JPH06345487A - ディスプレイ用反射防止膜及びその製造法 - Google Patents
ディスプレイ用反射防止膜及びその製造法Info
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】ゾルゲル法でディスプレイ画面上に薄膜を形成
する工程において、急激な熱処理と同時に光を照射しシ
リカを主体とする多孔質膜２を形成させることによりブ
ラウン管３用のガラスより屈折率の低い反射帯電防止膜
４を作製し、反射率を低下させる。 【効果】シリカ系多孔質膜を作製することができる。こ
れをブラウン管用反射防止膜に用いれば、反射率の低い
高性能なブラウン管を作製できる。
する工程において、急激な熱処理と同時に光を照射しシ
リカを主体とする多孔質膜２を形成させることによりブ
ラウン管３用のガラスより屈折率の低い反射帯電防止膜
４を作製し、反射率を低下させる。 【効果】シリカ系多孔質膜を作製することができる。こ
れをブラウン管用反射防止膜に用いれば、反射率の低い
高性能なブラウン管を作製できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はディスプレイ用反射防止
膜及びその製造法に関する。
膜及びその製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近、ブラウン管の高性能化が進み、ブ
ラウン管表面には反射防止膜が形成されるようになって
きている。反射防止膜は外来光の画面上の反射を抑制
し、視認性の向上を目的とする。ブラウン管表面上にブ
ラウン管用ガラスよりも屈折率の低い膜を形成したもの
や、高屈折率の膜と低屈折率の膜を積層したものが光の
干渉作用を利用した反射防止膜として知られている。こ
の他にブラウン管表面上に凹凸を設け、外来光を乱反射
して反射防止膜としたものも知られている。これらの膜
の製造法にはＣＶＤ法かＰＶＤ法などがある。また、塗
布溶液を使用しスピンコートあるいはスプレーコートし
てブラウン管表面上に薄膜を形成する方法も知られてい
る。
ラウン管表面には反射防止膜が形成されるようになって
きている。反射防止膜は外来光の画面上の反射を抑制
し、視認性の向上を目的とする。ブラウン管表面上にブ
ラウン管用ガラスよりも屈折率の低い膜を形成したもの
や、高屈折率の膜と低屈折率の膜を積層したものが光の
干渉作用を利用した反射防止膜として知られている。こ
の他にブラウン管表面上に凹凸を設け、外来光を乱反射
して反射防止膜としたものも知られている。これらの膜
の製造法にはＣＶＤ法かＰＶＤ法などがある。また、塗
布溶液を使用しスピンコートあるいはスプレーコートし
てブラウン管表面上に薄膜を形成する方法も知られてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記技術のうちＣＶＤ
法あるいはＰＶＤ法はいずれも大掛かりな装置を必要と
し、ディスプレイ等の大画面コーティングには適さな
い。また、塗布溶液を用いる方法ではブラウン管用ガラ
スの屈折率とほぼ同じシリカ膜が得られるのみで、作製
された膜の屈折率がより低い膜は得られない。従って、
ブラウン管用ガラスよりも屈折率に低い膜の有効な作製
方法は知られていない。
法あるいはＰＶＤ法はいずれも大掛かりな装置を必要と
し、ディスプレイ等の大画面コーティングには適さな
い。また、塗布溶液を用いる方法ではブラウン管用ガラ
スの屈折率とほぼ同じシリカ膜が得られるのみで、作製
された膜の屈折率がより低い膜は得られない。従って、
ブラウン管用ガラスよりも屈折率に低い膜の有効な作製
方法は知られていない。
【０００４】本発明の目的は、非常に簡便な手法により
ブラウン管用ガラスよりも屈折率の低い膜を形成するた
めの方法を提供するものである。また、高屈折率／低屈
折率の積層膜において、上層の低屈折率膜の屈折率を従
来のシリカ膜の屈折率よりもさらに小さい膜を形成し、
反射防止の効果を高めようとするものである。
ブラウン管用ガラスよりも屈折率の低い膜を形成するた
めの方法を提供するものである。また、高屈折率／低屈
折率の積層膜において、上層の低屈折率膜の屈折率を従
来のシリカ膜の屈折率よりもさらに小さい膜を形成し、
反射防止の効果を高めようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の膜製造法はゾルゲル法でブラウン管表面に
製膜する工程において、急激な熱処理を行うと同時に光
を照射し、開気孔率６０％以上の多孔質膜を形成させ
る。また、本発明の膜製造法により作製する膜はシリカ
を主体とした反射防止膜であり、膜中に導電材微粒子を
分散させるかあるいは積層膜における下層にさらに導電
材微粒子を添加した膜を形成し反射・帯電防止膜を形成
させる。
に、本発明の膜製造法はゾルゲル法でブラウン管表面に
製膜する工程において、急激な熱処理を行うと同時に光
を照射し、開気孔率６０％以上の多孔質膜を形成させ
る。また、本発明の膜製造法により作製する膜はシリカ
を主体とした反射防止膜であり、膜中に導電材微粒子を
分散させるかあるいは積層膜における下層にさらに導電
材微粒子を添加した膜を形成し反射・帯電防止膜を形成
させる。
【０００６】本発明の膜製造法により作製する反射・帯
電防止膜に用いる導電材は酸化スズ，酸化インジウム，
酸化亜鉛のいずれかで、さらにそれぞれの不純物として
アンチモン，スズ，アルミニウムを添加したものを用い
ることができる。
電防止膜に用いる導電材は酸化スズ，酸化インジウム，
酸化亜鉛のいずれかで、さらにそれぞれの不純物として
アンチモン，スズ，アルミニウムを添加したものを用い
ることができる。
【０００７】本発明の膜製造法はブラウン管に用いるこ
とができる。
とができる。
【０００８】
【作用】本発明の膜製造法はゾルゲル法でブラウン管表
面上に製膜する過程で、急激な加熱処理を行うとともに
光処理を行い通常の製造法より多孔質な膜を作製でき
る。すなわち、塗布された溶液に含まれる溶媒等が急激
な加熱処理を行うとともに光を照射することにより急速
に除去され、その脱出速度が速いために多孔体を得るこ
とができる。また、光処理するために膜中におけるカー
ボンの残留を除去することができる。これによりシリカ
膜中には空気が含まれ、多孔質膜が形成される。空気は
シリカよりも屈折率が低いため、本方法で開気孔率６０
％以上の多孔質膜とすることでこの膜の屈折率をブラウ
ン管ガラスより低くすることができる。さらに、用いる
溶媒の分子量を変えることにより脱出速度を変化させる
ことができ、多孔率を制御することも可能である。ま
た、加熱処理と同時に光を照射する際、加熱上昇温度及
び光の照射強度を変化させることにより多孔率を変化さ
せることができる。通常の熱処理では多孔体である湿潤
ゲルが溶媒の除去にともない体積収縮し、平滑化してし
まう。しかし、光を照射することにより乾燥および焼結
速度を速くし粒子の再配列等を防止することができ、結
果として平滑化を防ぎ６０％以上の開気孔率を持つ多孔
体を得ることができる。
面上に製膜する過程で、急激な加熱処理を行うとともに
光処理を行い通常の製造法より多孔質な膜を作製でき
る。すなわち、塗布された溶液に含まれる溶媒等が急激
な加熱処理を行うとともに光を照射することにより急速
に除去され、その脱出速度が速いために多孔体を得るこ
とができる。また、光処理するために膜中におけるカー
ボンの残留を除去することができる。これによりシリカ
膜中には空気が含まれ、多孔質膜が形成される。空気は
シリカよりも屈折率が低いため、本方法で開気孔率６０
％以上の多孔質膜とすることでこの膜の屈折率をブラウ
ン管ガラスより低くすることができる。さらに、用いる
溶媒の分子量を変えることにより脱出速度を変化させる
ことができ、多孔率を制御することも可能である。ま
た、加熱処理と同時に光を照射する際、加熱上昇温度及
び光の照射強度を変化させることにより多孔率を変化さ
せることができる。通常の熱処理では多孔体である湿潤
ゲルが溶媒の除去にともない体積収縮し、平滑化してし
まう。しかし、光を照射することにより乾燥および焼結
速度を速くし粒子の再配列等を防止することができ、結
果として平滑化を防ぎ６０％以上の開気孔率を持つ多孔
体を得ることができる。
【０００９】一方、反射防止技術には屈折率の異なる膜
を積層することにより反射光の干渉を利用して反射率を
低下する方法がある。この場合、低屈折率層として用い
られるシリカ膜の屈折率は１.４５ 付近で、高屈折率層
として用いられる酸化スズ膜の屈折率は１.６〜１.７で
ある。より反射率を低下させるためにはシリカの屈折率
を約１.３ まで低下させる必要がある。物質の屈折率は
固有であるが多孔質体であれば空気の屈折率と平均化さ
れ膜全体として屈折率を低下することができる。したが
って、多孔質反射防止膜と緻密な導電膜を積層すれば低
屈折率シリカを作製することができ、反射率を低下する
ことができる。これにより、反射帯電防止の両機能を持
った膜が形成できる。また、開気孔率６０％以上のシリ
カに導電性酸化物を分散させることによっても、反射率
が低く帯電防止機能を持った膜を形成することができ
る。スプレーコーティングによる表面凹凸を形成した反
射防止膜では、表面凹凸による効果とブラウン管面上に
そのガラスよりも屈折率の低い膜が形成されたことによ
る光の干渉効果の両作用によって、より高性能な反射防
止膜を形成することができる。
を積層することにより反射光の干渉を利用して反射率を
低下する方法がある。この場合、低屈折率層として用い
られるシリカ膜の屈折率は１.４５ 付近で、高屈折率層
として用いられる酸化スズ膜の屈折率は１.６〜１.７で
ある。より反射率を低下させるためにはシリカの屈折率
を約１.３ まで低下させる必要がある。物質の屈折率は
固有であるが多孔質体であれば空気の屈折率と平均化さ
れ膜全体として屈折率を低下することができる。したが
って、多孔質反射防止膜と緻密な導電膜を積層すれば低
屈折率シリカを作製することができ、反射率を低下する
ことができる。これにより、反射帯電防止の両機能を持
った膜が形成できる。また、開気孔率６０％以上のシリ
カに導電性酸化物を分散させることによっても、反射率
が低く帯電防止機能を持った膜を形成することができ
る。スプレーコーティングによる表面凹凸を形成した反
射防止膜では、表面凹凸による効果とブラウン管面上に
そのガラスよりも屈折率の低い膜が形成されたことによ
る光の干渉効果の両作用によって、より高性能な反射防
止膜を形成することができる。
【００１０】
（実施例１）ケイ酸エチルをエタノールに溶解して調製
したゾル溶液を石英基板上にスプレーコートした後、５
０℃／min.で急激に１００℃まで昇温し１０分間加熱処
理を行うと同時に２５４ｎｍ，１８４ｎｍの光照射をし
て膜を作製し、得られた膜の表面積を測定した。その結
果、通常５００ｍ2／ｇであった表面積が６５０ｍ2／ｇ
まで大きくすることができた。したがって、急激な熱処
理をすると同時に光を照射することにより図１に示すよ
うな多孔質膜が得られることがわかった。図１で、１は
基板で、２はシリカ多孔膜である。シリカ多孔膜の開気
孔率は６５％であった。この膜の屈折率は１.３６と通
常のシリカ膜の１.４６と比べ低いものであった。この
ため、この膜をブラウン管の反射防止膜として用いる
と、反射率が１.５％ 前後の反射防止膜が得られ、シリ
カ膜の開気孔率が６０％以上の時に反射率低減効果が大
きかった。通常のブラウン管の反射率４％をかなり低く
することができた。
したゾル溶液を石英基板上にスプレーコートした後、５
０℃／min.で急激に１００℃まで昇温し１０分間加熱処
理を行うと同時に２５４ｎｍ，１８４ｎｍの光照射をし
て膜を作製し、得られた膜の表面積を測定した。その結
果、通常５００ｍ2／ｇであった表面積が６５０ｍ2／ｇ
まで大きくすることができた。したがって、急激な熱処
理をすると同時に光を照射することにより図１に示すよ
うな多孔質膜が得られることがわかった。図１で、１は
基板で、２はシリカ多孔膜である。シリカ多孔膜の開気
孔率は６５％であった。この膜の屈折率は１.３６と通
常のシリカ膜の１.４６と比べ低いものであった。この
ため、この膜をブラウン管の反射防止膜として用いる
と、反射率が１.５％ 前後の反射防止膜が得られ、シリ
カ膜の開気孔率が６０％以上の時に反射率低減効果が大
きかった。通常のブラウン管の反射率４％をかなり低く
することができた。
【００１１】（実施例２）塩化スズをプロパノールに溶
解しイソプロポキシアンチモンを加えて調製したスズア
ンチモンゾル溶液（Ｓｂ：１０ｗｔ％）を用いて石英基
板上にスピンコートにより塗布した後、４００℃で熱処
理を行い酸化スズ膜を作製した。得られた酸化スズ膜上
に実施例１で用いた溶液をスピンコートにより塗布し、
急激な熱処理と同時に光の照射を行う方法でシリカ−酸
化スズ積層膜を作製した。上層のシリカ膜の屈折率は
１.３６，下層の酸化スズアンチモン膜の反射率は１.９
０であった。得られた積層膜の反射率を測定したとこ
ろ、反射率を１％以下にすることができた。
解しイソプロポキシアンチモンを加えて調製したスズア
ンチモンゾル溶液（Ｓｂ：１０ｗｔ％）を用いて石英基
板上にスピンコートにより塗布した後、４００℃で熱処
理を行い酸化スズ膜を作製した。得られた酸化スズ膜上
に実施例１で用いた溶液をスピンコートにより塗布し、
急激な熱処理と同時に光の照射を行う方法でシリカ−酸
化スズ積層膜を作製した。上層のシリカ膜の屈折率は
１.３６，下層の酸化スズアンチモン膜の反射率は１.９
０であった。得られた積層膜の反射率を測定したとこ
ろ、反射率を１％以下にすることができた。
【００１２】（実施例３）実施例１で使用したゾル溶液
中に４ｎｍの酸化スズ超微粒子２０ｗｔ％を分散させた
溶液をスプレーコートした後、実施例１と同様な処理を
行い図２に示したようにブラウン管表面３上に反射帯電
防止膜４を作製したところ、反射率が１％で帯電防止効
果も有する高性能なブラウン管を作製することができ
た。
中に４ｎｍの酸化スズ超微粒子２０ｗｔ％を分散させた
溶液をスプレーコートした後、実施例１と同様な処理を
行い図２に示したようにブラウン管表面３上に反射帯電
防止膜４を作製したところ、反射率が１％で帯電防止効
果も有する高性能なブラウン管を作製することができ
た。
【００１３】
【発明の効果】本発明を用いれば、シリカ系多孔質膜を
作製することができる。このため、これをブラウン管用
反射防止膜に応用すれば、高性能なブラウン管を作製で
きる。
作製することができる。このため、これをブラウン管用
反射防止膜に応用すれば、高性能なブラウン管を作製で
きる。
【図１】多孔質膜の構造の説明図。
【図２】反射帯電防止膜を付けたブラウン管の説明図。
１…基板、２…シリカ多孔膜、３…ブラウン管、４…反
射帯電防止膜。
射帯電防止膜。
フロントページの続き (72)発明者 高橋 研 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 西沢 昌紘 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内
Claims (8)
- 【請求項１】基体表面上に形成されたシリカ膜からな
り、その開気孔率が６０％以上であることを特徴とする
反射防止膜。 - 【請求項２】基体表面上に形成された開気孔率が６０％
以上のシリカに導電性金属酸化物を分散させた膜から成
ることを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項３】請求項２において、前記金属酸化物が酸化
スズ，酸化亜鉛、及び酸化インジウムのうちいずれか一
種である反射防止膜。 - 【請求項４】ゾルゲル法でディスプレイ画面上に薄膜を
形成する工程において急激な熱処理と同時に光を照射す
ることによりシリカを主体とする多孔質膜を形成させる
ことを特徴とする反射防止膜製造法。 - 【請求項５】請求項４において、前記シリカ膜と導電性
金属酸化物を含有する膜を積層する膜の製造法。 - 【請求項６】請求項５の酸化物として酸化スズ，酸化亜
鉛、及び酸化インジウムのうちいずれか１種の金属酸化
物を用いる膜製造法。 - 【請求項７】請求項１に記載の前記反射防止膜を含むブ
ラウン管。 - 【請求項８】請求項２に記載の前記反射防止膜を含むブ
ラウン管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5133174A JPH06345487A (ja) | 1993-06-03 | 1993-06-03 | ディスプレイ用反射防止膜及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5133174A JPH06345487A (ja) | 1993-06-03 | 1993-06-03 | ディスプレイ用反射防止膜及びその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06345487A true JPH06345487A (ja) | 1994-12-20 |
Family
ID=15098410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5133174A Pending JPH06345487A (ja) | 1993-06-03 | 1993-06-03 | ディスプレイ用反射防止膜及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06345487A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006008239A2 (en) * | 2004-07-16 | 2006-01-26 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Luminescent silicon oxide flakes |
| WO2014163189A1 (ja) * | 2013-04-05 | 2014-10-09 | 積水化学工業株式会社 | 積層バリアシート |
| CN107129159A (zh) * | 2017-06-16 | 2017-09-05 | 成都新柯力化工科技有限公司 | 一种叠层镀膜减反射玻璃及其制备方法 |
-
1993
- 1993-06-03 JP JP5133174A patent/JPH06345487A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006008239A2 (en) * | 2004-07-16 | 2006-01-26 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Luminescent silicon oxide flakes |
| WO2006008239A3 (en) * | 2004-07-16 | 2006-05-11 | Ciba Sc Holding Ag | Luminescent silicon oxide flakes |
| WO2014163189A1 (ja) * | 2013-04-05 | 2014-10-09 | 積水化学工業株式会社 | 積層バリアシート |
| CN107129159A (zh) * | 2017-06-16 | 2017-09-05 | 成都新柯力化工科技有限公司 | 一种叠层镀膜减反射玻璃及其制备方法 |
| CN107129159B (zh) * | 2017-06-16 | 2019-10-29 | 北京冠华东方玻璃科技有限公司 | 一种叠层镀膜减反射玻璃及其制备方法 |
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