JPH06347607A - 防湿性光学材料及びその製造方法 - Google Patents
防湿性光学材料及びその製造方法Info
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- JPH06347607A JPH06347607A JP5154597A JP15459793A JPH06347607A JP H06347607 A JPH06347607 A JP H06347607A JP 5154597 A JP5154597 A JP 5154597A JP 15459793 A JP15459793 A JP 15459793A JP H06347607 A JPH06347607 A JP H06347607A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 赤外線光学材料に塩化ビニリデン系共重合体
含有防湿層を施してなる防湿性光学材料。 【効果】 湿度に対し安定な光学特性を有する。また、
高価で大掛かりな装置を必要とすることなく、遙かに簡
便に、かつ安価に作製できる。
含有防湿層を施してなる防湿性光学材料。 【効果】 湿度に対し安定な光学特性を有する。また、
高価で大掛かりな装置を必要とすることなく、遙かに簡
便に、かつ安価に作製できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、赤外線透過性又は反射
性の、防湿性に優れた光学材料及びその製造方法に関す
る。
性の、防湿性に優れた光学材料及びその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の赤外線測定用光学材料のうち、長
波長域（４００cm-1〜２００cm-1）まで赤外線を透過す
るものとしては、KBr, NaCl, CsI, KRS-5, KRS-6などが
ある。しかし、これらの光学材料、特にKBr, NaCl, CsI
は潮解性が極めて強いため、溶解して透過率が経時的に
低下してしまうため、実際には使用できない。例えば、
LBO, DLAP, BBO, KTP などの非線形光学材料に関しても
同様である。このような問題を回避するため、これまで
に例えば、KBr 等の光学材料表面にフッ素系樹脂等の被
膜を設けて防湿性を付与する試みがなされている。しか
し、この方法は、非常に複雑であり、充分に満足できる
防湿膜は得られなかった。通常、フッ素系樹脂は、水分
子の大きさに比べて非常にポーラス（水分子が容易に通
過できる程隙間が開いていること、即ち、粗い分子構造
を有すること）であるため透湿性が大きい（透湿量: 1.
1g/m2 ×24hr）。そのため、フッ素系樹脂を用いて防湿
性を付与しようとすると、コーティング膜厚を例えば1.
０μｍ程度の充分な厚さにしない限り、満足な防湿効果
が得られない。ところが、フッ素系樹脂防湿膜の膜厚を
厚くすると１１８０cm-1付近の炭素−フッ素化学結合に
基づく赤外吸収のため、光学材料の赤外線透過率が数十
％も低下してしまい、赤外線透過光学系の光学材料とし
ては使用できない。さらに、フッ素系樹脂の成膜方法と
して、真空蒸着法（特開平３−１０４８５７号公報）や
プラズマ重合法（特開昭５０−６２６５２号公報）も提
案されているが、いずれも高価で大掛かりな装置を必要
とするばかりでなく、形成された膜が分解してフッ化水
素ガスを生成し装置を腐食する虞もある。またレーザ装
置の共振器ミラーとして、その基板にZnSe, CaF2（ホタ
ル石）、SiO2（石英）、Al2O3 （サファイヤ）、ガラス
等の赤外線反射性光学材料が使用されているが、これら
の基板上に吸着した水分子によって2.７〜3.２μｍの領
域の赤外線が吸収され、これらの基板上に蒸着された蒸
着膜あるいは基板と蒸着膜との境界部分が加熱され、そ
の熱によって基板自体が破壊されてしまうという問題が
あった。
波長域（４００cm-1〜２００cm-1）まで赤外線を透過す
るものとしては、KBr, NaCl, CsI, KRS-5, KRS-6などが
ある。しかし、これらの光学材料、特にKBr, NaCl, CsI
は潮解性が極めて強いため、溶解して透過率が経時的に
低下してしまうため、実際には使用できない。例えば、
LBO, DLAP, BBO, KTP などの非線形光学材料に関しても
同様である。このような問題を回避するため、これまで
に例えば、KBr 等の光学材料表面にフッ素系樹脂等の被
膜を設けて防湿性を付与する試みがなされている。しか
し、この方法は、非常に複雑であり、充分に満足できる
防湿膜は得られなかった。通常、フッ素系樹脂は、水分
子の大きさに比べて非常にポーラス（水分子が容易に通
過できる程隙間が開いていること、即ち、粗い分子構造
を有すること）であるため透湿性が大きい（透湿量: 1.
1g/m2 ×24hr）。そのため、フッ素系樹脂を用いて防湿
性を付与しようとすると、コーティング膜厚を例えば1.
０μｍ程度の充分な厚さにしない限り、満足な防湿効果
が得られない。ところが、フッ素系樹脂防湿膜の膜厚を
厚くすると１１８０cm-1付近の炭素−フッ素化学結合に
基づく赤外吸収のため、光学材料の赤外線透過率が数十
％も低下してしまい、赤外線透過光学系の光学材料とし
ては使用できない。さらに、フッ素系樹脂の成膜方法と
して、真空蒸着法（特開平３−１０４８５７号公報）や
プラズマ重合法（特開昭５０−６２６５２号公報）も提
案されているが、いずれも高価で大掛かりな装置を必要
とするばかりでなく、形成された膜が分解してフッ化水
素ガスを生成し装置を腐食する虞もある。またレーザ装
置の共振器ミラーとして、その基板にZnSe, CaF2（ホタ
ル石）、SiO2（石英）、Al2O3 （サファイヤ）、ガラス
等の赤外線反射性光学材料が使用されているが、これら
の基板上に吸着した水分子によって2.７〜3.２μｍの領
域の赤外線が吸収され、これらの基板上に蒸着された蒸
着膜あるいは基板と蒸着膜との境界部分が加熱され、そ
の熱によって基板自体が破壊されてしまうという問題が
あった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、上記問題点を解決し、高価で大掛かりな装置を必要
とすることなく製造できる、防湿性に優れた赤外線光学
材料、及びその製造方法を提供することである。
は、上記問題点を解決し、高価で大掛かりな装置を必要
とすることなく製造できる、防湿性に優れた赤外線光学
材料、及びその製造方法を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、赤外線光学材
料に結晶領域を有する塩化ビニリデン系共重合体含有防
湿層を施してなる防湿性光学材料を提供するものであ
る。本発明はまた、テトラヒドロフラン含有混合溶媒
に、結晶領域を有する塩化ビニリデン系共重合体を分散
・溶解し、この液を赤外線光学材料に塗布し、次いで前
記混合溶媒を蒸発させ、結晶領域を有する塩化ビニリデ
ン系共重合体被膜を形成させることを特徴とする、赤外
線光学材料に結晶領域を有する塩化ビニリデン系共重合
体含有防湿層を施してなる防湿性光学材料の製造方法を
提供するものである。
料に結晶領域を有する塩化ビニリデン系共重合体含有防
湿層を施してなる防湿性光学材料を提供するものであ
る。本発明はまた、テトラヒドロフラン含有混合溶媒
に、結晶領域を有する塩化ビニリデン系共重合体を分散
・溶解し、この液を赤外線光学材料に塗布し、次いで前
記混合溶媒を蒸発させ、結晶領域を有する塩化ビニリデ
ン系共重合体被膜を形成させることを特徴とする、赤外
線光学材料に結晶領域を有する塩化ビニリデン系共重合
体含有防湿層を施してなる防湿性光学材料の製造方法を
提供するものである。
【作用】塩化ビニリデン系共重合体は、結晶構造を有
し、その分子間隔が非常に狭く水分子の侵入を遮断する
ことができるため、これをその結晶構造を破壊すること
なくKBr 等の赤外線光学材料の表面に塗布することによ
り、経時的な湿度変化に対し安定した光学特性を有する
光学材料を作製できる。
し、その分子間隔が非常に狭く水分子の侵入を遮断する
ことができるため、これをその結晶構造を破壊すること
なくKBr 等の赤外線光学材料の表面に塗布することによ
り、経時的な湿度変化に対し安定した光学特性を有する
光学材料を作製できる。
【０００５】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
使用される赤外線光学材料としては、これらに限定され
るものではないが、赤外線透過性光学材料として、KBr,
NaCl, KCl, CsI, KRS-5, KRS-6, LBO, DLAP, BBO 及び
KTP を挙げることができ、また赤外線反射性光学材料と
して、ZnSe, CaF2（ホタル石）、SiO2（石英）、Al2O3
（サファイヤ）及びガラスを挙げることができる。本発
明に使用される塩化ビニリデン系共重合体は、塩化ビニ
リデンとこれと共重合可能なモノマー、例えば、塩化ビ
ニル、アクリル酸エステル、アクリロニトリル等との共
重合体であり、その共重合モル比は、６０：４０〜７
０：３０が適当である。このような共重合体は、市販さ
れており、例えば、サランラテックス（旭化成株式会社
製、呉羽化学株式会社製）等が挙げられる。
使用される赤外線光学材料としては、これらに限定され
るものではないが、赤外線透過性光学材料として、KBr,
NaCl, KCl, CsI, KRS-5, KRS-6, LBO, DLAP, BBO 及び
KTP を挙げることができ、また赤外線反射性光学材料と
して、ZnSe, CaF2（ホタル石）、SiO2（石英）、Al2O3
（サファイヤ）及びガラスを挙げることができる。本発
明に使用される塩化ビニリデン系共重合体は、塩化ビニ
リデンとこれと共重合可能なモノマー、例えば、塩化ビ
ニル、アクリル酸エステル、アクリロニトリル等との共
重合体であり、その共重合モル比は、６０：４０〜７
０：３０が適当である。このような共重合体は、市販さ
れており、例えば、サランラテックス（旭化成株式会社
製、呉羽化学株式会社製）等が挙げられる。
【０００６】本発明において結晶塩化ビニリデン系共重
合体含有防湿層は、塩化ビニリデン系共重合体を７０重
量％以上含有することが望ましい。本発明の防湿層は、
適当な溶媒に塩化ビニリデン系共重合体を分散してその
非晶領域（及び結晶領域の一部）を溶解し、結晶領域の
大部分が未溶解状態で存在する液体を赤外線光学材料に
塗布し、次いで必要により加熱しながら、前記混合溶媒
を蒸発させて被膜を形成することにより製造することが
できる。この過程で、未溶解状態で存在する結晶領域
と、溶解している塩化ビニリデン系共重合体の一部が結
晶化することにより生成した結晶領域とを有する、塩化
ビニリデン系共重合体被膜が形成される。ここで「適当
な溶媒」とは、塩化ビニリデン系共重合体を分散した
際、その非晶領域は溶解するが、結晶領域は実質的に溶
解することのない溶媒をいう。具体的には、テトラヒド
ロフラン含有溶媒であり、さらに具体的には、テトラヒ
ドロフラン１０〜９０重量％と希釈溶媒９０〜１０重量
％からなる混合溶媒である。希釈溶媒は、塩化ビニリデ
ン系共重合体の溶解性がほとんどなく、テトラヒドロフ
ランとよく混合する溶媒であればよく、例えば、酢酸エ
チル、トルエン、ジオキサン、ベンゼン、キシレン、こ
れらの混合溶媒等が挙げられる。混合溶媒中のテトラヒ
ドロフラン含有量が１０重量％より低いと塩化ビニリデ
ン系共重合体の非晶領域の溶解性が充分でなく、また９
０重量％より高いと塩化ビニリデン系共重合体の結晶領
域も溶解されてしまうので好ましくない。
合体含有防湿層は、塩化ビニリデン系共重合体を７０重
量％以上含有することが望ましい。本発明の防湿層は、
適当な溶媒に塩化ビニリデン系共重合体を分散してその
非晶領域（及び結晶領域の一部）を溶解し、結晶領域の
大部分が未溶解状態で存在する液体を赤外線光学材料に
塗布し、次いで必要により加熱しながら、前記混合溶媒
を蒸発させて被膜を形成することにより製造することが
できる。この過程で、未溶解状態で存在する結晶領域
と、溶解している塩化ビニリデン系共重合体の一部が結
晶化することにより生成した結晶領域とを有する、塩化
ビニリデン系共重合体被膜が形成される。ここで「適当
な溶媒」とは、塩化ビニリデン系共重合体を分散した
際、その非晶領域は溶解するが、結晶領域は実質的に溶
解することのない溶媒をいう。具体的には、テトラヒド
ロフラン含有溶媒であり、さらに具体的には、テトラヒ
ドロフラン１０〜９０重量％と希釈溶媒９０〜１０重量
％からなる混合溶媒である。希釈溶媒は、塩化ビニリデ
ン系共重合体の溶解性がほとんどなく、テトラヒドロフ
ランとよく混合する溶媒であればよく、例えば、酢酸エ
チル、トルエン、ジオキサン、ベンゼン、キシレン、こ
れらの混合溶媒等が挙げられる。混合溶媒中のテトラヒ
ドロフラン含有量が１０重量％より低いと塩化ビニリデ
ン系共重合体の非晶領域の溶解性が充分でなく、また９
０重量％より高いと塩化ビニリデン系共重合体の結晶領
域も溶解されてしまうので好ましくない。
【０００７】塩化ビニリデン系共重合体の結晶領域は、
炭素−塩素の赤外線吸収ピーク（１０４０cm-1）の面積
強度（Ａ）と、結晶構造に特異的な赤外線吸収ピーク
（１０７０cm-1）の面積強度（Ｂ）とを比較することに
より半定量することができる。すなわちＡは一定である
が、Ｂは結晶領域の割合に従って変動するので、Ｂ／Ａ
の値により結晶領域の割合を知ることができる。この
際、塩化ビニリデンホモポリマーの、結晶構造に特異的
な赤外線吸収ピーク（１０７０cm-1）の面積強度を結晶
化度１００％とする。このようにして求めた粉末状の塩
化ビニリデン系共重合体の結晶化度（試料全体の質量に
対する結晶部分の質量）は７０〜９０重量％であり、本
発明の適当な混合溶媒に溶解し、次いで溶媒を蒸発させ
て形成した被膜塩化ビニリデン系共重合体の結晶化度
は、元の塩化ビニリデン系共重合体のものに対して４０
〜６０重量％である。また、塗布液中の塩化ビニリデン
系共重合体の濃度は１〜３０重量％が適当である。塗布
を浸漬により行う場合、浸漬は室温で行えばよく、浸漬
時間は特に制限はないが１〜１０秒で充分である。浸漬
液から赤外線光学材料を引上げる速度は１〜１００mm/m
inが適当である。この浸漬液中の塩化ビニリデン系共重
合体の濃度と引上げ速度を調整することにより、防湿膜
の膜厚を任意に調節することができる。充分な防湿効果
を得るためには、膜厚は大きい方が良いが、一般に０．
０１〜５００μｍが適当である。次に、必要により加熱
しながら、溶媒を蒸発させる。蒸発は一般に、４５〜６
０℃で４〜４８時間処理することにより行うのが好まし
い。
炭素−塩素の赤外線吸収ピーク（１０４０cm-1）の面積
強度（Ａ）と、結晶構造に特異的な赤外線吸収ピーク
（１０７０cm-1）の面積強度（Ｂ）とを比較することに
より半定量することができる。すなわちＡは一定である
が、Ｂは結晶領域の割合に従って変動するので、Ｂ／Ａ
の値により結晶領域の割合を知ることができる。この
際、塩化ビニリデンホモポリマーの、結晶構造に特異的
な赤外線吸収ピーク（１０７０cm-1）の面積強度を結晶
化度１００％とする。このようにして求めた粉末状の塩
化ビニリデン系共重合体の結晶化度（試料全体の質量に
対する結晶部分の質量）は７０〜９０重量％であり、本
発明の適当な混合溶媒に溶解し、次いで溶媒を蒸発させ
て形成した被膜塩化ビニリデン系共重合体の結晶化度
は、元の塩化ビニリデン系共重合体のものに対して４０
〜６０重量％である。また、塗布液中の塩化ビニリデン
系共重合体の濃度は１〜３０重量％が適当である。塗布
を浸漬により行う場合、浸漬は室温で行えばよく、浸漬
時間は特に制限はないが１〜１０秒で充分である。浸漬
液から赤外線光学材料を引上げる速度は１〜１００mm/m
inが適当である。この浸漬液中の塩化ビニリデン系共重
合体の濃度と引上げ速度を調整することにより、防湿膜
の膜厚を任意に調節することができる。充分な防湿効果
を得るためには、膜厚は大きい方が良いが、一般に０．
０１〜５００μｍが適当である。次に、必要により加熱
しながら、溶媒を蒸発させる。蒸発は一般に、４５〜６
０℃で４〜４８時間処理することにより行うのが好まし
い。
【０００８】上記浸漬方法の他、塩化ビニリデン系共重
合体を上記混合溶媒に所定の濃度で分散・溶解した液
を、赤外線光学材料表面にスピナー法、スプレー法（吹
き付ける方法）、ポッティング法（垂らす方法）等の様
々な方法で所望の膜厚になるようにコーティングした
後、必要により上記条件で加熱しながら、前記混合溶媒
を蒸発させ、塩化ビニリデン系共重合体結晶含有被膜を
形成させてもよい。以上により、湿度に対して光学特性
が安定した赤外線光学材料を得ることができる。なお、
赤外線光学材料の赤外線が入射しない側面にも塩化ビニ
リデン系共重合体含有防湿膜を設けて、側面からの水分
子の侵入を防止することが望ましい。
合体を上記混合溶媒に所定の濃度で分散・溶解した液
を、赤外線光学材料表面にスピナー法、スプレー法（吹
き付ける方法）、ポッティング法（垂らす方法）等の様
々な方法で所望の膜厚になるようにコーティングした
後、必要により上記条件で加熱しながら、前記混合溶媒
を蒸発させ、塩化ビニリデン系共重合体結晶含有被膜を
形成させてもよい。以上により、湿度に対して光学特性
が安定した赤外線光学材料を得ることができる。なお、
赤外線光学材料の赤外線が入射しない側面にも塩化ビニ
リデン系共重合体含有防湿膜を設けて、側面からの水分
子の侵入を防止することが望ましい。
【０００９】
【発明の効果】本発明の赤外線光学材料は、その表面に
結晶塩化ビニリデン系共重合体の防湿膜が設けられてい
るため、湿度に対し安定な光学特性を有する。また、高
価で大掛かりな装置を必要とすることなく、遙かに簡便
に、かつ安価（設備投資不要）に作製できる。さらに、
従来のフッ素系樹脂防湿膜を設けたものよりも優れた防
湿性および光学特性を示すとともに、光学部品でしばし
ば問題となるかびの発生を防止するのにも有効である。
さらに、本発明に係る塩化ビニリデン系共重合体含有防
湿膜は、その防湿性が高いため、フッ素系樹脂防湿膜に
比べ同程度の効果を得るにははるかに薄い膜厚で充分で
ある。従って、防湿膜自体の赤外線吸収が小さく、赤外
線透過性光学材料の透過率にもほとんど影響がない。こ
れは、炭素−塩素結合の赤外吸収強度が炭素−フッ素結
合のそれよりも小さいことに起因するものと考えられ
る。
結晶塩化ビニリデン系共重合体の防湿膜が設けられてい
るため、湿度に対し安定な光学特性を有する。また、高
価で大掛かりな装置を必要とすることなく、遙かに簡便
に、かつ安価（設備投資不要）に作製できる。さらに、
従来のフッ素系樹脂防湿膜を設けたものよりも優れた防
湿性および光学特性を示すとともに、光学部品でしばし
ば問題となるかびの発生を防止するのにも有効である。
さらに、本発明に係る塩化ビニリデン系共重合体含有防
湿膜は、その防湿性が高いため、フッ素系樹脂防湿膜に
比べ同程度の効果を得るにははるかに薄い膜厚で充分で
ある。従って、防湿膜自体の赤外線吸収が小さく、赤外
線透過性光学材料の透過率にもほとんど影響がない。こ
れは、炭素−塩素結合の赤外吸収強度が炭素−フッ素結
合のそれよりも小さいことに起因するものと考えられ
る。
【００１０】
【実施例１】粉末状の塩化ビニリデン−アクリル酸エス
テル共重合体（旭化成株式会社製「サランラテック
ス」）６ｇをテトラヒドロフランとトルエンの混合溶媒
（容量比９：１）１００ｇに分散・溶解し、６重量％の
液を調製した。次に、KBr 板状体（径３０mm、厚み３m
m）をこの液中に２０℃で２〜３秒間浸漬し、引上げ速
度５０mm／min で引き上げた。次に、７０℃で３時間加
熱処理して、溶媒を完全に揮散させた。KBr 表面に形成
された塩化ビニリデン系共重合体の防湿膜の厚さ（乾燥
後）は、0.０５μｍであった。塩化ビニリデン系共重合
体防湿膜を設けた本発明の赤外線透過性光学材料の赤外
線が透過する透過面の光学膜厚は、乾燥後１７５nmであ
り、炭素−塩素結合の赤外吸収が１０４０cm-1付近に現
れる。この吸収の大きさは、フッ素系樹脂の炭素−フッ
素結合の赤外吸収の大きさよりも小さく約５％の大きさ
であった。また、使用波数４０００cm-1〜４００cm-1の
範囲での本発明の赤外線透過性光学材料の平均透過率は
９０％以上であり、透過光学系の光学材料として充分で
あることもわかった。これは、結晶構造を有するために
分子間隔が非常に狭く水分子の侵入を遮断することが可
能なためである。またこの防湿膜を設けた本発明の赤外
線透過性光学材料の透湿値は、特開平３−１０４８５７
号公報記載のフッ素系樹脂の防湿膜を設けた赤外線透過
性光学材料の約１／１０程度（透湿量：0.１ｇ／m2×２
４hr）であった。次に、耐湿度試験の結果を示す。本発
明の塩化ビニリデン系共重合体防湿膜を設けたKBr 板状
体を温度３０℃、湿度６０％の雰囲気中に３時間放置し
た。透過率の変化は４０００cm-1において１％未満であ
り、４０００cm-1〜４００cm-1の平均透過率は９０％以
上であり、防湿効果が充分にあることがわかる。これに
対してフッ素系樹脂防湿膜を設けたKBr 板状体では、透
過率の変化は４０００cm-1において１０％以上もあり、
４０００cm-1〜４００cm-1の平均透過率が９０％以上で
なければならない仕様を満足していない。従って、本発
明の防湿膜を設けた赤外線透過性光学材料が従来の防湿
膜を設けた光学材料に比べ優れた防湿効果を有している
ことがわかる。なお、上記実施例ではKBr を用いたが、
本発明はこれに限定されず、その他にNaCl, KCl, CsI,
KRS-5, KRS-6等の光学材料や、LBO, DLAP, BBO，KTP 等
の非線形光学材料にも適用することができ、同様に湿度
に対して安定な光学特性を有する光学材料を得ることが
できる。
テル共重合体（旭化成株式会社製「サランラテック
ス」）６ｇをテトラヒドロフランとトルエンの混合溶媒
（容量比９：１）１００ｇに分散・溶解し、６重量％の
液を調製した。次に、KBr 板状体（径３０mm、厚み３m
m）をこの液中に２０℃で２〜３秒間浸漬し、引上げ速
度５０mm／min で引き上げた。次に、７０℃で３時間加
熱処理して、溶媒を完全に揮散させた。KBr 表面に形成
された塩化ビニリデン系共重合体の防湿膜の厚さ（乾燥
後）は、0.０５μｍであった。塩化ビニリデン系共重合
体防湿膜を設けた本発明の赤外線透過性光学材料の赤外
線が透過する透過面の光学膜厚は、乾燥後１７５nmであ
り、炭素−塩素結合の赤外吸収が１０４０cm-1付近に現
れる。この吸収の大きさは、フッ素系樹脂の炭素−フッ
素結合の赤外吸収の大きさよりも小さく約５％の大きさ
であった。また、使用波数４０００cm-1〜４００cm-1の
範囲での本発明の赤外線透過性光学材料の平均透過率は
９０％以上であり、透過光学系の光学材料として充分で
あることもわかった。これは、結晶構造を有するために
分子間隔が非常に狭く水分子の侵入を遮断することが可
能なためである。またこの防湿膜を設けた本発明の赤外
線透過性光学材料の透湿値は、特開平３−１０４８５７
号公報記載のフッ素系樹脂の防湿膜を設けた赤外線透過
性光学材料の約１／１０程度（透湿量：0.１ｇ／m2×２
４hr）であった。次に、耐湿度試験の結果を示す。本発
明の塩化ビニリデン系共重合体防湿膜を設けたKBr 板状
体を温度３０℃、湿度６０％の雰囲気中に３時間放置し
た。透過率の変化は４０００cm-1において１％未満であ
り、４０００cm-1〜４００cm-1の平均透過率は９０％以
上であり、防湿効果が充分にあることがわかる。これに
対してフッ素系樹脂防湿膜を設けたKBr 板状体では、透
過率の変化は４０００cm-1において１０％以上もあり、
４０００cm-1〜４００cm-1の平均透過率が９０％以上で
なければならない仕様を満足していない。従って、本発
明の防湿膜を設けた赤外線透過性光学材料が従来の防湿
膜を設けた光学材料に比べ優れた防湿効果を有している
ことがわかる。なお、上記実施例ではKBr を用いたが、
本発明はこれに限定されず、その他にNaCl, KCl, CsI,
KRS-5, KRS-6等の光学材料や、LBO, DLAP, BBO，KTP 等
の非線形光学材料にも適用することができ、同様に湿度
に対して安定な光学特性を有する光学材料を得ることが
できる。
【００１１】
【実施例２】Er：YAG レーザのレーザ装置の共振器ミラ
ーとして、その基板にZnSe, CaF2（ホタル石）、SiO
2（石英）、Al2O3 （サファイヤ）、ガラス等の赤外線
反射性光学材料が使用されているが、これらの基板上に
吸着した水分子によって2.７〜3.２μｍの領域の赤外線
が吸収され、これらの基板上に蒸着された蒸着膜あるい
は基板と蒸着膜との境界部分が加熱され、その熱によっ
て基板自体が破壊されてしまうという問題があった。こ
の実施例は、SiO2（石英）の基板上に以下の膜を真空蒸
着し、蒸着された光学材料全体に浸漬法を用いて塩化ビ
ニリデン系共重合体含有防湿層を形成したものである。 基 板 ＳｉＯ2 （石英） 光学膜厚 第１層 ＺｎＳ 0.７２５μｍ ２ ＭｇＦ2 〃 ３ ＺｎＳ 〃 ４ ＭｇＦ2 〃 ５ ＺｎＳ 〃 ６ ＭｇＦ2 〃 ７ ＺｎＳ 〃 ８ ＭｇＦ2 〃 ９ ＺｎＳ 〃 10 ＭｇＦ2 〃 11 ＺｎＳ 〃 12 ＭｇＦ2 〃 13 ＺｎＳ 〃 2.９μｍの波長の赤外線において、反射率が９９％であ
った上記石英基板の反射率は、温度３０℃、湿度６０％
の雰囲気中に３時間放置した後でも、９９％であり、変
化がなかった。このことは、水の吸着等による共振器ミ
ラー自体の特性を損なうことなく、防湿効果を向上させ
ることができることを示している。
ーとして、その基板にZnSe, CaF2（ホタル石）、SiO
2（石英）、Al2O3 （サファイヤ）、ガラス等の赤外線
反射性光学材料が使用されているが、これらの基板上に
吸着した水分子によって2.７〜3.２μｍの領域の赤外線
が吸収され、これらの基板上に蒸着された蒸着膜あるい
は基板と蒸着膜との境界部分が加熱され、その熱によっ
て基板自体が破壊されてしまうという問題があった。こ
の実施例は、SiO2（石英）の基板上に以下の膜を真空蒸
着し、蒸着された光学材料全体に浸漬法を用いて塩化ビ
ニリデン系共重合体含有防湿層を形成したものである。 基 板 ＳｉＯ2 （石英） 光学膜厚 第１層 ＺｎＳ 0.７２５μｍ ２ ＭｇＦ2 〃 ３ ＺｎＳ 〃 ４ ＭｇＦ2 〃 ５ ＺｎＳ 〃 ６ ＭｇＦ2 〃 ７ ＺｎＳ 〃 ８ ＭｇＦ2 〃 ９ ＺｎＳ 〃 10 ＭｇＦ2 〃 11 ＺｎＳ 〃 12 ＭｇＦ2 〃 13 ＺｎＳ 〃 2.９μｍの波長の赤外線において、反射率が９９％であ
った上記石英基板の反射率は、温度３０℃、湿度６０％
の雰囲気中に３時間放置した後でも、９９％であり、変
化がなかった。このことは、水の吸着等による共振器ミ
ラー自体の特性を損なうことなく、防湿効果を向上させ
ることができることを示している。
【００１２】
【実施例３】この実施例は、ガラス基板上にAg（銀）を
４０nm〜１００nm真空蒸着させた反射ミラーにおいて、
同様に、その基板全体に浸漬法を用いて塩化ビニリデン
系共重合体含有防湿層を形成したものである。実施例２
と同様に、2.９μｍの波長の赤外線において、反射率が
９８％であった上記ガラス基板の反射率は、温度３０
℃、湿度６０％の雰囲気中に３時間放置した後でも、９
８％であり、変化がなかった。このことは、反射ミラー
自体の特性を損なうことなく、防湿効果を向上させるこ
とができることを示している。
４０nm〜１００nm真空蒸着させた反射ミラーにおいて、
同様に、その基板全体に浸漬法を用いて塩化ビニリデン
系共重合体含有防湿層を形成したものである。実施例２
と同様に、2.９μｍの波長の赤外線において、反射率が
９８％であった上記ガラス基板の反射率は、温度３０
℃、湿度６０％の雰囲気中に３時間放置した後でも、９
８％であり、変化がなかった。このことは、反射ミラー
自体の特性を損なうことなく、防湿効果を向上させるこ
とができることを示している。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年８月４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】
【実施例２】Ｅｒ：ＹＡＧレーザのレーザ装置の共振器
ミラーとして、その基板にＺｎＳｅ，ＣａＦ２（ホタル
石）、ＳｉＯ２（石英）、Ａｌ２Ｏ３（サファイヤ）、
ガラス等の赤外線反射性光学材料が使用されているが、
これらの基板上に吸着した水分子によって２．７〜３．
２μｍの領域の赤外線が吸収され、これらの基板上に蒸
着された蒸着膜あるいは基板と蒸着膜との境界部分が加
熱され、その熱によって基板自体が破壊されてしまうと
いう問題があった。この実施例は、ＳｉＯ２（石英）の
基板上に以下の膜を真空蒸着し、蒸着された光学材料全
体に浸漬法を用いて塩化ビニリデン系共重合体含有防湿
層を形成したものである。
ミラーとして、その基板にＺｎＳｅ，ＣａＦ２（ホタル
石）、ＳｉＯ２（石英）、Ａｌ２Ｏ３（サファイヤ）、
ガラス等の赤外線反射性光学材料が使用されているが、
これらの基板上に吸着した水分子によって２．７〜３．
２μｍの領域の赤外線が吸収され、これらの基板上に蒸
着された蒸着膜あるいは基板と蒸着膜との境界部分が加
熱され、その熱によって基板自体が破壊されてしまうと
いう問題があった。この実施例は、ＳｉＯ２（石英）の
基板上に以下の膜を真空蒸着し、蒸着された光学材料全
体に浸漬法を用いて塩化ビニリデン系共重合体含有防湿
層を形成したものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１２】 ２．９μｍの波長の赤外線において、反射率が９９％で
あった上記石英基板の反射率は、温度３０℃、湿度６０
％の雰囲気中に３時間放置した後でも、９９％であり、
変化がなかった。このことは、水の吸着等による共振器
ミラー自体の特性を損なうことなく、防湿効果を向上さ
せることができることを示している。
あった上記石英基板の反射率は、温度３０℃、湿度６０
％の雰囲気中に３時間放置した後でも、９９％であり、
変化がなかった。このことは、水の吸着等による共振器
ミラー自体の特性を損なうことなく、防湿効果を向上さ
せることができることを示している。
Claims (4)
- 【請求項１】 赤外線光学材料に結晶領域を有する塩化
ビニリデン系共重合体含有防湿層を施してなる防湿性光
学材料。 - 【請求項２】 赤外線光学材料が、KBr, NaCl, KCl, Cs
I, KRS-5, KRS-6, LBO, DLAP, BBO 及びKTP からなる赤
外線透過性光学材料群から選ばれたものであることを特
徴とする請求項１に記載の防湿性光学材料。 - 【請求項３】 赤外線光学材料がZnSe, CaF2（ホタル
石）、SiO2（石英）、Al2O3 （サファイヤ）、ガラスか
らなる赤外線反射性光学材料群から選ばれたものである
ことを特徴とする請求項１に記載の防湿性光学材料。 - 【請求項４】 テトラヒドロフラン含有混合溶媒に、結
晶領域を有する塩化ビニリデン系共重合体を分散・溶解
し、この液を赤外線光学材料に塗布し、次いで前記混合
溶媒を蒸発させ、結晶領域を有する塩化ビニリデン系共
重合体被膜を形成させることを特徴とする、赤外線光学
材料に結晶領域を有する塩化ビニリデン系共重合体含有
防湿層を施してなる防湿性光学材料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5154597A JP2902268B2 (ja) | 1993-06-02 | 1993-06-02 | 防湿性光学材料及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5154597A JP2902268B2 (ja) | 1993-06-02 | 1993-06-02 | 防湿性光学材料及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06347607A true JPH06347607A (ja) | 1994-12-22 |
| JP2902268B2 JP2902268B2 (ja) | 1999-06-07 |
Family
ID=15587669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5154597A Expired - Lifetime JP2902268B2 (ja) | 1993-06-02 | 1993-06-02 | 防湿性光学材料及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2902268B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09265035A (ja) * | 1996-01-26 | 1997-10-07 | Asahi Optical Co Ltd | レンズ鏡筒の防水構造 |
| WO2005083474A1 (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-09 | Kimoto Co., Ltd. | 光学部材およびそれを用いたバックライト |
| JP2013038092A (ja) * | 2011-08-03 | 2013-02-21 | Toshiba Corp | 半導体レーザ装置 |
| JP2014220538A (ja) * | 2014-08-27 | 2014-11-20 | 株式会社東芝 | 半導体レーザ装置 |
-
1993
- 1993-06-02 JP JP5154597A patent/JP2902268B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09265035A (ja) * | 1996-01-26 | 1997-10-07 | Asahi Optical Co Ltd | レンズ鏡筒の防水構造 |
| WO2005083474A1 (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-09 | Kimoto Co., Ltd. | 光学部材およびそれを用いたバックライト |
| JP2013038092A (ja) * | 2011-08-03 | 2013-02-21 | Toshiba Corp | 半導体レーザ装置 |
| US9407065B2 (en) | 2011-08-03 | 2016-08-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor laser |
| JP2014220538A (ja) * | 2014-08-27 | 2014-11-20 | 株式会社東芝 | 半導体レーザ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2902268B2 (ja) | 1999-06-07 |
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