JPH06322163A - 回転バレル式プラズマ処理装置 - Google Patents
回転バレル式プラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPH06322163A JPH06322163A JP13266193A JP13266193A JPH06322163A JP H06322163 A JPH06322163 A JP H06322163A JP 13266193 A JP13266193 A JP 13266193A JP 13266193 A JP13266193 A JP 13266193A JP H06322163 A JPH06322163 A JP H06322163A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- outer cylinder
- plasma
- processed
- treating
- treated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 被処理部材の表面を均一に処理出来る共に、
多数の被処理部材にわたって均一なプラズマ処理を実現
出来るようにする 【構成】 真空排気口、処理ガスの供給口および被処理
部材の投入口を備える外筒を気密に形成し、上記外筒の
内部には処理空間を備える内筒を回動自在に設け、上記
外筒には上記処理空間に位置するプラズマ発生端の元部
を固定し、上記発生端の元部から供給される電力により
上記処理空間において上記処理ガスのプラズマ雰囲気を
形成すると共に上記内筒を回すことによって上記被処理
部材を攪拌しながら処理できるようにした
多数の被処理部材にわたって均一なプラズマ処理を実現
出来るようにする 【構成】 真空排気口、処理ガスの供給口および被処理
部材の投入口を備える外筒を気密に形成し、上記外筒の
内部には処理空間を備える内筒を回動自在に設け、上記
外筒には上記処理空間に位置するプラズマ発生端の元部
を固定し、上記発生端の元部から供給される電力により
上記処理空間において上記処理ガスのプラズマ雰囲気を
形成すると共に上記内筒を回すことによって上記被処理
部材を攪拌しながら処理できるようにした
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はプラスチック又は金属等
の被処理部材に脱脂及び／又は活性化などのプラズマ処
理を施す為の回転バレル式プラズマ処理装置に関する。
の被処理部材に脱脂及び／又は活性化などのプラズマ処
理を施す為の回転バレル式プラズマ処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】処理装置の気密処理室において、プラス
チック又は金属等の被処理部材多数を網状の棚等に配列
し、この処理室で発生したプラズマ雰囲気により被処理
部材に脱脂及び／又は活性化などのプラズマ処理を実施
している。
チック又は金属等の被処理部材多数を網状の棚等に配列
し、この処理室で発生したプラズマ雰囲気により被処理
部材に脱脂及び／又は活性化などのプラズマ処理を実施
している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この従来の処理装置で
は、プラズマ雰囲気の発生端に面する被処理部材は満足
に処理されるが、その陰になる被処理部材における処理
が不十分になる傾向が強く、均一なプラズマ処理が実現
しないと言う問題点があった。また頻繁に繰り返される
処理過程に先だって、被処理部材を処理室に整然と配列
するために、多大の労力を要し、これが省力化、効率化
を阻んでいた。
は、プラズマ雰囲気の発生端に面する被処理部材は満足
に処理されるが、その陰になる被処理部材における処理
が不十分になる傾向が強く、均一なプラズマ処理が実現
しないと言う問題点があった。また頻繁に繰り返される
処理過程に先だって、被処理部材を処理室に整然と配列
するために、多大の労力を要し、これが省力化、効率化
を阻んでいた。
【０００４】本願発明は上記従来技術の問題点（技術的
課題）を解決する為になされたもので、各被処理部材の
表面を均一に処理出来る共に、多数の被処理部材にわた
って均一なプラズマ処理を実現出来るようにした回転バ
レル式プラズマ処理装置を提供することを目的としてい
る。
課題）を解決する為になされたもので、各被処理部材の
表面を均一に処理出来る共に、多数の被処理部材にわた
って均一なプラズマ処理を実現出来るようにした回転バ
レル式プラズマ処理装置を提供することを目的としてい
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する為
に、本願発明における回転バレル式プラズマ処理装置
は、真空排気口、処理ガスの供給口および被処理部材の
投入口を備える外筒を気密に形成し、上記外筒の内部に
は処理空間を備える内筒を回動自在に設け、上記外筒に
は上記処理空間に位置するプラズマ発生端の元部を固定
し、上記発生端の元部から供給される電力により上記処
理空間において上記処理ガスのプラズマ雰囲気を形成す
ると共に上記内筒を回すことによって上記被処理部材を
攪拌しながら処理するようにしたものである。
に、本願発明における回転バレル式プラズマ処理装置
は、真空排気口、処理ガスの供給口および被処理部材の
投入口を備える外筒を気密に形成し、上記外筒の内部に
は処理空間を備える内筒を回動自在に設け、上記外筒に
は上記処理空間に位置するプラズマ発生端の元部を固定
し、上記発生端の元部から供給される電力により上記処
理空間において上記処理ガスのプラズマ雰囲気を形成す
ると共に上記内筒を回すことによって上記被処理部材を
攪拌しながら処理するようにしたものである。
【０００６】
【作用】多数の被処理部材を内筒が区画形成する処理空
間に投入し、この空間にプラズマ雰囲気を形成して、内
筒を連続的に回動する。多数の被処理部材は内筒の回動
によって攪拌され、それらの表面は万遍に新鮮なプラズ
マ雰囲気に晒され、何れの被処理部材も発生直後のプラ
ズマ雰囲気によって、均一にかつ他の被処理部材と同じ
ように処理される。
間に投入し、この空間にプラズマ雰囲気を形成して、内
筒を連続的に回動する。多数の被処理部材は内筒の回動
によって攪拌され、それらの表面は万遍に新鮮なプラズ
マ雰囲気に晒され、何れの被処理部材も発生直後のプラ
ズマ雰囲気によって、均一にかつ他の被処理部材と同じ
ように処理される。
【０００７】
【実施例】以下本願の実施例を示す図面について説明す
る。図１乃至図３において、１は床に置かれた２個の
台、２は各台１に樹立させた二本の支柱、３は各支柱２
の上端に水平に固定した支台で、両支台３は平行に配置
されている。４は円筒形の側壁５およびその両端に取り
付けられた端板６、７からなる外筒である。７ａは端板
７に形成された開口、７ｂは開口７ａを気密に覆うマウ
ント板である。８は外筒４の軸と直交する直線に沿って
側壁５の外面２箇所に固定した支軸で、支台３に取り付
けられた２個の軸支部９にそれぞれ軸支され、外筒４の
軸を水平方向に対して傾動自在にしている。１０は一方
の支軸８の周りに設けたアーム元部、１１はその一端が
元部１０に支持されているアーム、１２は伸縮型のエア
シリンダでそのピストンロッド１３がアーム１１の他端
に枢着されている。１４は端板６に設けられた円形の被
処理部材の投入口、１５は投入口１４の近くにおいて側
壁５に固定した一対の軸受、１６は軸受１５に回動自在
に支持された回動軸、１７は回動軸１６の両端部に固着
された一対の回動アーム、１８は回動アームに取り付け
られた円形の蓋、１９は回動軸１６を回動し得るようこ
れに連結されている揺動型のエアシリンダである。２０
は蓋１８と端板６との間の気密を保つためのＯリング、
２１は端板６と側壁５の間の気密を保つためのＯリング
で、蓋１８が閉じたとき外筒４が気密になるように構成
されている。なお２２は組編金属材でＯリング状に形成
された高周波シールドで、Ｏリング２０の外側において
端板６の溝に納められている。２３は側壁５に設けられ
た処理ガスの供給口、２４は一方の支軸８を中空にする
ことによって外筒４の軸心位置に形成した真空排気口で
ある。なおフレキシブル配管を用いれば、真空排気口を
偏軸位置に設けることが出来る。２５は蓋１８に設けら
れた覗き窓である。
る。図１乃至図３において、１は床に置かれた２個の
台、２は各台１に樹立させた二本の支柱、３は各支柱２
の上端に水平に固定した支台で、両支台３は平行に配置
されている。４は円筒形の側壁５およびその両端に取り
付けられた端板６、７からなる外筒である。７ａは端板
７に形成された開口、７ｂは開口７ａを気密に覆うマウ
ント板である。８は外筒４の軸と直交する直線に沿って
側壁５の外面２箇所に固定した支軸で、支台３に取り付
けられた２個の軸支部９にそれぞれ軸支され、外筒４の
軸を水平方向に対して傾動自在にしている。１０は一方
の支軸８の周りに設けたアーム元部、１１はその一端が
元部１０に支持されているアーム、１２は伸縮型のエア
シリンダでそのピストンロッド１３がアーム１１の他端
に枢着されている。１４は端板６に設けられた円形の被
処理部材の投入口、１５は投入口１４の近くにおいて側
壁５に固定した一対の軸受、１６は軸受１５に回動自在
に支持された回動軸、１７は回動軸１６の両端部に固着
された一対の回動アーム、１８は回動アームに取り付け
られた円形の蓋、１９は回動軸１６を回動し得るようこ
れに連結されている揺動型のエアシリンダである。２０
は蓋１８と端板６との間の気密を保つためのＯリング、
２１は端板６と側壁５の間の気密を保つためのＯリング
で、蓋１８が閉じたとき外筒４が気密になるように構成
されている。なお２２は組編金属材でＯリング状に形成
された高周波シールドで、Ｏリング２０の外側において
端板６の溝に納められている。２３は側壁５に設けられ
た処理ガスの供給口、２４は一方の支軸８を中空にする
ことによって外筒４の軸心位置に形成した真空排気口で
ある。なおフレキシブル配管を用いれば、真空排気口を
偏軸位置に設けることが出来る。２５は蓋１８に設けら
れた覗き窓である。
【０００８】次に、２６は開口部２９を備える側枠２８
と、筒部２７とからなる内筒で、処理空間Ｔを区画形成
している。３０は端板７の開口７ａの周囲に装着された
軸受台３０ａによって支持された軸受で、側枠２８の側
に固着されている環状受部材３０ｂを支持することによ
って内筒２６を回転自在に支持している。３１は筒部２
７の端面に固定されたガイドで、側枠２８と反対の側に
おいて外筒のフランジ４ａの受部４ｂに接し、摺動自在
の構成でもって内筒２６を案内している。２７ａは筒部
２７の内面全周にわたって放射状に散設された被処理物
攪拌用の多数の羽根である。なお被処理部材の性質によ
っては、この羽根を設ける代わりに筒部２７の内面を緩
やかな凹凸面あるいは粗面の抵抗面に形成してもよい。
３２はマウント板７ｂに取り付けられたギヤドモータ、
３２ａはそのギヤケース、モータ３２の出力ギヤに連結
された図示外のピニオンは端板７を通して環状受部材３
０ｂの周囲に形成されている大歯車３３の周囲に噛み合
い、モータ３２が内筒２６を1rpm程度の低速で回転する
ように構成されている。３４はテフロンで形成された貫
通端子台で、外筒４の偏軸位置においてマウント板７ｂ
に気密に固定されている。３５はプラズマ発生端で、こ
の例においては元部３５ａを絶縁材製の端子台３４に気
密に挿通して支持し、開口７ａおよび開口部２９を通し
て処理空間Ｔに達している電極である。なお３６は端板
６の下方において支柱２に支持されたスライド状の被処
理部材受である。
と、筒部２７とからなる内筒で、処理空間Ｔを区画形成
している。３０は端板７の開口７ａの周囲に装着された
軸受台３０ａによって支持された軸受で、側枠２８の側
に固着されている環状受部材３０ｂを支持することによ
って内筒２６を回転自在に支持している。３１は筒部２
７の端面に固定されたガイドで、側枠２８と反対の側に
おいて外筒のフランジ４ａの受部４ｂに接し、摺動自在
の構成でもって内筒２６を案内している。２７ａは筒部
２７の内面全周にわたって放射状に散設された被処理物
攪拌用の多数の羽根である。なお被処理部材の性質によ
っては、この羽根を設ける代わりに筒部２７の内面を緩
やかな凹凸面あるいは粗面の抵抗面に形成してもよい。
３２はマウント板７ｂに取り付けられたギヤドモータ、
３２ａはそのギヤケース、モータ３２の出力ギヤに連結
された図示外のピニオンは端板７を通して環状受部材３
０ｂの周囲に形成されている大歯車３３の周囲に噛み合
い、モータ３２が内筒２６を1rpm程度の低速で回転する
ように構成されている。３４はテフロンで形成された貫
通端子台で、外筒４の偏軸位置においてマウント板７ｂ
に気密に固定されている。３５はプラズマ発生端で、こ
の例においては元部３５ａを絶縁材製の端子台３４に気
密に挿通して支持し、開口７ａおよび開口部２９を通し
て処理空間Ｔに達している電極である。なお３６は端板
６の下方において支柱２に支持されたスライド状の被処
理部材受である。
【０００９】上記構成のものにあっては、エアシリンダ
１２を操作して図１に示されるように蓋１８の側が上に
なるよう外筒４を傾動する。エアシリンダ１９を操作し
て蓋１８を開き、投入口１４から電気接点、マイクロリ
レーのプラスチック製キャップ等の多数の被処理部材Ｍ
を内筒２６の中へ投入し、内筒２６における被処理部材
Ｍの占積率が10%、多くても20%に達したら、蓋１８を矢
印方向に回動させて閉じる。なお、被処理部材としては
他にパチンコ玉、各種の粉体および粒状体等極めて多種
類の部材を被処理部材として投入することが出来る。外
筒４を水平状態に戻した後、真空排気口２４に接続され
た回転ポンプ等の排気手段により外筒４の内部を10ー3To
rr程度の圧力に排気する。排気を継続しながら供給口２
３から酸素等の処理ガスを供給し、外筒４内の圧力を4x
10ー2〜2.5Torrに保つ。プラズマ発生端３５と外筒４と
の間に高周波電界を印加してグロー放電によりプラズマ
を発生させ、処理空間Ｔをプラズマ雰囲気で充満する。
他の処理ガスとして、前記処理ガスとＮ2Ｏ、Ｎ2、Ｈ
ｅ、Ａｒ、空気およびＣＯ2との混合ガスを用いること
が出来る。処理空間Ｔにおける出力密度が0.1〜30W/cm3
程度になるように、発生端３５から高周波電流を継続し
て供給する。直流、、交流あるいはマイクロ波電力によ
ってもプラズマ雰囲気を形成することが出来る。直流の
場合には発生端３５は負電極となり、マイクロ波の場合
には発生端３５としてアンテナが用いられる。処理空間
Ｔ内にプラズマ雰囲気が形成された後、ギアドモータ３
２を作動させ内筒２６を回転させる。
１２を操作して図１に示されるように蓋１８の側が上に
なるよう外筒４を傾動する。エアシリンダ１９を操作し
て蓋１８を開き、投入口１４から電気接点、マイクロリ
レーのプラスチック製キャップ等の多数の被処理部材Ｍ
を内筒２６の中へ投入し、内筒２６における被処理部材
Ｍの占積率が10%、多くても20%に達したら、蓋１８を矢
印方向に回動させて閉じる。なお、被処理部材としては
他にパチンコ玉、各種の粉体および粒状体等極めて多種
類の部材を被処理部材として投入することが出来る。外
筒４を水平状態に戻した後、真空排気口２４に接続され
た回転ポンプ等の排気手段により外筒４の内部を10ー3To
rr程度の圧力に排気する。排気を継続しながら供給口２
３から酸素等の処理ガスを供給し、外筒４内の圧力を4x
10ー2〜2.5Torrに保つ。プラズマ発生端３５と外筒４と
の間に高周波電界を印加してグロー放電によりプラズマ
を発生させ、処理空間Ｔをプラズマ雰囲気で充満する。
他の処理ガスとして、前記処理ガスとＮ2Ｏ、Ｎ2、Ｈ
ｅ、Ａｒ、空気およびＣＯ2との混合ガスを用いること
が出来る。処理空間Ｔにおける出力密度が0.1〜30W/cm3
程度になるように、発生端３５から高周波電流を継続し
て供給する。直流、、交流あるいはマイクロ波電力によ
ってもプラズマ雰囲気を形成することが出来る。直流の
場合には発生端３５は負電極となり、マイクロ波の場合
には発生端３５としてアンテナが用いられる。処理空間
Ｔ内にプラズマ雰囲気が形成された後、ギアドモータ３
２を作動させ内筒２６を回転させる。
【００１０】プラズマ雰囲気においては、励起遷移によ
り生じた紫外線放射、酸素イオン、解離あるいは励起状
態の酸素原子および電子が被処理部材Ｍの表面に付着し
ている油脂に当たり、これを水蒸気および二酸化炭素に
分解する。これらの分解生成ガスは排気手段によって外
筒４外に排出される。脱脂されたプラスチック表面はプ
ラズマ雰囲気により酸化され活性化される。なお必要に
応じて覗き窓２５を通して被処理部材Ｍの処理状態を監
視する。
り生じた紫外線放射、酸素イオン、解離あるいは励起状
態の酸素原子および電子が被処理部材Ｍの表面に付着し
ている油脂に当たり、これを水蒸気および二酸化炭素に
分解する。これらの分解生成ガスは排気手段によって外
筒４外に排出される。脱脂されたプラスチック表面はプ
ラズマ雰囲気により酸化され活性化される。なお必要に
応じて覗き窓２５を通して被処理部材Ｍの処理状態を監
視する。
【００１１】内筒２６が回転するにつれて、被処理部材
Ｍは羽根２７ａにより内筒２６の軸を通る水平面近くま
で持ち上げられその後羽根２７ａから落下し、以後上昇
落下を繰り返す。この様に羽根２７ａは被処理部材Ｍに
攪拌作用を及ぼす。この攪拌作用は何れの被処理部材Ｍ
をもまた各被処理部材Ｍの何れの表面をも常に新鮮なプ
ラズマ雰囲気に均一に接触させ、何れの表面も均一に処
理される。
Ｍは羽根２７ａにより内筒２６の軸を通る水平面近くま
で持ち上げられその後羽根２７ａから落下し、以後上昇
落下を繰り返す。この様に羽根２７ａは被処理部材Ｍに
攪拌作用を及ぼす。この攪拌作用は何れの被処理部材Ｍ
をもまた各被処理部材Ｍの何れの表面をも常に新鮮なプ
ラズマ雰囲気に均一に接触させ、何れの表面も均一に処
理される。
【００１２】プラズマ雰囲気が１分程度継続すると被処
理部材Ｍの脱脂および活性化が完了する。この後、高周
波電流を断ってプラズマ雰囲気を消滅させ、処理ガスの
供給および真空排気を停止し、適宜設けられているリー
クバルブを開いて、外筒４の内部を大気圧にする。蓋１
８が下になるように外筒４を傾動し、蓋１８を開いて投
入口１４から処理済みの被処理部材Ｍを被処理部材受３
６に落下させる。
理部材Ｍの脱脂および活性化が完了する。この後、高周
波電流を断ってプラズマ雰囲気を消滅させ、処理ガスの
供給および真空排気を停止し、適宜設けられているリー
クバルブを開いて、外筒４の内部を大気圧にする。蓋１
８が下になるように外筒４を傾動し、蓋１８を開いて投
入口１４から処理済みの被処理部材Ｍを被処理部材受３
６に落下させる。
【００１３】
【発明の効果】以上のように本願発明にあっては、処理
空間Ｔにおいて発生された直後の活性化力の強いプラズ
マ雰囲気によって、被処理部材Ｍの脱脂などの洗浄およ
び／又は表面活性化を効率良く行なうことが出来る効果
がある。
空間Ｔにおいて発生された直後の活性化力の強いプラズ
マ雰囲気によって、被処理部材Ｍの脱脂などの洗浄およ
び／又は表面活性化を効率良く行なうことが出来る効果
がある。
【００１４】またプラズマ雰囲気はその発生端３５近く
で連続的に攪拌される多数の被処理部材Ｍの間に均等に
充満し、各被処理部材Ｍの表面各部が均一に処理される
と共に、多数の被処理部材Ｍにわたって均一なプラズマ
処理が実現するという効果がある。
で連続的に攪拌される多数の被処理部材Ｍの間に均等に
充満し、各被処理部材Ｍの表面各部が均一に処理される
と共に、多数の被処理部材Ｍにわたって均一なプラズマ
処理が実現するという効果がある。
【００１５】さらに本発明の装置は、処理に先立って多
数の被処理部材を整然と配列することを不用にし、省力
化、合理化をもたらす。
数の被処理部材を整然と配列することを不用にし、省力
化、合理化をもたらす。
【図１】プラズマ処理装置の側面図。
【図２】プラズマ処理装置の一部破断の正面図。
【図３】外筒および内筒の縦断面図。
４ 外筒 １４ 被処理部材の投入口 ２３ 処理ガスの供給口 ２４ 真空排気口 ２６ 内筒 ３５ プラズマ発生端 Ｍ 被処理部材 Ｔ 処理空間
Claims (1)
- 【請求項１】 真空排気口、処理ガスの供給口および被
処理部材の投入口を備える外筒を気密に形成し、上記外
筒の内部には処理空間を備える内筒を回動自在に設け、
上記外筒には上記処理空間に位置するプラズマ発生端の
元部を固定し、上記発生端の元部から供給される電力に
より上記処理空間において上記処理ガスのプラズマ雰囲
気を形成すると共に上記内筒を回すことによって上記被
処理部材を攪拌しながら処理することを特徴とする回転
バレル式プラズマ処理装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13266193A JPH06322163A (ja) | 1993-05-10 | 1993-05-10 | 回転バレル式プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13266193A JPH06322163A (ja) | 1993-05-10 | 1993-05-10 | 回転バレル式プラズマ処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06322163A true JPH06322163A (ja) | 1994-11-22 |
Family
ID=15086546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13266193A Pending JPH06322163A (ja) | 1993-05-10 | 1993-05-10 | 回転バレル式プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06322163A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006307255A (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Micro Denshi Kk | マイクロ波を利用した錆落とし等の処理装置 |
-
1993
- 1993-05-10 JP JP13266193A patent/JPH06322163A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006307255A (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Micro Denshi Kk | マイクロ波を利用した錆落とし等の処理装置 |
| JP4702680B2 (ja) * | 2005-04-27 | 2011-06-15 | 株式会社エスイー | マイクロ波を利用した処理装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6990705B2 (ja) | ナノコーティング装置用の遊星回転棚装置 | |
| JPS63204726A (ja) | 真空処理装置 | |
| KR100354723B1 (ko) | 글로브박스 | |
| JPH05251391A (ja) | 半導体ウエハーのプラズマ処理装置 | |
| JP2000316954A (ja) | プラズマ滅菌反応器を排気するための方法 | |
| US4080281A (en) | Apparatus for making metal films | |
| CN102080210B (zh) | 蒸镀装置 | |
| JPH06322163A (ja) | 回転バレル式プラズマ処理装置 | |
| JP2009132966A (ja) | 成膜装置 | |
| JP2001242297A (ja) | 電子線照射方法及び装置 | |
| JPH01234311A (ja) | 合成ダイヤモンド分離装置 | |
| CN115971169B (zh) | 一种滚筒式真空等离子清洗机及其工作方法 | |
| CN211142169U (zh) | 气相沉积炉及气相沉积系统 | |
| JPS5925030B2 (ja) | イオン窒化用装置 | |
| JP3810132B2 (ja) | スパッタリング装置 | |
| CN116065131B (zh) | 一种低色差的气体复合镀膜方法及装置 | |
| WO2004042106A1 (en) | Process for nitriding articles in bulk | |
| JP2003089872A (ja) | スパッタリング装置のマグネトロンユニット及びスパッタリング装置 | |
| JPH01117317A (ja) | プラズマ装置 | |
| JP2002246374A (ja) | プラズマ処理装置とそのメンテナンス方法 | |
| JP3415212B2 (ja) | スパッタ成膜装置 | |
| KR102574304B1 (ko) | 디톡스 플라즈마 세척 장치 | |
| CN114807837A (zh) | 一种表面处理设备 | |
| CN211455640U (zh) | 一种低温旋转型石英等离子表面处理装置 | |
| CN219059099U (zh) | 一种真空镀钛机 |