JPH06338734A - パワートランジスタ温度保護回路装置 - Google Patents

パワートランジスタ温度保護回路装置

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JPH06338734A
JPH06338734A JP5126895A JP12689593A JPH06338734A JP H06338734 A JPH06338734 A JP H06338734A JP 5126895 A JP5126895 A JP 5126895A JP 12689593 A JP12689593 A JP 12689593A JP H06338734 A JPH06338734 A JP H06338734A
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Katsuhiko Higashiyama
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    • H03K2017/0806Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage against excessive temperature

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明はパワーデバイス温度保護回路装置に
関するもので、パワーデバイスの熱破壊を防止できるパ
ワーデバイス温度保護回路装置を提供することを目的と
する。 【構成】 ベース領域とエミッタ領域が二重拡散プロセ
スで形成されたシリコンパワートランジスタ2と同体の
シリコン上にエミッタ・ベース領域が電気的に絶縁され
たある一定面積を持つ温度検知トランジスタ3を形成し
て構成し、上記トランジスタ3のベース端子9・エミッ
タ端子10が、別体で形成された回路部12に接続し、
そのベース・エミッタ電圧が所定の電圧に達することを
検出できるベース・エミッタ電圧検出部19と、上記ベ
ース・エミッタの電圧オフセットを調整できるバイアス
抵抗11を付加して構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ベース領域とエミッタ
領域が二重拡散プロセスで形成されたシリコンパワート
ランジスタの温度を短時間に検出するパワートランジス
タ温度保護回路装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、パワートランジスタ温度保護回路
装置は、電力制御分野で使用されるパワートランジスタ
の重要な保護機能として様々な形で組み入れられてい
る。
【0003】以下図面を参照しながら、上述した従来の
パワートランジスタ温度保護回路装置の一例について説
明する。
【0004】図4は従来のパワートランジスタ温度保護
回路装置の基本構成の一例を示すものである。図4にお
いて、1はベース領域とエミッタ領域が二重拡散プロセ
スで形成されたシリコンパワートランジスタチップであ
り、6はコレクタ端に接続した銅ヒートシンク、7はパ
ワートランジスタのベース端、8はパワートランジスタ
のエミッタ端である。
【0005】12はシリコンパワートランジスタチップ
1とは別体のシリコンチップで形成されたIC集積回路
であり、14は電圧源、18は定電流源、20は温度検
出出力トランジスタ、21は出力端のプルアップ抵抗、
25は電源端、26は出力端、24はグランド端、2
7、28はそれぞれ検出温度設定用の抵抗、29は温度
検出トランジスタ、で構成されている。
【0006】また、図5は、図4に示すパワートランジ
スタ温度保護回路装置を使用した混成集積回路装置の実
装形態の一例を示すもので、図4と同一の符号は同じも
のを示している。6は銅材で形成されたコレクタ端、3
0は混成集積回路実装基板、31は集積回路を配線する
ボンディングワイヤーである。
【0007】以上のように構成されたパワートランジス
タ温度保護回路装置について、以下その構成について説
明する。
【0008】まず、混成集積回路実装基板30の上に形
成されたシリコンパワートランジスタ1は、電力制御分
野の電力制御部分に使用される。この時発生するコレク
タ損失は発熱として、シリコンパワートランジスタ1か
ら銅材で形成されたコレクタ端6を伝達して放熱する。
この発熱は、混成集積回路実装基板30を介して別体の
シリコン片で形成されたIC集積回路12に伝わり、温
度検出トランジスタ29が所定の温度に到達すると、温
度検出出力端26がオフ状態からオン状態(L→H)と
なるような構成になっている。一般にシリコンパワート
ランジスタ1で許容されるコレクタ損失は、ある有限の
値を持っており、その許容限度を越えて発熱すると熱破
壊にいたる。
【0009】また、図6は、ベース領域とエミッタ領域
を二重拡散プロセスで形成したトランジスタの断面図で
ある。図6において、32はエミッタ領域、33はベー
ス領域、34はコレクタ高比抵抗領域、35はコレクタ
高不純物濃度領域、36はコレクタ裏面部である。図6
で示されるようにベース領域とエミッタ領域を二重拡散
プロセスで形成するバイポーラトランジスタでは、個別
素子を電気的に完全分離するための拡散工程がない。特
にコレクタ電極は共通電極として配置するため、複数の
能動素子あるいは受動素子を組み合わせた機能回路を形
成することは不可能で、パワートランジスタチップ上で
の温度保護回路の形成は不可能である。
【0010】それで、パワートランジスタ温度保護回路
装置は、パワートランジスタチップとは別体の基板上に
形成するのが一般的である。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな従来のパワートランジスタ温度保護回路装置の構成
では、温度検出トランジスタ29が別体のシリコン片で
形成されたIC集積回路12上に形成されているため、
熱伝達の遅延時間と、シリコンパワートランジスタ1間
の熱抵抗により、温度勾配が発生する。そのため、極め
て短い時間(数十ミリセカンド〜数百ミリセカンド)に
シリコンチップ1の急激な発熱温度を検出することは不
可能であるという問題点を有していた。
【0012】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、シリ
コンパワートランジスタの異常発熱に対して、極めて短
時間のうちにシリコンパワートランジスタのチップ温度
検出を可能にするパワートランジスタ温度保護回路装置
を提供することを目的としてなされたものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明のパワートランジスタ温度保護回路装置は、ベ
ース領域とエミッタ領域が二重拡散プロセスで形成され
たシリコンパワートランジスタと同体のシリコン上に上
記シリコンパワートランジスタとは電気的に絶縁された
ベース領域とエミッタ領域から成るある一定の面積を持
つ温度検知トランジスタを形成して構成し、上記温度検
知トランジスタのベース端子とエミッタ端子それぞれ
が、上記シリコンとは別体で形成された集積回路上に上
記ベース・エミッタ間電圧が所定の電圧になることを検
出できるベース・エミッタ電圧検出部とに接続し、上記
ベース・エミッタ間電圧の電圧オフセットを調整できる
バイアス抵抗とを接続して構成することによって、上記
シリコンパワートランジスタのチップ温度を短時間に検
出することを可能にすることを特徴とするものである。
【0014】
【作用】本発明は上記した構成によって、シリコンパワ
ートランジスタのチップ温度を同体のシリコン上に形成
された温度検知トランジスタのベース・エミッタ電圧の
変化で所定の温度を検出させるものである。温度検知ト
ランジスタが同体のシリコン上にあるため、極めて短時
間に検出でき、設定温度は外部から電圧オフセットを調
節することで可変することができ、極めて自由度の高い
チップ温度検出が可能となる。
【0015】
【実施例】以下、本発明のパワートランジスタ温度保護
回路装置の一実施例について、図1〜図2を参照しなが
ら詳細に説明する。
【0016】図1は本発明の第一の実施例におけるパワ
ートランジスタ温度保護回路装置の基本構成を示すもの
である。
【0017】図1において、1はベース領域とエミッタ
領域が二重拡散プロセスで形成されたNPNタイプのシ
リコンチップであり、2はパワートランジスタ部、3は
温度検知トランジスタ、6はコレクタ端、7はパワート
ランジスタ部2のベース端、8はパワートランジスタ部
2のエミッタ端、9は温度検知トランジスタ3のベース
端、10は温度検知トランジスタ3のエミッタ端であ
る。11は電圧オフセット調整用バイアス抵抗である。
【0018】12はNPNタイプのシリコンチップ1と
は別体のシリコン片で形成されたIC集積回路部であ
り、13、17は、それぞれ温度検知トランジスタ3の
ベース・エミッタ間電圧を検出するダイオード接続され
たトランジスタとトランジスタ、14は電圧源であり、
温度補正されたバンドギャップリファレンスで構成され
る。15、16はそれぞれ検出温度設定用の抵抗、18
は定電流源、19はベース・エミッタ電圧検出部、20
は温度検出出力トランジスタ、21は出力端のプルアッ
プ抵抗、22は温度検知トランジスタ3のエミッタ端1
0に接続した第一の入力端、23は温度検知トランジス
タ3のベース端9に接続した第二の入力端、24は基準
グランド端、25は電源端、26は出力端である。
【0019】また、図2は、図1に示したパワートラン
ジスタ温度保護回路装置を使用した混成集積回路の実装
形態の一例を示すもので、図1と同一の符号は同じもの
を示している。6は銅材で形成されたコレクタ端、30
は混成集積回路実装基板、31は集積回路と混成集積回
路実装基板を接続するボンディングワイヤーである。
【0020】以上のように構成されたパワートランジス
タ温度保護回路装置について、以下その動作について説
明する。
【0021】まず、混成集積回路実装基板30の上に形
成されたパワートランジスタ部2は、電力制御回路の制
御部分に使用される。この時発生するコレクタ損失は発
熱として、シリコンチップ1から銅材で形成されたコレ
クタ端6を伝達して放熱する。一方この発熱は同一のシ
リコン片上にある温度検知トランジスタ3にも伝達され
る。この熱の到達時間は一般的には数十ミリセカンド以
内に伝達される。この発熱で温度検知トランジスタ3の
ベース・エミッタ間電圧(VBE)は、温度に対してほぼ
直線的に変化する(約−2mV〜−2.5mV/℃)良
好な温度センサーとしての働きをする。検出温度設定用
抵抗15、16と外部の電圧オフセット調整用抵抗11
の設定で決まる所定の温度に到達すると、温度検出出力
端26がオフ状態からオン状態(L→H)となるような
動作をする。
【0022】図3は本発明の第2の実施例におけるパワ
ートランジスタ温度保護回路装置の基本構成を示すもの
である。
【0023】図3において、1はベース領域とエミッタ
領域が二重拡散プロセスで形成されたPNPタイプのシ
リコンチップであり、2はPNPパワートランジスタ
部、3は温度検知トランジスタ、6はコレクタ端、7は
PNPパワートランジスタ部2のベース端、8はPNP
パワートランジスタ部2のエミッタ端、9は温度検知ト
ランジスタ3のベース端、10は温度検知トランジスタ
3のエミッタ端である。11は電圧オフセット調整用バ
イアス抵抗である。
【0024】12はPNPタイプのシリコンチップ1と
は別体のシリコン片で形成されたIC集積回路部であ
り、13、17は、それぞれ温度検知トランジスタ3の
ベース・エミッタ間電圧を検出するダイオード接続され
たトランジスタとトランジスタ、14は電圧源であり、
温度補正されたバンドギャップリファレンスで構成され
る。15、16はそれぞれ検出温度設定用の抵抗、18
は定電流源、19はベース・エミッタ電圧検出部、20
は温度検出出力トランジスタ、21は出力端のプルアッ
プ抵抗、22は温度検知トランジスタ3のエミッタ端1
0に接続した第一の入力端、23は温度検知トランジス
タ3のベース端9に接続した第二の入力端、24は基準
グランド端、25は電源端、26は出力端、である。
【0025】この実施例では、シリコンチップ1にPN
Pタイプを用いたもので、全ての能動素子および電源の
極性を逆にして構成することにより、NPNタイプと同
一の機能を果たすことができる。この場合、温度センサ
ーはあくまで、温度検知トランジスタ3のベース・エミ
ッタ電圧であるので、集積回路部のラテラルPNPなど
の特性の影響はなく、NPNと同等の特性を容易に得る
ことができる。
【0026】なお、12はシリコンチップ1とは別体の
シリコン片で形成されたIC集積回路部としたが、個別
素子(ディスクリート素子)で形成した回路部で構成し
てもよい。また、30は混成集積回路実装基板とした
が、一般的なプリント基板で構成してもよい。また、1
はベース領域とエミッタ領域が二重拡散プロセスで形成
されたNPNまたはPNPタイプのシリコンチップとし
て混成集積回路実装基板上に形成したが、NPNまたは
PNPタイプの個別素子として構成してもよいので、電
力制御産業分野の全般にわたって、広範囲の応用が期待
できる。
【0027】
【発明の効果】以上のように本発明は、温度検知トラン
ジスタをシリコンパワートランジスタと同体のシリコン
チップ上に形成することにより、シリコンパワートラン
ジスタの発熱を短時間(数十ミリセカンド〜数百ミリセ
カンド以内)に検出できるので、過大な電力印加によっ
てシリコンパワートランジスタが熱破壊される臨界温度
以下の検出を可能にする優れた温度センサーを提供する
ことによって、チップ破壊を未然に防止することを可能
にするものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例におけるパワートランジ
スタ温度保護回路装置の基本構成図
【図2】本発明の第1の実施例におけるパワートランジ
スタ温度保護回路装置を使用した混成集積回路実装基板
の基本構造図
【図3】本発明の第2の実施例におけるパワートランジ
スタ温度保護回路装置の基本構成図
【図4】従来のパワートランジスタ温度保護回路装置の
基本構成図
【図5】従来のパワートランジスタ温度保護回路装置を
使用した混成集積回路実装基板の基本構造図
【図6】本発明に適用したベース領域とエミッタ領域が
二重拡散プロセスで形成されたシリコンチップの基本構
造図
【符号の説明】
1 ベース領域とエミッタ領域が二重拡散プロセスで形
成されたNPNまたはPNPタイプのシリコンチップ 2 パワートランジスタ部 3 温度検知トランジスタ 6 コレクタ端 7 パワートランジスタのベース端 8 パワートランジスタのエミッタ端 9 温度検知トランジスタのベース端 10 温度検知トランジスタのエミッタ端 11 電圧オフセット調整用の抵抗 12 別体のシリコンチップで構成されたIC集積回路
部 13 ダイオード接続されたトランジスタ 14 電圧源 15、16 抵抗 17 トランジスタ 18 定電流源 19 ベース・エミッタ電圧検出部 20 温度検出出力トランジスタ 21 プルアップ抵抗 22 温度検知トランジスタのエミッタ端に接続した第
一の入力端 23 温度検知トランジスタのベース端に接続した第二
の入力端 24 基準グランド端 25 電源端 26 出力端 30 混成集積回路実装基板 31 ボンディングワイヤー

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ベース領域とエミッタ領域が二重拡散プ
    ロセスで形成されたシリコンパワートランジスタと同体
    のシリコン上に上記シリコンパワートランジスタとは電
    気的に絶縁されたベース領域とエミッタ領域から成るあ
    る一定の面積を持つ温度検知トランジスタを形成して構
    成し、上記温度検知トランジスタのベース端子とエミッ
    タ端子それぞれが、上記シリコンとは別体で形成された
    実装基板上に上記ベース・エミッタ間電圧が所定の電圧
    になることを検出できるベース・エミッタ電圧検出部を
    形成して接続し、上記ベース・エミッタ間電圧の電圧オ
    フセットを調整できるバイアス抵抗とを接続して構成さ
    れ、上記シリコンパワートランジスタのチップ温度を短
    時間に検出できることを特徴とするパワートランジスタ
    温度保護回路装置。
  2. 【請求項2】 上記別体で形成された実装基板が混成集
    積回路実装基板であることを特徴とする請求項1記載の
    パワートランジスタ温度保護回路装置。
  3. 【請求項3】 上記別体で形成された実装基板がプリン
    ト基板であることを特徴とする請求項1記載のパワート
    ランジスタ温度保護回路装置。
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