアセテートを76部加え、サンド
ミルにて分散化を行った。ここで分散化した赤、青、
緑、おのおのの、顔料粒子の平均個数分布は200nm
以下であった。この顔料分散ペーストを上記の用にして
得られた感光性樹脂に対し、40重量%加える事によ
り、赤、緑、青、黒各々のカラーフィルター用レジスト
を得た。このようにして得られたカラーフィルター用レ
ジストを、第1図に示す方法でミューカンパニー社製、
ミューミキサー(エレメント段数48)なるスタティッ
クミキサーを通し、そのチクソ比を測定すると共に、縦
20cm、横27cmのガラス基板を用い800r.
p.mの回転数で20秒間回転塗布を行い、200度の
オーブンで充分乾燥した後、基板中心点から対角線上に
3cmごとの膜厚を測定した。
してソルビタン脂肪酸エステル系化合物を4部加え、さ
らにエチルセロソルブアセテートを76部加え、サンド
ミルにて分散化を行った。ここで分散化した赤、青、
緑、おのおのの、顔料粒子の平均個数分布は200nm
以下であった。この顔料分散ペーストを上記の用にして
得られた感光性樹脂に対し、40重量%加える事によ
り、赤、緑、青、黒各々のカラーフィルター用レジスト
を得た。このようにして得られたカラーフィルター用レ
ジストを、第1図に示す方法でミューカンパニー社製、
ミューミキサー(エレメント段数48)なるスタティッ
クミキサーを通し、そのチクソ比を測定すると共に、縦
20cm、横27cmのガラス基板を用い800r.
p.mの回転数で20秒間回転塗布を行い、200度の
オーブンで充分乾燥した後、基板中心点から対角線上に
3cmごとの膜厚を測定した。
【0030】以下その結果を表2に示す。
【0031】
【表2】
【0032】比較例1 実施例1で作製した赤、緑、青、黒各々のカラーフィル
ター用レジストを、スタティックミキサーを通さない状
態でのチクソ比を測定し、同様に回転塗布を行い、膜厚
測定を行った結果を表3に示す。
ター用レジストを、スタティックミキサーを通さない状
態でのチクソ比を測定し、同様に回転塗布を行い、膜厚
測定を行った結果を表3に示す。
【0033】
【表3】
【0034】
【発明の効果】本発明の顔料を含むカラーフィルター用
レジストの塗布方法によれば、塑性流体、チキソトロピ
ー性流体などの非ニュートン性流体を回転塗布により極
めて均一に塗布することが可能であり、通常の回転塗布
方法では到底得ることのできない均一性がえられる。
レジストの塗布方法によれば、塑性流体、チキソトロピ
ー性流体などの非ニュートン性流体を回転塗布により極
めて均一に塗布することが可能であり、通常の回転塗布
方法では到底得ることのできない均一性がえられる。
【図1】本発明の塗布方法を実施する為の1態様を示す
概略図である。
概略図である。
1.加圧タンク 2.カラーフィルター用レジスト 3.加圧用気体 4.スタティックミキサー 5.回転台 6.ガラス基板
Claims (1)
- 【請求項1】顔料を含むカラーフィルター用レジスト
を、スピンコーターにて塗布する際、スタティックミキ
サーにより、該レジストのチクソ比を1.0〜1.1と
してから塗布することを特徴とする顔料を含むカラーフ
ィルター用レジストの塗布方法 【0001】
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15637593A JPH06348023A (ja) | 1993-06-03 | 1993-06-03 | 顔料を含むカラーフィルター用レジストの塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15637593A JPH06348023A (ja) | 1993-06-03 | 1993-06-03 | 顔料を含むカラーフィルター用レジストの塗布方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06348023A true JPH06348023A (ja) | 1994-12-22 |
Family
ID=15626383
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15637593A Pending JPH06348023A (ja) | 1993-06-03 | 1993-06-03 | 顔料を含むカラーフィルター用レジストの塗布方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06348023A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100375037B1 (ko) * | 1996-12-25 | 2003-05-09 | 가부시끼가이샤 도시바 | 도포장치 |
JP2007134487A (ja) * | 2005-11-10 | 2007-05-31 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 塗布装置 |
JP2007293050A (ja) * | 2006-04-25 | 2007-11-08 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法 |
JP2009217169A (ja) * | 2008-03-12 | 2009-09-24 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタ用インキ |
-
1993
- 1993-06-03 JP JP15637593A patent/JPH06348023A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100375037B1 (ko) * | 1996-12-25 | 2003-05-09 | 가부시끼가이샤 도시바 | 도포장치 |
JP2007134487A (ja) * | 2005-11-10 | 2007-05-31 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 塗布装置 |
JP2007293050A (ja) * | 2006-04-25 | 2007-11-08 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法 |
JP2009217169A (ja) * | 2008-03-12 | 2009-09-24 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタ用インキ |
JP4575967B2 (ja) * | 2008-03-12 | 2010-11-04 | 住友ゴム工業株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH08259876A (ja) | カラ−フィルタ−用有機顔料分散液 | |
US20170194530A1 (en) | Quantum dot film, its preparation method, its patterning method, and its display device | |
US20040130606A1 (en) | Correction ink for micro defect of color pattern, color filter, method for correcting micro defect of color pattern, and process for producing ink | |
JPH0812292B2 (ja) | 耐熱性カラーフィルターおよびその製造方法 | |
CN103201655B (zh) | 滤色器基板及使用该基板的边缘场开关方式液晶显示装置 | |
WO1995035525A1 (fr) | Matrice noire de resine pour affichages a cristaux liquides | |
JP2001081348A (ja) | 着色感光性組成物 | |
CN106855681A (zh) | 用于黑矩阵的组合物及其制备方法、显示基板和显示装置 | |
JPH06348023A (ja) | 顔料を含むカラーフィルター用レジストの塗布方法 | |
CN104364680B (zh) | 滤色器和显示装置 | |
TW460714B (en) | Color filter and liquid crystal display device | |
JP2678684B2 (ja) | カラーフィルター用光重合性樹脂組成物 | |
JPH10204321A (ja) | 黒色顔料組成物、高抵抗黒色感放射線性樹脂組成物及びその硬化物 | |
JPH0812290B2 (ja) | カラーフィルターおよびその製造方法 | |
JP2000056126A (ja) | カラ―フィルタ用ペ―ストとこれを用いたカラ―フィルタの製造方法およびカラ―液晶表示装置 | |
JPH09328618A (ja) | 遮光材料、黒色ペースト、カラーフィルタおよび液晶表示装置 | |
CN113913030B (zh) | 一种彩色光刻胶用黄色颜料及其改性方法、含其的黄色色浆及彩色光刻胶、滤光片 | |
CN114105896A (zh) | 一种颜料增效剂及其制备方法、光刻胶组合物和滤光片 | |
JPH085829A (ja) | 液晶表示素子用カラーフィルタ | |
JP2001042115A (ja) | カラーフィルターおよび液晶表示装置 | |
JPS61180202A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
JP3277101B2 (ja) | カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ | |
JP3350306B2 (ja) | 表示素子用着色材料及びそれを用いた表示素子 | |
JP2608588B2 (ja) | アクリル樹脂着色組成物 | |
JP2005242335A (ja) | カラーフィルター用着色組成物の製造方法、カラーフィルター用着色組成物、カラーフィルターの製造方法およびカラーフィルター |