JPH0634453B2 - 多層プリント回路板およびその製法 - Google Patents

多層プリント回路板およびその製法

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JPH0634453B2
JPH0634453B2 JP63246977A JP24697788A JPH0634453B2 JP H0634453 B2 JPH0634453 B2 JP H0634453B2 JP 63246977 A JP63246977 A JP 63246977A JP 24697788 A JP24697788 A JP 24697788A JP H0634453 B2 JPH0634453 B2 JP H0634453B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、多層プリント回路板に係わり、特に、信号伝
送速度と耐クラック性を改善した電子計算機等に用いる
多層プリント回路板およびその製法に関する。
〔従来の技術〕
電子計算機等に使用される多層プリント回路板は、難燃
性が要求されるため、基板樹脂に難燃剤を添加したり、
臭素化変性樹脂を配合したエポキシ樹脂やポリイミド樹
脂が使用されている。
近年、大型電子計算機においては、演算速度を高めるた
めに、各種部品の信号伝送速度が問題となっている。
特に、電子計算機に用いられている多層プリント回路板
の信号回路の信号電送速度の向上が強く要求されてい
る。
こうした、多層プリント回路板の信号電送速度は、信号
回路の絶縁層の比誘電率に左右され、低比誘電率のもの
ほど信号電送速度が速い。従って、低比誘電率材料でプ
リント回路基板を形成することによって、計算機の高速
演算化を図ることができる。低比誘電率のものとして
は、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE),ポリブ
タジエン(PB)等があり、これらを絶縁材料としたプ
リント回路板が開発されている(特開昭55−1274
26号、特開昭62−283694号公報)。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、PTFEは熱可塑性樹脂であるために、多層プ
リント回路板に用いた場合、寸法安定性、スルホール信
頼性が劣ると云う問題があった。また、適当な溶剤がな
いので、積層接着には加熱溶融圧着法に頼らざるを得な
い。しかし、PTFEは溶融温度が高い(250〜35
0℃)ために作業性が悪く、従来のエポキシ樹脂等に比
べて扱いにくいなど問題が多かった。
一方、PB系としては、側鎖に二重結合を有する1,2
−ポリブタジエンと二官能性モノマの架橋型難燃剤を組
み合わせた樹脂材料が開発されている(特開昭55−1
26451号公報)。
しかし、繊維質基材への含浸性を考慮して低分子量ポリ
マを用いたものは、得られたプリプレグの粘着性が高い
ために、プリプレグの裁断加工や保管が容易でなく、積
層接着時の作業性にも影響を及ぼす。一方、プリプレグ
とした場合もタックフリー性を考慮して高分子量ポリマ
を用いると、ワニスとしての粘度が高いために含浸性が
劣り、品質のよいプリプレグの作製が容易でない。
更に、PBは、硬化反応がラジカル重合による架橋反応
であるために、反応速度が速く積層成形時のコントロー
ルが容易でない。また、PBは、硬化時の収縮が大きい
ために成形時に層間にクラックが発生し易く、基板とし
ての機械強度が低く、耐熱性、回路導体との接着力も低
い等の問題が多い。なお、PBは、分子構造上易燃焼性
と云う欠点もある。
信号伝送速度の向上が要求される信号回路の絶縁層に前
記PTFEやPBを用い、その他の絶縁層には他の樹脂
を用いることが考えられている(特開昭55−1201
96公報)。しかし、こうした方法では、樹脂相互間の
接着性が悪く半田耐熱試験において層間剥離を起こした
り、また、PTFEのように熱可塑性樹脂ではドリルに
よる孔空け加工時にスミアを発生し易く、更に、耐クラ
ック性も問題となっている。
本発明の第1の目的は、信号伝送速度がこれまでのもの
よりも速く、かつ、耐クラック性の優れた多層プリント
回路板を提供することにある。
本発明の第2の目的は、上記多層プリント回路板の製法
を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもの
で、その要旨は次のとおりである。
(1) 複数の信号回路および電源回路と、これらの回路相
互間に熱硬化性樹脂を繊維質基材に含浸硬化して成る絶
縁層を有する多層プリント回路板において、 信号回路間または信号回路と電源回路間が、繊維質基材
にポリエーテルイミドを含浸硬化して成る1MHzにお
ける比誘電率が4以下の絶縁層により絶縁されており、 前記ポリエーテルイミドが、一般式(I) (式中R1〜R4は水素原子,低級アルキル基,低級アル
コキシ基,ハロゲン原子を示し、互いに同じでも異なっ
ていてもよい。R5およびR6は水素原子,メチル基,エ
チル基,トリフルオロメチル基,トリクロロメチル基で
あり、互いに同じでも異なっていてもよい。Dはエチレ
ン性不飽和二重結合を有するジカルボン酸残基)で示さ
れるエーテルイミド系化合物の重合体または共重合体か
ら成り、 電源回路相互間の絶縁層が、−65℃〜+125℃のヒ
ートサイクルにより発生する電源回路層(電源回路+絶
縁層)の熱応力よりも、樹脂単独の曲げ強度が大きい熱
硬化性樹脂を繊維質基材に含浸硬化して成る絶縁層で形
成されていることを特徴とする多層プリント回路板。
(2) 電源回路相互間の絶縁層がマレイミド系樹脂を繊維
質基材に含浸硬化した絶縁層から成る前記多層プリント
回路板。
(3) 前記各絶縁層のそれぞれの熱膨張率が、同一または
近似した絶縁層から成る前記多層プリント回路板。
(4) 複数の信号回路と電源回路を有し、これらの回路間
が熱硬化性樹脂を繊維質基材に含浸硬化して成る絶縁層
で絶縁されている多層プリント回路板の製法において、 (A)繊維質基材に前記一般式(I)(式中R1〜R4
水素原子,低級アルキル基,低級アルコキシ基,ハロゲ
ン原子を示し、互いに同じでも異なっていてもよい。R
5およびR6は水素原子,メチル基,エチル基,トリフル
オロメチル基,トリクロロメチル基であり、互いに同じ
でも異なっていてもよい。Dはエチレン性不飽和二重結
合を有するジカルボン酸残基)で示されるエーテルイミ
ド系化合物の重合体または共重合体から成る熱硬化性樹
脂を含浸したプリプレグaと、金属箔とを積層し硬化し
て回路基板を形成し、該回路基板に信号回路パターンを
形成する信号回路板a′を形成する工程、 (B)プリプレグと金属箔との積層接着成形により生ず
る熱応力よりも硬化後の樹脂単独の曲げ強度が大きい熱
硬化性樹脂を含浸したプリプレグbと金属箔とを積層し
硬化して電源回路基板を形成し、該回路基板に電源回路
パターンを形成する電源回路板b′を形成する工程、 (C)前記信号回路板相互(a′−a′)間および信号
回路板と電源回路板(a′−b′)間には前記プリプレ
グaを、また、電源回路板相互(b′−b′)間には前
記プリプレグbを介在させて積層接着する工程、 を含むことを特徴とする多層プリント回路板の製法。
(5) 前記プリプレグbがマレイミド系樹脂を含浸したも
のである前記多層プリント回路板の製法。
(6) プリプレグaとプリプレグbの硬化後の熱膨張率
が、同一または近似したものを用いる前記多層プリント
回路板の製法。
本発明は、前記のとおり信号回路間および信号回路と電
源回路間の絶縁に低誘電率材料から成る絶縁層を設け、
電源回路相互間の絶縁には、プリプレグと回路導体であ
る金属箔との積層接着時の加熱によって発生する熱応力
よりも、樹脂単独での曲げ強度が大きい熱硬化性樹脂を
含浸したプリプレグから成る絶縁層を用いる点が特徴で
ある。これによって、得られた多層プリント回路板は、
−65℃〜+125℃のヒートサイクル試験において4
0サイクル以上と云う優れた耐熱衝撃性が得ることがで
きる。
第1図に示すように、信号回路間および信号回路と電源
回路間の絶縁には、比誘電率4以下で、かつ、直線l
で示される信号回路導体と絶縁層との複合による熱応力
の値よりも、硬化後の曲げ強度が大きい樹脂(直線l
よりも上側の値を示すもの)を含浸し、電源回路相互間
の絶縁には、直線lで示される電源回路導体と絶縁層
との複合による熱応力の値よりも、硬化後の曲げ強度が
大きい樹脂(直線lよりも上側の値を示すもの)を含
浸した絶縁層をそれぞれ用いる。これによって、各絶縁
層のクラックの発生が防止できるのである。
なお、直線l1は信号回路とその絶縁層の熱膨張率の差
によって発生する熱応力(強度)と該絶縁層の熱膨張率
との関係を、また、直線l2は電源回路とその絶縁層の
熱膨張率の差によって発生する熱応力と該絶縁層の熱膨
張率との関係を示すものである。
上記熱応力は次式により求めることができる。
まず下式(1),(2)により、絶縁層/回路導体
(銅)の複合されたX,Y方向の熱膨張率αXとαYを求
め、同じくZ方向の熱膨張率αZを求める。なお、αX
αYとする。
但し、α:絶縁層の熱膨張率 :含浸樹脂によって異なる α:回路銅の熱膨張率 :=1.7×10-5/℃ V:絶縁層の体積含有率 :信号回路=0.96 :電源回路=0.64 V:回路銅の体積含有率 :信号回路=0.04 :電源回路=0.36 E:絶縁層の縦弾性係数=10 E:回路銅の 〃 =90 ν:絶縁層のポアソン比=0.2 ν:回路銅の 〃 =0.3 上記の式(1),(2)から求めたαZを下式(3)に代入
することによりそれぞれ信号層,電源層の熱応力を求め
ることができる。
熱応力=EI×(αZ−αC)×ΔT …(3) ΔT:温度差 上記の熱応力の値をプロットして直線l1およびl2を求
めた。
比誘電率が4以下で、前記直線l1よりも硬化後の曲げ
強度が大きい樹脂としては、前記一般式(I)で示され
るポリエーテルイミド系化合物の重合体または共重合体
を用いる。
また、前記直線l2よりも硬化後の曲げ強度が大きい樹
脂としては、マレイミド系樹脂がある。
上記ポリエーテルイミド系化合物としては、例えば、
2,2−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン、2,2−ビス〔3−メチル−4−(4−マ
レイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス
〔3−クロロ−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン、2,2−ビス〔3−ブロモ−4−(4−マ
レイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス
〔3−エチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン、2,2−ビス〔3−プロピル−4−(4−
マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビ
ス〔3−イソプロピル−4−(4−マレイミドフェノキ
シ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−ブチル−4
−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、
2,2−ビス〔3−sec−ブチル−4−(4−マレイミド
フェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−メ
トキシ−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プ
ロパン、1,1−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキ
シ)フェニル〕エタン、1,1−ビス〔3−メチル−4−
(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、1,1
−ビス〔3−クロロ−4−(4−マレイミドフェノキシ)
フェニル〕エタン、1,1−ビス〔3−ブロモ−4−(4
−マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、ビス〔4
−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス
〔3−クロロ−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニ
ル〕メタン、ビス〔3−ブロモ−4−(4−マレイミド
フェノキシ)フェニル〕メタン、1,1,1,3,3,3−ヘ
キサフルオロ−2,2−ビス〔4−(4−マレイミドフェ
ノキシ)フェニル〕プロパン、3,3−ビス〔4−(4−
マレイミドフェノキシ)フェニル〕ペンタン、1,1,1,
3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2−ビス〔3−5−ジ
ブロモ−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プ
ロパン、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2−
ビス〔3メチル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェ
ニル〕プロパンなどがあり、これらの1種以上が用いら
れる。
また、前記マレイミド系化合物としては、例えば、N,
N′−m−フェニレンビスマレイミド、N,N′−p−
フェニレンビスマレイミド、N,N′−4,4′−ジフェ
ニルメタンビスマレイミド、N,N′−4,4′−ジフェ
ニルエーテルビスマレイミド、N,N′−メチレンビス
(3−クロロ−p−フェニレン)ビスマレイミド、N,
N′−4,4′−ジフェニルスルホンビスマレイミド、
N,N′−4,4′−ジシクロヘキシルメタンビスマレイ
ミド、N,N′−α,α′−4,4′−ジメチレンシクロ
ヘキサンビスマレイミド、N,N′−m−キシレンビス
マレイミド、N,N′−4,4′−ジフェニルシクロヘキ
サンビスマレイミド等、およびアニリンとホルムアルデ
ヒドの縮合物を無水マレイン酸と反応させて得られる次
式(II)で示される多価マレイミド化合物がある。
(但しnは1〜3) これらにアミンおよびエポキシ化合物を組み合わせて使
用することが好ましい。
また、必要に応じて前記エーテルイミド系化合物および
マレイミド系樹脂に成型性向上や難燃性付与等の目的で
ポリブタジエン、変性ポリブタジエン、反応性難燃剤等
を配合することも可能である。
次に、本発明の多層プリント回路板の製法の一例を説明
する。
まず、1MHzにおける比誘電率が4以下の回路板を得
るには、前記エーテルイミド系化合物を有機溶媒に加熱
溶解してワニスを調製する。
有機溶媒としては、例えば、トルエン,キシレン,アセ
トン,メチルエチルケトン,メチルイソブチルケトン,
N,N−ジメチルホルムアミド,N−メチルピロリド
ン,エチレングリコールモノメチルエーテル,ジメチル
スルホキシド,トリクロロエタン,塩化メチレン,ジオ
キサン,四塩化炭素、テトラクロロエチレン、シクロヘ
キサン、酢酸エチル等があり、前記エーテルイミド系化
合物を均一に溶解することができるものであればよい。
該ワニスにはラジカル重合開始剤等の触媒を添加して含
浸用ワニスとする。
次に、上記で得た含浸用ワニスを、繊維質基材例えばガ
ラス繊維に含浸塗工し、室温〜170℃で乾燥して、プ
リプレグを作成する。この場合の乾燥温度は、用いた有
機溶媒、配合した硬化触媒等によって設定する。
上記によって得たプリプレグaは、金属箔と積層し、加
圧,加熱成形して回路基板を作成し、基板表面の金属箔
を公知の方法により回路パターンを形成して信号回路板
a′を作製する。なお、金属箔としては、一般にプリン
ト回路板等に用いられている銅箔が使用される。
次に、上記と同様にして、マレイミド系化合物を有機溶
媒に溶解したワニスを用いてプリプレグbを作製し、該
プリプレグbと金属箔を積層して電源回路板b′を作製
する。
上記信号回路板a′と電源回路板b′とを必要層数積層
し、(a′−a′)間および(a′−b′)間には前記プリ
プレグaを、また、(b′−b′)間には前記プリプレグ
bを挾んで積層し、加圧,加熱成形することにより、本
発明の多層プリント回路板が得られる。
なお、上記において、各回路板並びに多層プリント回路
板の成形条件は、100〜250℃、10〜100kg
f/cm2で行うのがよい。
前記繊維質基材としては、一般に積層板に用いられてい
るものが使用できるが、耐熱性を考慮した場合には、無
機繊維からなるものがよい。
例えば、SiO2,Al23等を主成分とするEガラ
ス,Cガラス,Aガラス,Sガラス,Tガラス,D−ガ
ラス,YM−31−Aガラス、または、石英ガラス(Q
ガラス)等各種のガラス繊維が使用できる。
また、有機繊維を用いる場合は、耐熱性の優れた芳香族
ポリアミドイミド骨格を有する高分子繊維、例えば、ア
ラミド繊維等が使用できる。
繊維質基材の量としては、絶縁層全体に対し20〜40
容量%が好ましい。
〔作用〕
本発明は、信号回路相互間および信号回路と電源回路間
の絶縁層に比誘電率4以下のポリエーテルイミド系樹脂
を含浸させた絶縁層を配し、かつ、電源回路相互間の絶
縁層には、−65℃〜+125℃のヒートサイクルによ
り回路導体と絶縁層とで発生する熱応力の値よりも、樹
脂単独での硬化後の曲げ強度が大きい樹脂を含む絶縁層
を配したことにより、信号伝送速度が速く、耐クラック
性の優れた多層プリント回路板を得ることができる。
特に、マレイミド系樹脂を電源回路相互間の絶縁層の樹
脂として用いることにより、該樹脂の特徴である難燃性
が活きた難燃性多層プリント回路板を提供することがで
きる。
実施例 1 一般式(I)で示されるエーテルイミド系化合物として
2,2−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン50重量部にジグリシジルエーテルビスフ
ェノールAで変性したポリブタジエン(EPB:日本層
達社製)30重量部、反応性難燃剤として臭素化ポリ
(p−ヒドロキシスチレン)メタクリル酸エステル20重
量部をN,N−ジメチルホルムアミドに加熱(80〜1
20℃)溶解させ、固形分量50重量%のワニスを得
る。更に、ラジカル重合開始剤として2,5−ジメチル
−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキシン3を
0.5重量部、硬化剤としてベンゾグアナミン2重量部
を添加した後、このワニスをEガラスクロス(500m
m×600mm×厚さ50μm)に含浸塗工し、120
〜160℃,10〜20分間乾燥して、タックフリーの
プリプレグを得た。
次に、該プリプレグを2枚重ね、プリプレグと接着する
側の面が粗化されている銅箔(厚さ18μm)2枚で挾
んで、圧力30kgf/cm2,130℃で30分、更
に、170℃で1時間、220℃で1時間プレスし、絶
縁層の比誘電率が3.6の銅貼り積層板を作製した。
上記銅貼り積層板をフォトエッチング法により信号回路
パターンを形成し、下記の方法によって回路パターンの
銅表面を処理し両面に配線回路を有する信号回路板を作
製した。
塩化銅/塩酸溶液(銅表面の粗化) :濃塩酸 300g :塩化第2銅 50g :蒸留水 650g 酸化皮膜形成液(銅表面の安定化) :水酸化ナトリウム 5g :リン酸三ナトリウム 10g :亜塩素酸ナトリウム 30g :蒸留水 955g また、銅箔貼りマレイミド系積層板MCL−I−67
(日立化成工業製、厚さ0.1mm)を用いて上記と同
様な方法により電源回路パターンを形成し、電源回路板
を作製した。
次に、第2図に示すような構成で、前記のプリプレグシ
ート3を用いて、電源回路板1と信号回路板2を30層
積層し、170℃,圧力20kgf/cm2,80分の
条件で接着成形を行い、多層プリント回路板を作製し
た。なお、多層化のための接着用プリプレグシートはそ
れぞれ2枚重ねて用いた。その厚さは約100μmであ
る。
多層化接着は位置ずれ防止のために各基板の四方に設け
たガイド孔にガイドピンを挿入して行った。多層化接着
後、孔径0.3mmおよび0.6mmの孔を所定の位置
にマイクロドリルであけ、孔内全面に周知の方法で化学
銅めっきを行ってスルーホール導体4を形成した。次い
で、最外層回路をエッチングにより形成することによ
り、本発明の多層プリント回路板を得た。
本実施例では、570mm×420mm×厚さ約4mm
の大きさで、ライン幅70μmと100μmの2種、チ
ャンネル/グリッドが2〜3本/1.3mm,層間ずれ
が約100μm以下のものを得ることができた。なお、
ガラスクロスが絶縁層に占める割合は約30容積%であ
った。
また、信号回路の絶縁層の比誘電率は3.6であった。
実施例 2 エーテルイミド系化合物として1,1,1,3,3,3−ヘ
キサフルオロ−2,2′−ビス〔4−(4−マレイミドフ
ェノキシ)フェニル〕プロパンを用いたほかは実施例1
と同様にして多層プリント回路板を作製した。なお、信
号回路の絶縁層の比誘電率は3.4であった。
実施例 3 エーテルイミド系化合物として2,2′−ビス〔4−(4
−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン60重量
部、クレゾールノボラック型エポキシ変性ポリブタジエ
ン30重量部、2,2−ビス〔3,5−ジブロモ−4−
(2−メタクリロイルオキシエトキシ)フェニル〕プロパ
ン10重量部を配合しワニスを得る。さらに、繊維質基
材としてTガラスクロス(日東紡社製:厚さ50μm)
を用いたほかは、実施例1と同様にして多層プリント回
路板を作製した。なお、信号回路の絶縁層の比誘電率は
3.5であった。
実施例 4 エーテルイミド系化合物として2,2′−ビス〔3−メ
チル−4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロ
パン40重量部、クレゾールノボラック型エポキシ変性
ポリブタジエン30重量部、臭素化ポリ(p−ヒドロキ
シスチレン)アクリル酸エステル30重量部を配合しワ
ニスを得る。繊維質基材としてDガラスクロス(日東紡
社製:厚さ100μm)を用いたほかは、実施例1と同
様にして多層プリント回路板を作製した。なお、信号回
路の絶縁層の比誘電率は3.4であった。
実施例 5 エーテルイミド系化合物として2,2′−ビス〔4−(4
−マレイミドフェノキシ)フェニル〕プロパン40重量
部、N,N′−4,4′−ジフェニルメタンビスマレイミ
ド20重量部を用いたほかは、実施例3と同様にして多
層プリント回路板を作製した。なお、信号回路の絶縁層
の比誘電率は3.8であった。
比較例 1 マレイミド系銅箔貼り積層板MCL−I−67(日立化
成工業社製)を信号回路板および電源回路板の両方に用
い、マレイミド系プリプレグとしてGLA−67N(日
立化成工業社製)を接着層として用い積層接着を行い、
実施例1と同じ積層数の多層プリント回路板を作製し
た。
比較例 2 電源回路板にエポキシ系銅箔貼り積層板MCL−E−6
7(日立化成工業社製)を用いたほかは、実施例1と同
じ積層数の多層プリント回路板を作製した。
比較例 3 1,2−ポリブタジェン樹脂50重量部、フェノールノ
ボラック型エポキシ変性ポリブタジエン樹脂50重量部
をキシレンに溶解し、固形分量25重量%のワニスを作
製した。
これに、ラジカル重合開始剤としてジクミルパーオキサ
イド3重量部、2−ウンデシルイミダゾール1重量部を
添加したワニスを用いてプリプレグを作製し、信号回路
および電源回路ならびに両層間を該プリプレグで構成
し、実施例1と同じ積層数の多層プリント回路板を作製
した。
比較例 4 実施例1において用いたエーテルイミド系樹脂から成る
プリプレグを、信号回路および電源回路ならびに両層間
の全絶縁層に用いた多層プリント回路板を実施例1と同
様にして作製した。
第1表に、前記実施例1〜5および比較例1〜4の多層
プリント回路板に関する特性を示す。
なお、第1表中において、熱分解温度は含浸樹脂の硬化
物を作製し、これを粉砕して、熱天秤により10mgの
試料を空気中、昇温速度5℃/分で加熱し、トータル減
量が5重量%に達した時の温度を熱分解温度とした。
信号回路の絶縁層の比誘電率は、JISC6481に基
づき、周波数1MHzにおける静電容量を測定して求め
た。
熱膨張率は、回路を設けてない絶縁層のみの積層板を作
製して、10mm角に裁断し、これを50℃から220
℃(昇温速度2℃/分)まで昇温加熱した場合の熱膨張
による厚さ方向の寸法変化を測定して求めた。なお、該
値は含浸樹脂のみを硬化した場合の熱膨張率とほぼ一致
した。
半田耐熱性は、JISC6481に準じて行い、300
℃の半田浴に多層プリント回路板(50mm×50m
m)を浮べ、300秒間放置した場合の“ふくれ発生”
の有無等の表面状態を目視により調べた。
難燃性は、作製したプリント回路板(127mm×1
2.7mm)をUL−94規格の垂直法に準じガスバー
ナ炎により行った。
含浸樹脂の曲げ強度は、各プリプレグに含浸した樹脂の
みを25mm×50mm×厚さ1.2mmの大きさに成
形硬化したものを用い、支点間距離30mm,曲げ速度
1mm/分,室温で測定した。
回路銅箔のピール強度は、35μmの膜厚の銅箔を接着
した試験片により、引き剥がし速度50mm/分で垂直
方向に銅箔を引き剥がした場合の強度を室温で測定し
た。
吸水率は、JISC6481に準じ、多層プリント回路
板を沸騰水中で24時間放置後の吸水量を測定して求め
た。
熱衝撃試験は、プリント回路板を−65℃(2時間)〜
+125℃(2時間)を1サイクルとするヒートサイク
ルを加え、絶縁層にクラックが発生するまでのサイクル
数を求めた。また、同じくテスト回路による回路断線の
有無も調べた。
なお、クラック発生前に回路断線の生じたものはなかっ
た。
これらの結果は第1表に示すように、本発明の多層プリ
ント回路板は信号回路板の比誘電率が3.8以下であ
り、かつ、熱膨張率が8×10-5/℃以下と小さく、寸
法安定性に優れているので、グリッド間1.3mmに2
〜3本のパターン配線が可能となり、かつ、信号回路板
の厚さを約70μm程度とすることが可能である。従っ
て、20層以上の高積層の多層プリント回路板を容易に
得ることができる。
また、本発明の多層プリント回路板は、前記第1表の熱
衝撃試験の結果から明らかなように、耐クラック性が優
れている。
更にまた、耐熱性、半田耐熱性、難燃性、ピール強度、
耐吸水性等にも優れている。
〔発明の効果〕
本発明によれば、信号回路相互間および信号回路と電源
回路間の比誘電率が4以下で、耐熱衝撃性(耐クラック
性)が優れた多層プリント回路板が得られる。該プリン
ト回路板は、従来のエポキシ樹脂系のプリント回路板に
比べて、信号遅延時間を約15%低減することができる
ので電子計算機用の多層プリント回路板として優れてい
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、多層プリント回路板の絶縁層の熱膨張率と絶
縁層に含浸した熱硬化性樹脂の曲げ強度との関係を示す
グラフ、第2図は、本発明の一実施例の多層プリント回
路板の一部断面模式斜視図である。 1……電源回路板,2……信号回路板,3……プリプレ
グシート(接着層),4……スルーホール。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菅原 捷夫 茨城県日立市久滋町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 小野 正博 茨城県日立市久滋町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 向尾 昭夫 茨城県日立市久滋町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 和嶋 元世 神奈川県秦野市堀山下1番地 株式会社日 立製作所神奈川工場内 (72)発明者 大木 伸昭 神奈川県秦野市堀山下1番地 株式会社日 立製作所神奈川工場内 (72)発明者 古川 清則 神奈川県秦野市堀山下1番地 株式会社日 立製作所神奈川工場内 (56)参考文献 特開 昭61−82496(JP,A)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の信号回路および電源回路と、これら
    の回路相互間に熱硬化性樹脂を繊維質基材に含浸硬化し
    て成る絶縁層を有する多層プリント回路板において、 信号回路間または信号回路と電源回路間が、繊維質基材
    にポリエーテルイミドを含浸硬化して成る1MHzにお
    ける比誘電率が4以下の絶縁層により絶縁されており、 前記ポリエーテルイミドが、一般式(I) (式中R1〜R4は水素原子,低級アルキル基,低級アル
    コキシ基,ハロゲン原子を示し、互いに同じでも異なっ
    ていてもよい。R5およびR6は水素原子,メチル基,エ
    チル基,トリフルオロメチル基,トリクロロメチル基で
    あり、互いに同じでも異なっていてもよい。Dはエチレ
    ン性不飽和二重結合を有するジカルボン酸残基)で示さ
    れるエーテルイミド系化合物の重合体または共重合体か
    ら成り、 電源回路相互間の絶縁層が、−65℃〜+125℃のヒ
    ートサイクルにより発生する電源回路層の熱応力より
    も、樹脂単独の曲げ強度が大きい熱硬化性樹脂を繊維質
    基材に含浸硬化して成る絶縁層で形成されていることを
    特徴とする多層プリント回路板。
  2. 【請求項2】電源回路相互間の絶縁層がマレイミド系樹
    脂を繊維質基材に含浸硬化した絶縁層から成る請求項第
    1項に記載の多層プリント回路板。
  3. 【請求項3】前記各絶縁層のそれぞれの熱膨張率が、同
    一または近似した絶縁層から成る請求項第1項または第
    2項に記載の多層プリント回路板。
  4. 【請求項4】複数の信号回路と電源回路を有し、これら
    の回路間が熱硬化性樹脂を繊維質基材に含浸硬化して成
    る絶縁層で絶縁されている多層プリント回路板の製法に
    おいて、 (A)繊維質基材に一般式(I) (式中R1〜R4は水素原子,低級アルキル基,低級アル
    コキシ基,ハロゲン原子を示し、互いに同じでも異なっ
    ていてもよい。R5およびR6は水素原子,メチル基,エ
    チル基,トリフルオロメチル基,トリクロロメチル基で
    あり、互いに同じでも異なっていてもよい。Dはエチレ
    ン性不飽和二重結合を有するジカルボン酸残基)で示さ
    れるエーテルイミド系化合物の重合体または共重合体か
    ら成る熱硬化性樹脂を含浸したプリプレグaと金属箔と
    を積層し硬化して回路基板を形成し、該回路基板に信号
    回路パターンを形成する信号回路板a′を形成する工
    程、 (B)プリプレグと金属箔との積層接着成形により生ず
    る熱応力よりも、硬化後の樹脂単独の曲げ強度が大きい
    熱硬化性樹脂を含浸したプリプレグbと金属箔とを積層
    し硬化して電源回路基板を形成し、該回路基板に電源回
    路パターンを形成する電源回路板b′を形成する工程、 (C)前記信号回路板相互(a′−a′)間および信号
    回路板と電源回路板(a′−b′)間には前記プリプレ
    グaを、また、電源回路板相互(b′−b′)間には前
    記プリプレグbを介在させて積層接着する工程、 を含むことを特徴とする多層プリント回路板の製法。
  5. 【請求項5】前記プリプレグbがマレイミド系樹脂を含
    浸したものである請求項第4項に記載の多層プリント回
    路板の製法。
  6. 【請求項6】プリプレグaとプリプレグbの硬化後の熱
    膨張率が、同一または近似したものを用いる請求項第4
    項または第5項に記載の多層プリント回路板の製法。
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