JPH06321915A - 新規ピラジニウム塩化合物および重合開始剤 - Google Patents
新規ピラジニウム塩化合物および重合開始剤Info
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- JPH06321915A JPH06321915A JP5132894A JP13289493A JPH06321915A JP H06321915 A JPH06321915 A JP H06321915A JP 5132894 A JP5132894 A JP 5132894A JP 13289493 A JP13289493 A JP 13289493A JP H06321915 A JPH06321915 A JP H06321915A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】新規ピラジニウム塩化合物の重合開始剤を提供
する。 【構成】式化１ピラジニウム塩化合物及びその重合開始
剤。 【化１】 〔式中、Ｒ1 は、芳香環で置換されたアルキル基又は芳
香環で置換されていてもよいアルケニル基を表し、
Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 は、各々水素原子、アルキル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ
基、フェニル基又はアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ
2 とＲ3 及びＲ4 ，Ｒ5 はそれぞれ一体となって縮合し
て芳香環を形成しても良く、Ｘは、ＳｂＦ6 ，Ａｓ
Ｆ6 ，ＰＦ6 又はＢＦ4を表す〕 【効果】本発明の重合開始剤は、カチオン重合製化合物
の重合開始剤として有効であり、加熱処理により、極め
て迅速に重合、硬化させることができる。
する。 【構成】式化１ピラジニウム塩化合物及びその重合開始
剤。 【化１】 〔式中、Ｒ1 は、芳香環で置換されたアルキル基又は芳
香環で置換されていてもよいアルケニル基を表し、
Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 は、各々水素原子、アルキル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ
基、フェニル基又はアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ
2 とＲ3 及びＲ4 ，Ｒ5 はそれぞれ一体となって縮合し
て芳香環を形成しても良く、Ｘは、ＳｂＦ6 ，Ａｓ
Ｆ6 ，ＰＦ6 又はＢＦ4を表す〕 【効果】本発明の重合開始剤は、カチオン重合製化合物
の重合開始剤として有効であり、加熱処理により、極め
て迅速に重合、硬化させることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規ピラジニウム塩化
合物及びそれを含有するカチオン重合開始剤にに関する
ものである。該重合開始剤を含有するカチオン重合性組
成物は、加熱により短時間で硬化することができ、得ら
れた硬化物は、優れた物性を有しているため成型樹脂、
注型樹脂、塗料、接着剤、インキ等の材料として好適に
用いられる。
合物及びそれを含有するカチオン重合開始剤にに関する
ものである。該重合開始剤を含有するカチオン重合性組
成物は、加熱により短時間で硬化することができ、得ら
れた硬化物は、優れた物性を有しているため成型樹脂、
注型樹脂、塗料、接着剤、インキ等の材料として好適に
用いられる。
【０００２】
【従来の技術】従来、エポキシ樹脂の硬化剤として、二
液系で広く利用されている活性なアミン含有化合物、カ
ルボン酸無水物やメルカプト化合物がある。一方、エポ
キシ樹脂を一液系として硬化するのには、フッ化ホウ素
−モノエチルアミンがある。また、熱潜在性カチオン重
合開始剤及びその組成物が記載されているものとして、
特開昭５８−３７００３号、特開昭６３−２２３００２
号、特開昭５６−１５２８３３号、特開平２−１７８３
１９号、特開平３−１７１１９号などが知られている。
液系で広く利用されている活性なアミン含有化合物、カ
ルボン酸無水物やメルカプト化合物がある。一方、エポ
キシ樹脂を一液系として硬化するのには、フッ化ホウ素
−モノエチルアミンがある。また、熱潜在性カチオン重
合開始剤及びその組成物が記載されているものとして、
特開昭５８−３７００３号、特開昭６３−２２３００２
号、特開昭５６−１５２８３３号、特開平２−１７８３
１９号、特開平３−１７１１９号などが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】活性なアミン含有化合
物やカルボン酸無水物により、エポキシ樹脂を硬化する
所謂二液系では、完全に各成分を混合する必要があり、
硬化時間も数時間要する。また、反応が室温でも逐次的
に起こるので、ポットライフが数時間から数日と短く、
取り扱い上問題がある。
物やカルボン酸無水物により、エポキシ樹脂を硬化する
所謂二液系では、完全に各成分を混合する必要があり、
硬化時間も数時間要する。また、反応が室温でも逐次的
に起こるので、ポットライフが数時間から数日と短く、
取り扱い上問題がある。
【０００４】一方、エポキシ樹脂を一液系として硬化す
ることができるフッ化ホウ素−モノエチルアミン系で
は、取り扱い上が便利ではあるが、硬化温度が１６０℃
以上と高く、しかも完全硬化するのに１〜８時間要する
という問題がある。また、特開昭５８−３７００３号に
記載されているスルホニウム塩系の熱潜在性カチオン重
合開始剤および、特開開平２−１７８３１９号に記載さ
れているピリジニウム塩系の熱潜在性カチオン重合開始
剤では、一液系とすることができ、硬化時間も短いとい
う特徴を有しているが、硬化温度が高いという問題点が
ある。
ることができるフッ化ホウ素−モノエチルアミン系で
は、取り扱い上が便利ではあるが、硬化温度が１６０℃
以上と高く、しかも完全硬化するのに１〜８時間要する
という問題がある。また、特開昭５８−３７００３号に
記載されているスルホニウム塩系の熱潜在性カチオン重
合開始剤および、特開開平２−１７８３１９号に記載さ
れているピリジニウム塩系の熱潜在性カチオン重合開始
剤では、一液系とすることができ、硬化時間も短いとい
う特徴を有しているが、硬化温度が高いという問題点が
ある。
【０００５】本発明は、前述した事情からみてなされた
もので、カチオン重合性化合物を加熱により、低温かつ
短時間に硬化させることができる新規なカチオン重合開
始剤を提供し、更に該開始剤を含む貯蔵安定性のある一
液型カチオン重合組成物を得ると共に優れた物性を有す
る硬化物を提供することを目的としている。
もので、カチオン重合性化合物を加熱により、低温かつ
短時間に硬化させることができる新規なカチオン重合開
始剤を提供し、更に該開始剤を含む貯蔵安定性のある一
液型カチオン重合組成物を得ると共に優れた物性を有す
る硬化物を提供することを目的としている。
【０００６】
【問題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するため、鋭意検討したところ、特定のピラジニ
ウム塩化合物からなる重合開始剤を用いることで、低温
かつ短時間にてカチオン重合性化合物を硬化することが
でき、更にその硬化物特性に優れた性能を与える新規重
合開始剤を見出して本発明を完成するに至った。即ち、
本発明は、下記一般式化２
を達成するため、鋭意検討したところ、特定のピラジニ
ウム塩化合物からなる重合開始剤を用いることで、低温
かつ短時間にてカチオン重合性化合物を硬化することが
でき、更にその硬化物特性に優れた性能を与える新規重
合開始剤を見出して本発明を完成するに至った。即ち、
本発明は、下記一般式化２
【０００７】
【化２】
【０００８】〔式中、Ｒ1 は、芳香環で置換されたアル
キル基又は芳香環置換されていてもよいアルケニル基を
表し、Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 は、各々水素原子、アル
キル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキ
シ基、置換されていてもよいフェニル基又はアルコキシ
カルボニル基を表し、Ｒ2 とＲ3 又はＲ4 ，Ｒ5 がそれ
ぞれ一体となって縮合して芳香環を形成しても良く、Ｘ
は、ＳｂＦ6 ，ＡｓＦ6，ＰＦ6 又はＢＦ4 を表す〕で
表されるピラジニウム塩化合物及び該化合物を含有する
ことを特徴とするカチオン重合開始剤である。
キル基又は芳香環置換されていてもよいアルケニル基を
表し、Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 は、各々水素原子、アル
キル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキ
シ基、置換されていてもよいフェニル基又はアルコキシ
カルボニル基を表し、Ｒ2 とＲ3 又はＲ4 ，Ｒ5 がそれ
ぞれ一体となって縮合して芳香環を形成しても良く、Ｘ
は、ＳｂＦ6 ，ＡｓＦ6，ＰＦ6 又はＢＦ4 を表す〕で
表されるピラジニウム塩化合物及び該化合物を含有する
ことを特徴とするカチオン重合開始剤である。
【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
ピラジニウム塩化合物は、一般式化３で表されるが、
ピラジニウム塩化合物は、一般式化３で表されるが、
【００１０】
【化３】
【００１１】かかる式において、Ｒ1 は、置換されてい
てもよいベンゼン環、置換されていても良いナフタレン
環、置換されていても良いアントラセン環等の芳香環が
置換したアルキル基又は置換されていてもよいベンゼン
環、置換されていても良いナフタレン環、置換されてい
ても良いアントラセン環等の芳香環で置換されていても
よいアルケニル基の群より選ばれた基であり、例えば、
ベンゼン環がハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、ビ
ニル基等で置換されていてもよいベンジル基、ベンゼン
環がハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコ
キシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、ビニル基等で
置換されていてもよいフェネチル基、ナフタレン環がハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカ
ルボニル基、ニトロ基、シアノ基、ビニル基等で置換さ
れていてもよいα−ナフチルメチル基、ナフタレン環が
ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシ
カルボニル基、ニトロ基、シアノ基、ビニル基等で置換
されていてもよいβ−ナフチルメチル基、ベンゼン環が
ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシ
カルボニル基、ニトロ基、シアノ基、ビニル基等で置換
されていてもよいα−メチルベンジル基、ベンゼン環が
ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシ
カルボニル基、ニトロ基、シアノ基、ビニル基等で置換
されていてもよいベンツヒドリル基、ベンゼン環がハロ
ゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコシカルボ
ニル基、ニトロ基、シアノ基、ビニル基等で置換されて
いてもよいシンナミル基、アントラセン環がハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル
基、ニトロ基、シアノ基、ビニル基等で置換されていて
もよいアントラセニル基、３位がアルキル基、アルコキ
シカルボニル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等で置換
されていてもよいクロチル基等を例示することができ
る。
てもよいベンゼン環、置換されていても良いナフタレン
環、置換されていても良いアントラセン環等の芳香環が
置換したアルキル基又は置換されていてもよいベンゼン
環、置換されていても良いナフタレン環、置換されてい
ても良いアントラセン環等の芳香環で置換されていても
よいアルケニル基の群より選ばれた基であり、例えば、
ベンゼン環がハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、ビ
ニル基等で置換されていてもよいベンジル基、ベンゼン
環がハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコ
キシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、ビニル基等で
置換されていてもよいフェネチル基、ナフタレン環がハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカ
ルボニル基、ニトロ基、シアノ基、ビニル基等で置換さ
れていてもよいα−ナフチルメチル基、ナフタレン環が
ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシ
カルボニル基、ニトロ基、シアノ基、ビニル基等で置換
されていてもよいβ−ナフチルメチル基、ベンゼン環が
ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシ
カルボニル基、ニトロ基、シアノ基、ビニル基等で置換
されていてもよいα−メチルベンジル基、ベンゼン環が
ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシ
カルボニル基、ニトロ基、シアノ基、ビニル基等で置換
されていてもよいベンツヒドリル基、ベンゼン環がハロ
ゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコシカルボ
ニル基、ニトロ基、シアノ基、ビニル基等で置換されて
いてもよいシンナミル基、アントラセン環がハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル
基、ニトロ基、シアノ基、ビニル基等で置換されていて
もよいアントラセニル基、３位がアルキル基、アルコキ
シカルボニル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等で置換
されていてもよいクロチル基等を例示することができ
る。
【００１２】Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 は、各々水素原
子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基又はＦ，Ｃ
ｌ，Ｂｒ，Ｉ等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、
メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等のアルコ
キシ基、置換されていても良いフェニル基またはメトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシ
カルボニル基の群より選ばれた基である。
子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、ｔ−ブチル基等のアルキル基又はＦ，Ｃ
ｌ，Ｂｒ，Ｉ等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、
メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等のアルコ
キシ基、置換されていても良いフェニル基またはメトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシ
カルボニル基の群より選ばれた基である。
【００１３】また、Ｒ2 とＲ3 又はＲ4 とＲ5 はそれぞ
れ一体となって縮合して芳香環を形成しても良く、例え
ば、ハロゲン原子、アルキル基、ニトロ基、シアノ基、
ビニル基等で置換されていてもよいキノキサリン環等を
形成することができる。
れ一体となって縮合して芳香環を形成しても良く、例え
ば、ハロゲン原子、アルキル基、ニトロ基、シアノ基、
ビニル基等で置換されていてもよいキノキサリン環等を
形成することができる。
【００１４】Ｘは、ＳｂＦ6 、ＡｓＦ6 、ＰＦ6 又はＢ
Ｆ4 であり、この内、ＳｂＦ6 が好んで用いられる。
Ｆ4 であり、この内、ＳｂＦ6 が好んで用いられる。
【００１５】本発明のピラジニウム塩化合物は、例え
ば、次の方法で得ることができる。α−フェネチルブロ
マイド、ベンズヒドリルブロマイド等のα置換ベンジル
ハライド、シンナミルブロマイド、クロチルブロマイ
ド、１−ブロモ−３−メチル−２−ブテン等の１−ハロ
−３−置換−２−ブテン又は１−ブロモメチルナフタレ
ン、１−ブロモメチルナフタレン等のハロメチルナフタ
レンとピラジン誘導体又はキノキサリン誘導体等とを等
モルづつ、必要に応じてメタノール、アセトン、アセト
ニトリル等の溶媒存在下にて室温〜８０℃で数時間〜３
０日間反応させ、次いで、得られた固形物を水若しくは
水−メタノール系等の水−有機溶媒系に溶解せしめ、六
フッ化アンチモン酸ナトリウム等を加え激しく攪拌し、
析出した液状又は固形物の生成物を分離後、乾燥して得
られる。
ば、次の方法で得ることができる。α−フェネチルブロ
マイド、ベンズヒドリルブロマイド等のα置換ベンジル
ハライド、シンナミルブロマイド、クロチルブロマイ
ド、１−ブロモ−３−メチル−２−ブテン等の１−ハロ
−３−置換−２−ブテン又は１−ブロモメチルナフタレ
ン、１−ブロモメチルナフタレン等のハロメチルナフタ
レンとピラジン誘導体又はキノキサリン誘導体等とを等
モルづつ、必要に応じてメタノール、アセトン、アセト
ニトリル等の溶媒存在下にて室温〜８０℃で数時間〜３
０日間反応させ、次いで、得られた固形物を水若しくは
水−メタノール系等の水−有機溶媒系に溶解せしめ、六
フッ化アンチモン酸ナトリウム等を加え激しく攪拌し、
析出した液状又は固形物の生成物を分離後、乾燥して得
られる。
【００１６】本発明の代表的なピラジニウム塩化合物と
して、次の化４〜化６に示すものを例示することが出来
る。但し、式中のＸはＳｂＦ6 、ＡｓＦ6 、ＰＦ6 又は
ＢＦ4 を示す。
して、次の化４〜化６に示すものを例示することが出来
る。但し、式中のＸはＳｂＦ6 、ＡｓＦ6 、ＰＦ6 又は
ＢＦ4 を示す。
【００１７】
【化４】
【００１８】
【化５】
【００１９】
【化６】
【００２０】本発明において、重合開始剤である前記ピ
ラジニウム塩化合物は、カチオン重合性化合物と配合し
てカチオン重合組成物として用いられる。カチオン重合
性化合物としては、次のような化合物が挙げられる。 （ａ）エポキシ基を有する化合物として、１，１，３−
テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイ
ド、４−ビニルシクロヘキセンジオキサイド、（３，４
−エポキシシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシ
シクロヘキシルカルボキシレート、ジ（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）アジペート、フェニルグリシジルエ
ーテル、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ハロゲン化
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ｏ−，ｍ−，ｐ−ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂、多価アルコールのポリグリシジル
エーテル等のエポキシ化合物
ラジニウム塩化合物は、カチオン重合性化合物と配合し
てカチオン重合組成物として用いられる。カチオン重合
性化合物としては、次のような化合物が挙げられる。 （ａ）エポキシ基を有する化合物として、１，１，３−
テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイ
ド、４−ビニルシクロヘキセンジオキサイド、（３，４
−エポキシシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシ
シクロヘキシルカルボキシレート、ジ（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）アジペート、フェニルグリシジルエ
ーテル、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ハロゲン化
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ｏ−，ｍ−，ｐ−ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂、多価アルコールのポリグリシジル
エーテル等のエポキシ化合物
【００２１】（ｂ）ビニル化合物として、スチレン、α
−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン等のスチ
レン類；ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニル
エーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシ
ブチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類；
アリルビニルエーテル、１−オクタヒドロナフチルビニ
ルエーテル等のアルケニルビニルエーテル類；エチニル
ビニルエーテル、１−メチル−２−プロペニルビニルエ
ーテル等のアルキニルビニルエーテル類；フェニルビニ
ルエーテル、ｐ−メトキシフェニルビニルエーテル等の
アリールビニルエーテル類；ブタンジオールジビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールビニルエーテル、シク
ロヘキサンジオールジビニルエーテル等のアルキルジビ
ニルエーテル類；１，４−ベンゼンジメタノールジビニ
ルエーテル、Ｎ−ｍ−クロロフェニルジエタノールアミ
ンジビニルエーテル、ｍ−フェニレンビス（エチレング
リコール）ジビニルエーテル等のアラルキルジビニルエ
ーテル類；ハイドロキノンジビニルエーテル、レゾルシ
ノールジビニルエーテル等のアリールジビニルエーテル
類；Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドン等
のカチオン重合性窒素含有化合物等
−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン等のスチ
レン類；ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニル
エーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシ
ブチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類；
アリルビニルエーテル、１−オクタヒドロナフチルビニ
ルエーテル等のアルケニルビニルエーテル類；エチニル
ビニルエーテル、１−メチル−２−プロペニルビニルエ
ーテル等のアルキニルビニルエーテル類；フェニルビニ
ルエーテル、ｐ−メトキシフェニルビニルエーテル等の
アリールビニルエーテル類；ブタンジオールジビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールビニルエーテル、シク
ロヘキサンジオールジビニルエーテル等のアルキルジビ
ニルエーテル類；１，４−ベンゼンジメタノールジビニ
ルエーテル、Ｎ−ｍ−クロロフェニルジエタノールアミ
ンジビニルエーテル、ｍ−フェニレンビス（エチレング
リコール）ジビニルエーテル等のアラルキルジビニルエ
ーテル類；ハイドロキノンジビニルエーテル、レゾルシ
ノールジビニルエーテル等のアリールジビニルエーテル
類；Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドン等
のカチオン重合性窒素含有化合物等
【００２２】（ｃ）ビシクロオルソエステル化合物とし
て、１−フェニル−４−エチル−２，６，７−トリオキ
サビシクロ〔２，２，２〕オクタン，１−エチル−４−
ヒドロキシメチル−２，６，７−トリオキサビシクロ
〔２，２，２〕オクタン等
て、１−フェニル−４−エチル−２，６，７−トリオキ
サビシクロ〔２，２，２〕オクタン，１−エチル−４−
ヒドロキシメチル−２，６，７−トリオキサビシクロ
〔２，２，２〕オクタン等
【００２３】（ｄ）スピロオルソカーボネート化合物と
して、１，５，７，１１−テトラオキサスピロ〔５，
５〕ウンデカン、３，９−ジベンジル−１，５，７，１
１−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン等や１，
４，６−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン，２−メチ
ル−１，４，６−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン，
１，４，６−トリオキサスピロ〔４，５〕デカン等のス
ピロオルソエステル化合物等である。
して、１，５，７，１１−テトラオキサスピロ〔５，
５〕ウンデカン、３，９−ジベンジル−１，５，７，１
１−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン等や１，
４，６−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン，２−メチ
ル−１，４，６−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン，
１，４，６−トリオキサスピロ〔４，５〕デカン等のス
ピロオルソエステル化合物等である。
【００２４】これらは、単独若しくは２種以上を併用し
て用いても差し支えないが、上記（ａ）〜（ｄ）の内
で、殊に（ａ）のエポキシ基を有する化合物が好んで使
用される。
て用いても差し支えないが、上記（ａ）〜（ｄ）の内
で、殊に（ａ）のエポキシ基を有する化合物が好んで使
用される。
【００２５】本発明において、前記ピラジニウム塩化合
物とカチオン重合性化合物との配合割合は、カチオン重
合性化合物１００部に対し、ピラジニウム塩化合物０．
０１1 〜２０部、好ましくは０．１〜１０部の割合で配
合する。このピラジニウム塩化合物量が少いと、カチオ
ン重合性化合物の硬化性が低下し、過剰であると硬化物
の特性が低下する。
物とカチオン重合性化合物との配合割合は、カチオン重
合性化合物１００部に対し、ピラジニウム塩化合物０．
０１1 〜２０部、好ましくは０．１〜１０部の割合で配
合する。このピラジニウム塩化合物量が少いと、カチオ
ン重合性化合物の硬化性が低下し、過剰であると硬化物
の特性が低下する。
【００２６】本発明のピラジニウム塩化合物を含有する
カチオン重合組成物は、加熱により容易に硬化できる。
熱硬化する場合は、３０〜２００℃、好ましくは、５０
〜１８０℃の範囲で使用される。
カチオン重合組成物は、加熱により容易に硬化できる。
熱硬化する場合は、３０〜２００℃、好ましくは、５０
〜１８０℃の範囲で使用される。
【００２７】本発明のピラジニウム塩化合物を含有する
カチオン重合組成物は、α線、β線、γ線、中性子線、
Ｘ線、加速電子線のような電離性放射線によっても容易
に短時間で硬化することができる。電離性放射線による
硬化の場合は、通常０．５〜６０Ｍｒａｄの線量の範囲
が使用でき、１〜５０Ｍｒａｄの範囲が好ましい。な
お、電離性放射線および熱を併用して硬化させることも
可能である。
カチオン重合組成物は、α線、β線、γ線、中性子線、
Ｘ線、加速電子線のような電離性放射線によっても容易
に短時間で硬化することができる。電離性放射線による
硬化の場合は、通常０．５〜６０Ｍｒａｄの線量の範囲
が使用でき、１〜５０Ｍｒａｄの範囲が好ましい。な
お、電離性放射線および熱を併用して硬化させることも
可能である。
【００２８】本発明のピラジニウム塩化合物は、一般に
単独で使用されるが、他のカチオン重合開始剤と併用し
て用いることもできる。また、前記（ａ）のエポキシ基
を有する化合物を用いる場合は、エポキシ樹脂の硬化剤
として通常用いられている、フェノール系硬化剤、酸無
水物類硬化剤等の硬化剤を性能が損なわない範囲内で併
用して用いてもよい。
単独で使用されるが、他のカチオン重合開始剤と併用し
て用いることもできる。また、前記（ａ）のエポキシ基
を有する化合物を用いる場合は、エポキシ樹脂の硬化剤
として通常用いられている、フェノール系硬化剤、酸無
水物類硬化剤等の硬化剤を性能が損なわない範囲内で併
用して用いてもよい。
【００２９】前記のカチオン重合性化合物に本発明の開
始剤を配合して使用する際に、必要に応じて反応性希釈
剤、硬化促進剤、溶剤、顔料、染料、カップリング剤、
無機充填剤、炭素繊維ガラス繊維、界面活性剤等を添加
して使用される。
始剤を配合して使用する際に、必要に応じて反応性希釈
剤、硬化促進剤、溶剤、顔料、染料、カップリング剤、
無機充填剤、炭素繊維ガラス繊維、界面活性剤等を添加
して使用される。
【００３０】
【実施例】以下、本発明を実施例、比較例により、更に
具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に
何等限定されるものではない。
具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に
何等限定されるものではない。
【００３１】（実施例１）Ｎ−ベンジルピラジニウムヘ
キサフロロアンチモネートの合成 ベンジルブロマイド１０．２６ｇとピラジン４．００ｇ
を混合し、室温で１０日間反応させた。得られた固形物
をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥し、前駆体のＮ
−ベンジルピラジニウムブロマイドを得た。 収率：９
４％ Ｎ−ベンジルピラジニウムブロマイド２．５１ｇを蒸留
水１５ｇに溶解させ、六フッ化アンチモン酸ナトリウム
３．１０ｇを加え、よく攪拌して冷却した。析出した化
合物を濾別し、４０℃で減圧乾燥させた。 収率：９２
％
キサフロロアンチモネートの合成 ベンジルブロマイド１０．２６ｇとピラジン４．００ｇ
を混合し、室温で１０日間反応させた。得られた固形物
をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥し、前駆体のＮ
−ベンジルピラジニウムブロマイドを得た。 収率：９
４％ Ｎ−ベンジルピラジニウムブロマイド２．５１ｇを蒸留
水１５ｇに溶解させ、六フッ化アンチモン酸ナトリウム
３．１０ｇを加え、よく攪拌して冷却した。析出した化
合物を濾別し、４０℃で減圧乾燥させた。 収率：９２
％
【００３２】得られたＮ−ベンジルピラジニウムヘキサ
フロロアンチモネートのＩＲスペクトルデータは以下の
とおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９４，１４４５，１１５
４，８０４，７５５，７０５，６５５
フロロアンチモネートのＩＲスペクトルデータは以下の
とおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９４，１４４５，１１５
４，８０４，７５５，７０５，６５５
【００３３】（実施例２）Ｎ−ベンジル−２，５−ジメ
チルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 ベンジルブロマイド１０．２６ｇと２，５−ジメチルピ
ラジン５．４１ｇを混合し、５０℃で３日間反応させ
た。得られた固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧
乾燥し、前駆体のＮ−ベンジル−２，５−ジメチルピラ
ジニウムブロマイドを得た。 収率：９９％ Ｎ−ベンジル−２，５−ジメチルピラジニウムブロマイ
ド２．７９ｇを蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ化アン
チモン酸ナトリウム３．１０ｇを加え、よく攪拌して冷
却した。析出した化合物を濾別し、４０℃で減圧乾燥さ
せた。 収率：９９％
チルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 ベンジルブロマイド１０．２６ｇと２，５−ジメチルピ
ラジン５．４１ｇを混合し、５０℃で３日間反応させ
た。得られた固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧
乾燥し、前駆体のＮ−ベンジル−２，５−ジメチルピラ
ジニウムブロマイドを得た。 収率：９９％ Ｎ−ベンジル−２，５−ジメチルピラジニウムブロマイ
ド２．７９ｇを蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ化アン
チモン酸ナトリウム３．１０ｇを加え、よく攪拌して冷
却した。析出した化合物を濾別し、４０℃で減圧乾燥さ
せた。 収率：９９％
【００３４】得られたＮ−ベンジル−２，５−ジメチル
ピラジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩＲスペク
トルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９８，１４５８，１３９
０，１１６５，１１１３７５８，７０６，６６０
ピラジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩＲスペク
トルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９８，１４５８，１３９
０，１１６５，１１１３７５８，７０６，６６０
【００３５】（実施例３）Ｎ−ベンジル−３−メトキシ
カルボニルピラジニウムヘキサフロロアンチンチモネー
トの合成 ベンジルブロマイド１０．２６ｇと２−ピラジンカルボ
ン酸メチル６．９１ｇを混合し、５０℃で３日間反応さ
せた。得られた固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減
圧乾燥し、前駆体のＮ−ベンジル−３−メトキシカルボ
ニルピラジニウムブロマイドを得た。 収率：９７％ Ｎ−ベンジル−３−メトキシカルボニルピラジニウムブ
ロマイド３．０９ｇを蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ
化アンチモン酸ナトリウム３．１０ｇを加え、よく攪拌
して冷却した。析出した化合物を濾別し、４０℃で減圧
乾燥させた。収率：９９％
カルボニルピラジニウムヘキサフロロアンチンチモネー
トの合成 ベンジルブロマイド１０．２６ｇと２−ピラジンカルボ
ン酸メチル６．９１ｇを混合し、５０℃で３日間反応さ
せた。得られた固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減
圧乾燥し、前駆体のＮ−ベンジル−３−メトキシカルボ
ニルピラジニウムブロマイドを得た。 収率：９７％ Ｎ−ベンジル−３−メトキシカルボニルピラジニウムブ
ロマイド３．０９ｇを蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ
化アンチモン酸ナトリウム３．１０ｇを加え、よく攪拌
して冷却した。析出した化合物を濾別し、４０℃で減圧
乾燥させた。収率：９９％
【００３６】得られたＮ−ベンジル−３−メトキシカル
ボニルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートＩＲの
スペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１７５０，１４６０，１４３
８，１３２７，１２０７，１１６９，７７２，７５５，
７２６，６９９，６５７
ボニルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートＩＲの
スペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１７５０，１４６０，１４３
８，１３２７，１２０７，１１６９，７７２，７５５，
７２６，６９９，６５７
【００３７】（実施例４）Ｎ−ベンジル−２，３−ジメ
チルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 ベンジルブロマイド５．１３ｇと２，５−ジメチルピラ
ジン３．４１ｇを混合し、５０℃で１０日間反応させ
た。得られた固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧
乾燥し、前駆体のＮ−ベンジル−２，３−ジメチルピラ
ジニウムブロマイドを得た。 収率：９３％ Ｎ−ベンジル−２，３−ジメチルピラジニウムブロマイ
ド２．７９ｇを蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ化アン
チモン酸ナトリウム３．１０ｇを加え、よく攪拌して冷
却した。析出した化合物を濾別し、４０℃で減圧乾燥さ
せた。 収率：９２％
チルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 ベンジルブロマイド５．１３ｇと２，５−ジメチルピラ
ジン３．４１ｇを混合し、５０℃で１０日間反応させ
た。得られた固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧
乾燥し、前駆体のＮ−ベンジル−２，３−ジメチルピラ
ジニウムブロマイドを得た。 収率：９３％ Ｎ−ベンジル−２，３−ジメチルピラジニウムブロマイ
ド２．７９ｇを蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ化アン
チモン酸ナトリウム３．１０ｇを加え、よく攪拌して冷
却した。析出した化合物を濾別し、４０℃で減圧乾燥さ
せた。 収率：９２％
【００３８】得られたＮ−ベンジル−２，３−ジメチル
ピラジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩＲスペク
トルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９９，１４５８，１４２
９，１３８７，１１６３，７４５，７０６，６６０
ピラジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩＲスペク
トルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９９，１４５８，１４２
９，１３８７，１１６３，７４５，７０６，６６０
【００３９】（実施例５）Ｎ−（４−ニトロベンジル）
ピラジニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 ４−ニトロベンジルブロマイド１０．８０ｇとピラジン
３．２０ｇをアセトニトリル５ｇに溶解させ、５０℃で
２７日間反応させた。得られた固形物をエーテルで洗浄
し、４０℃で減圧乾燥し、前駆体のＮ−（４−ニトロベ
ンジル）ピラジニウムブロマイドを得た。 収率：９４
％ Ｎ−（４−ニトロベンジル）ピラジニウムブロマイド
２．９６ｇを蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ化アンチ
モン酸ナトリウム３．１０ｇを加え、よく攪拌して冷却
した。析出した化合物を濾別し、４０℃で減圧乾燥させ
た。 収率：８７％
ピラジニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 ４−ニトロベンジルブロマイド１０．８０ｇとピラジン
３．２０ｇをアセトニトリル５ｇに溶解させ、５０℃で
２７日間反応させた。得られた固形物をエーテルで洗浄
し、４０℃で減圧乾燥し、前駆体のＮ−（４−ニトロベ
ンジル）ピラジニウムブロマイドを得た。 収率：９４
％ Ｎ−（４−ニトロベンジル）ピラジニウムブロマイド
２．９６ｇを蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ化アンチ
モン酸ナトリウム３．１０ｇを加え、よく攪拌して冷却
した。析出した化合物を濾別し、４０℃で減圧乾燥させ
た。 収率：８７％
【００４０】得られたＮ−（４−ニトロベンジル）ピラ
ジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩＲスペクトル
データは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５２６，１４４１，１３５
１，１１６８，１１４５８７９，８１１，７４５，７０
３，６６０
ジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩＲスペクトル
データは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５２６，１４４１，１３５
１，１１６８，１１４５８７９，８１１，７４５，７０
３，６６０
【００４１】（実施例６）Ｎ−ビニルベンジルピラジニ
ウムヘキサフロロアンチモネートの合成 クロロメチルスチレン４．５８ｇとピラジン１．６０ｇ
を混合し、５０℃で７日間反応させた。得られた固形物
をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥し、前駆体のＮ
−ビニルベンジルピラジニウムクロライドを得た。 収
率：９３％ Ｎ−ビニルベンジルピラジニウムクロライド２．３３ｇ
を蒸留水１０ｇとメチルエチルケトン（以下、ＭＥＫと
言う）５ｇの混合溶液に溶解させ、六フッ化アンチモン
酸ナトリウム３．１０ｇを加え、よく攪拌した。この溶
液に蒸留水４０ｇを加え、よく攪拌して冷却した。析出
した化合物を濾別し、４０℃で減圧乾燥させた。 収
率：８７％
ウムヘキサフロロアンチモネートの合成 クロロメチルスチレン４．５８ｇとピラジン１．６０ｇ
を混合し、５０℃で７日間反応させた。得られた固形物
をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥し、前駆体のＮ
−ビニルベンジルピラジニウムクロライドを得た。 収
率：９３％ Ｎ−ビニルベンジルピラジニウムクロライド２．３３ｇ
を蒸留水１０ｇとメチルエチルケトン（以下、ＭＥＫと
言う）５ｇの混合溶液に溶解させ、六フッ化アンチモン
酸ナトリウム３．１０ｇを加え、よく攪拌した。この溶
液に蒸留水４０ｇを加え、よく攪拌して冷却した。析出
した化合物を濾別し、４０℃で減圧乾燥させた。 収
率：８７％
【００４２】得られたＮ−ビニルベンジルピラジニウム
ヘキサフロロアンチモネートのＩＲスペクトルデータは
以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９２，１４４６，９２
２，８０５，７０５，６６２
ヘキサフロロアンチモネートのＩＲスペクトルデータは
以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９２，１４４６，９２
２，８０５，７０５，６６２
【００４３】（実施例７）Ｎ−（２−メチルベンジル）
ピラジニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 ２−メチルベンジルブロマイド５．５５ｇとピラジン
１．６０ｇを混合し、室温で３日間反応させた。得られ
た固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥し、前
駆体のＮ−（２−メチルベンジル）ピラジニウムブロマ
イドを得た。収率：９８％ Ｎ−（２−メチルベンジル）ピラジニウムブロマイド
２．６５ｇを蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ化アンチ
モン酸ナトリウム3.10ｇを加え、よく攪拌して冷却し
た。析出した化合物を濾別し、４０℃で減圧乾燥させ
た。 収率：９３％
ピラジニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 ２−メチルベンジルブロマイド５．５５ｇとピラジン
１．６０ｇを混合し、室温で３日間反応させた。得られ
た固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥し、前
駆体のＮ−（２−メチルベンジル）ピラジニウムブロマ
イドを得た。収率：９８％ Ｎ−（２−メチルベンジル）ピラジニウムブロマイド
２．６５ｇを蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ化アンチ
モン酸ナトリウム3.10ｇを加え、よく攪拌して冷却し
た。析出した化合物を濾別し、４０℃で減圧乾燥させ
た。 収率：９３％
【００４４】得られたＮ−（２−メチルベンジル）ピラ
ジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩＲスペクトル
データは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９５，１４６２，１４４
０，１３８６，１１４６，８３２，７４９，６６０
ジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩＲスペクトル
データは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９５，１４６２，１４４
０，１３８６，１１４６，８３２，７４９，６６０
【００４５】（実施例８）Ｎ−ベンズヒドリルピラジニ
ウムヘキサフロロアンチモネートの合成 ベンズヒドリルブロマイド１２．３６ｇとピラジン３．
２０ｇを混合し、室温で２０日間反応させた。得られた
固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥し、前駆
体のＮ−ベンズヒドリルピラジニウムブロマイドを得
た。 収率：９９％ Ｎ−ベンズヒドリルピラジニウムブロマイド３．２３ｇ
を蒸留水１５ｇとメタノール１ｇの混合溶媒に溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸ナリウム３．１０ｇを加え、
よく攪拌した。この溶液に蒸留水３０ｇを加え、よく攪
拌して冷却した。析出した固形物をエーテルで洗浄し、
４０℃で減圧乾燥した。 収率：８１％
ウムヘキサフロロアンチモネートの合成 ベンズヒドリルブロマイド１２．３６ｇとピラジン３．
２０ｇを混合し、室温で２０日間反応させた。得られた
固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥し、前駆
体のＮ−ベンズヒドリルピラジニウムブロマイドを得
た。 収率：９９％ Ｎ−ベンズヒドリルピラジニウムブロマイド３．２３ｇ
を蒸留水１５ｇとメタノール１ｇの混合溶媒に溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸ナリウム３．１０ｇを加え、
よく攪拌した。この溶液に蒸留水３０ｇを加え、よく攪
拌して冷却した。析出した固形物をエーテルで洗浄し、
４０℃で減圧乾燥した。 収率：８１％
【００４６】得られたＮ−ベンズヒドリルピラジニウム
ヘキサフロロアンチモネートのＩＲスペクトルデータは
以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９６，１４４６，１１８
７，１１５１，７５７，６９９，６５７
ヘキサフロロアンチモネートのＩＲスペクトルデータは
以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９６，１４４６，１１８
７，１１５１，７５７，６９９，６５７
【００４７】（実施例９）Ｎ−ベンズヒドリル−２，５
−ジメチルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートの
合成 ベンズヒドリルブロマイド７．１４ｇと２，５−ジメチ
ルピラジン２．１６ｇを混合し、５０℃で２日間反応さ
せた。得られた固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減
圧乾燥し、前駆体のＮ−ベンズヒドリル−２，５−ジメ
チルピラジニウムブロマイドを得た。 収率：９９％ Ｎ−ベンズヒドリル−２，５−ジメチルピラジニウムブ
ロマイド３．１５ｇを蒸留水５ｇとＭＥＫ５ｇの混合溶
媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸ナトリウム３．１
０ｇを加え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水４５ｇを
加え、よく攪拌して冷却した。二層分離した上澄み液を
除去後、残留物を４０℃で減圧乾燥させた。 収率：６
５％
−ジメチルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートの
合成 ベンズヒドリルブロマイド７．１４ｇと２，５−ジメチ
ルピラジン２．１６ｇを混合し、５０℃で２日間反応さ
せた。得られた固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減
圧乾燥し、前駆体のＮ−ベンズヒドリル−２，５−ジメ
チルピラジニウムブロマイドを得た。 収率：９９％ Ｎ−ベンズヒドリル−２，５−ジメチルピラジニウムブ
ロマイド３．１５ｇを蒸留水５ｇとＭＥＫ５ｇの混合溶
媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸ナトリウム３．１
０ｇを加え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水４５ｇを
加え、よく攪拌して冷却した。二層分離した上澄み液を
除去後、残留物を４０℃で減圧乾燥させた。 収率：６
５％
【００４８】得られたＮ−ベンズヒドリル−２，５−ジ
メチルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩＲ
スペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９４，１４４７，１３８
８，１１６２，７５５，７４１，７０３，６６０
メチルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩＲ
スペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９４，１４４７，１３８
８，１１６２，７５５，７４１，７０３，６６０
【００４９】（実施例１０）Ｎ−シンナミルピラジニウ
ムヘキサフロロアンチモネートの合成 シンナミルブロマイド５．９１ｇとピラジン１．６０ｇ
を混合し、５０℃で５時間反応させた。得られた固形物
をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥し、前駆体のＮ
−シンナミルピラジニウムブロマイドを得た。 収率：
９９％ Ｎ−シンナミルピラジニウムブロマイド２．７７ｇを蒸
留水１０ｇとＭＥＫ４ｇの混合溶媒に溶解させ、六フッ
化アンチモン酸ナリウム３．１０ｇを加え、よく攪拌し
た。この溶液に蒸留水４０ｇを加え、よく攪拌して冷却
した。二層分離した上澄み液を除去後、残留物を４０℃
で減圧乾燥した。 収率：８３％
ムヘキサフロロアンチモネートの合成 シンナミルブロマイド５．９１ｇとピラジン１．６０ｇ
を混合し、５０℃で５時間反応させた。得られた固形物
をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥し、前駆体のＮ
−シンナミルピラジニウムブロマイドを得た。 収率：
９９％ Ｎ−シンナミルピラジニウムブロマイド２．７７ｇを蒸
留水１０ｇとＭＥＫ４ｇの混合溶媒に溶解させ、六フッ
化アンチモン酸ナリウム３．１０ｇを加え、よく攪拌し
た。この溶液に蒸留水４０ｇを加え、よく攪拌して冷却
した。二層分離した上澄み液を除去後、残留物を４０℃
で減圧乾燥した。 収率：８３％
【００５０】得られた本発明のＮ−シンナミルピラジニ
ウムヘキサフロロアンチモネートのもののスペクトルデ
ータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９５，１４５３，１１７
４，９７４，７５６，７０３，６６３
ウムヘキサフロロアンチモネートのもののスペクトルデ
ータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９５，１４５３，１１７
４，９７４，７５６，７０３，６６３
【００５１】（実施例１１）Ｎ−シンナミル−３−メト
キシカルボニルピラジニウムヘキサフロロアンチモネー
トの合成 シンナミルブロマイド５．９１ｇと２−ピラジンカルボ
ン酸メチル２．７６ｇをメタノール６ｇに溶解させ、室
温で５日間反応させた。得られた固形物をエーテルで洗
浄し、４０℃で減圧乾燥し、前駆体のＮ−シンナミル−
３−メトキシカルボニルピラジニウムブロマイドを得
た。 収率：４６％ Ｎ−シンナミル−３−メトキシカルボニルピラジニウム
ブロマイド１．６８ｇを蒸留水１５ｇとＭＥＫ５ｇの混
合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸ナトリウム
１．５５ｇを加えてよく攪拌した。この溶液に蒸留水４
０ｇを加えてよく攪拌して冷却した。析出した化合物を
濾別し、４０℃で減圧乾燥させた。 収率：９３％
キシカルボニルピラジニウムヘキサフロロアンチモネー
トの合成 シンナミルブロマイド５．９１ｇと２−ピラジンカルボ
ン酸メチル２．７６ｇをメタノール６ｇに溶解させ、室
温で５日間反応させた。得られた固形物をエーテルで洗
浄し、４０℃で減圧乾燥し、前駆体のＮ−シンナミル−
３−メトキシカルボニルピラジニウムブロマイドを得
た。 収率：４６％ Ｎ−シンナミル−３−メトキシカルボニルピラジニウム
ブロマイド１．６８ｇを蒸留水１５ｇとＭＥＫ５ｇの混
合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸ナトリウム
１．５５ｇを加えてよく攪拌した。この溶液に蒸留水４
０ｇを加えてよく攪拌して冷却した。析出した化合物を
濾別し、４０℃で減圧乾燥させた。 収率：９３％
【００５２】得られたＮ−シンナミル−３−メトキシカ
ルボニルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩ
Ｒのスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１７４０，１６１４，１４４
６，１３８８，１３４５，１２７９，９６３，９１１，
７６５，６９３，６６３
ルボニルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩ
Ｒのスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１７４０，１６１４，１４４
６，１３８８，１３４５，１２７９，９６３，９１１，
７６５，６９３，６６３
【００５３】（実施例１２）Ｎ−シンナミル−２，５−
ジメチルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートの合
成 シンナミルブロマイド５．９１ｇと２，５−ジメチルピ
ラジン２．１６ｇを混合し、室温で１８時間反応させ
た。得られた固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧
乾燥し、前駆体のＮ−シンナミル−２，５−ジメチルピ
ラジニウムブロマイドを得た。 収率：９８％ Ｎ−シンナミル−２，５−ジメチルピラジニウムブロマ
イド３．０５ｇを蒸留水１０ｇとＭＥＫ３ｇの混合溶媒
に溶解させ、六フッ化アンチモン酸ナトリウム３．１０
ｇを加え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水４０ｇを加
え、よく攪拌して冷却した。二層分離した上澄み液を除
去後、残留物を４０℃で減圧乾燥させた。 収率：８６
％
ジメチルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートの合
成 シンナミルブロマイド５．９１ｇと２，５−ジメチルピ
ラジン２．１６ｇを混合し、室温で１８時間反応させ
た。得られた固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧
乾燥し、前駆体のＮ−シンナミル−２，５−ジメチルピ
ラジニウムブロマイドを得た。 収率：９８％ Ｎ−シンナミル−２，５−ジメチルピラジニウムブロマ
イド３．０５ｇを蒸留水１０ｇとＭＥＫ３ｇの混合溶媒
に溶解させ、六フッ化アンチモン酸ナトリウム３．１０
ｇを加え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水４０ｇを加
え、よく攪拌して冷却した。二層分離した上澄み液を除
去後、残留物を４０℃で減圧乾燥させた。 収率：８６
％
【００５４】得られたＮ−シンナミル−２，５−ジメチ
ルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩＲのス
ペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９６，１４５２，１３８
７，１１８４，１１５６，９７８，７５５，７００，６
６１
ルピラジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩＲのス
ペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９６，１４５２，１３８
７，１１８４，１１５６，９７８，７５５，７００，６
６１
【００５５】（実施例１３）Ｎ−（１−ナフチルメチ
ル）ピラジニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 １−クロロメチルナフタレン５．３０ｇとピラジン１．
６０ｇを混合し、５０℃で３日間反応させた。得られた
固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥し、前駆
体のＮ−（１−ナフチルメチル）ピラジニウムクロライ
ドを得た。収率：７３％ Ｎ−（１−ナフチルメチル）ピラジニウムクロライド
２．５７ｇを蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ化アンチ
モン酸ナリウム3.10ｇを加え、よく攪拌して冷却した。
析出した固形物を４０℃で減圧乾燥した。 収率：９２
％
ル）ピラジニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 １−クロロメチルナフタレン５．３０ｇとピラジン１．
６０ｇを混合し、５０℃で３日間反応させた。得られた
固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥し、前駆
体のＮ−（１−ナフチルメチル）ピラジニウムクロライ
ドを得た。収率：７３％ Ｎ−（１−ナフチルメチル）ピラジニウムクロライド
２．５７ｇを蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ化アンチ
モン酸ナリウム3.10ｇを加え、よく攪拌して冷却した。
析出した固形物を４０℃で減圧乾燥した。 収率：９２
％
【００５６】得られたＮ−（１−ナフチルメチル）ピラ
ジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩＲスペクトル
データは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５１５，１４４１，１１７
９，１１４３，７９５，７７６，６５８
ジニウムヘキサフロロアンチモネートのＩＲスペクトル
データは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５１５，１４４１，１１７
９，１１４３，７９５，７７６，６５８
【００５７】（実施例１４）Ｎ−（１−ナフチルメチ
ル）−２，５−ジメチルピラジニウムヘキサフロロアン
チモネートの合成 クロロメチルナフタレン５．３０ｇと２，５−ジメチル
ピラジン２．１６ｇを混合し、５０℃で８日間反応させ
た。得られた固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧
乾燥し、前駆体のＮ−（１−ナフチルメチル）−２，５
−ジメチルピラジニウムクロライドを得た。 収率：５
２％ Ｎ−（１−ナフチルメチル）−２，５−ジメチルピラジ
ニウムクロライド２．８５ｇを蒸留水１５ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸ナリウム３．１０ｇを加え、
よく攪拌して冷却した。析出した固形物を４０℃で減圧
乾燥した。 収率：９９％
ル）−２，５−ジメチルピラジニウムヘキサフロロアン
チモネートの合成 クロロメチルナフタレン５．３０ｇと２，５−ジメチル
ピラジン２．１６ｇを混合し、５０℃で８日間反応させ
た。得られた固形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧
乾燥し、前駆体のＮ−（１−ナフチルメチル）−２，５
−ジメチルピラジニウムクロライドを得た。 収率：５
２％ Ｎ−（１−ナフチルメチル）−２，５−ジメチルピラジ
ニウムクロライド２．８５ｇを蒸留水１５ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸ナリウム３．１０ｇを加え、
よく攪拌して冷却した。析出した固形物を４０℃で減圧
乾燥した。 収率：９９％
【００５８】得られた本発明のＮ−（１−ナフチルメチ
ル）− 2,5−ジメチルピラジニウムヘキサフロロアンチ
モネートのＩＲスペクトルデータは以下のとおりであっ
た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５１４，１４６９，１３８
９，１１６１，８００，７８０，６６０
ル）− 2,5−ジメチルピラジニウムヘキサフロロアンチ
モネートのＩＲスペクトルデータは以下のとおりであっ
た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５１４，１４６９，１３８
９，１１６１，８００，７８０，６６０
【００５９】（実施例１５）Ｎ−ベンジルキノキサリニ
ウムヘキサフロロアンチモネートの合成 ベンジルブロマイド１０．２６ｇとキノキサリン６．５
１ｇを混合し、５０℃で３日間反応させた。得られた固
形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥し、前駆体
のＮ−ベンジルキキノキサリニウムブロマイドを得た。
収率：７８％ Ｎ−ベンジルキノキサリニウムブロマイド３．１０ｇを
蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ化アンチモン酸ナトリ
ウム３．１０ｇを加え、よく攪拌して冷却した。析出し
た化合物を濾別し、４０℃で減圧乾燥させた。 収率：
９９％
ウムヘキサフロロアンチモネートの合成 ベンジルブロマイド１０．２６ｇとキノキサリン６．５
１ｇを混合し、５０℃で３日間反応させた。得られた固
形物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥し、前駆体
のＮ−ベンジルキキノキサリニウムブロマイドを得た。
収率：７８％ Ｎ−ベンジルキノキサリニウムブロマイド３．１０ｇを
蒸留水１５ｇに溶解させ、六フッ化アンチモン酸ナトリ
ウム３．１０ｇを加え、よく攪拌して冷却した。析出し
た化合物を濾別し、４０℃で減圧乾燥させた。 収率：
９９％
【００６０】得られたＮ−ベンジルキノキサリニウムヘ
キサフロロアンチモネートのＩＲスペクトルデータは以
下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５１５，１４４５，１３５
９，１２２４，１１６３，１０７４，１０１６，７６
７，７２６，７０１，６６３
キサフロロアンチモネートのＩＲスペクトルデータは以
下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５１５，１４４５，１３５
９，１２２４，１１６３，１０７４，１０１６，７６
７，７２６，７０１，６６３
【００６１】＜硬化性テスト＞実施例１から１５で合成
した化合物をプロピレンカーボネートに溶解させ、ＥＲ
Ｌ−４２２１（ＵＣＣ社製脂環型エポキシ）に純分とし
て２．５部になるようにエポキシ樹脂に添加し、配合物
を調整した。この配合物についてＤＳＣ測定を行い、発
熱のピークのトップ温度を求めた。なお、ＤＳＣの測定
条件は下記の通りであり、その測定結果を表１に示し
た。 ＤＳＣ測定機器 ： ＤＳＣ２２０Ｃ（セイコー電子工
業社製） 雰 囲 気 ： 窒素ガス気流中 ３０ｍｌ／分 昇温温度 ： １０℃／分 サンプル量 ： ０．３〜０．８ｍｇ
した化合物をプロピレンカーボネートに溶解させ、ＥＲ
Ｌ−４２２１（ＵＣＣ社製脂環型エポキシ）に純分とし
て２．５部になるようにエポキシ樹脂に添加し、配合物
を調整した。この配合物についてＤＳＣ測定を行い、発
熱のピークのトップ温度を求めた。なお、ＤＳＣの測定
条件は下記の通りであり、その測定結果を表１に示し
た。 ＤＳＣ測定機器 ： ＤＳＣ２２０Ｃ（セイコー電子工
業社製） 雰 囲 気 ： 窒素ガス気流中 ３０ｍｌ／分 昇温温度 ： １０℃／分 サンプル量 ： ０．３〜０．８ｍｇ
【００６２】
【表１】
【００６３】（比較例１）比較試料１として、ベンジル
−４−シアノピリジニウムヘキサフロロアンチモネート
を開始剤に用い、実施例と同様にＤＳＣ測定を行った。
−４−シアノピリジニウムヘキサフロロアンチモネート
を開始剤に用い、実施例と同様にＤＳＣ測定を行った。
【００６４】（比較例２）比較試料２として、Ｎ−（α
−フェネチル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロ
キシエチル）アンモニウムヘキサフロロアンチモネート
を開始剤に用い、実施例と同様にしてＥＲＬ−４２２１
（ＵＣＣ社製脂環型エポキシ）に添加して配合物を調整
し、ＤＳＣ測定を行い、発熱のピークのトップ温度を求
めた。これらの測定結果を纏めて前記の表１に示した。
−フェネチル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロ
キシエチル）アンモニウムヘキサフロロアンチモネート
を開始剤に用い、実施例と同様にしてＥＲＬ−４２２１
（ＵＣＣ社製脂環型エポキシ）に添加して配合物を調整
し、ＤＳＣ測定を行い、発熱のピークのトップ温度を求
めた。これらの測定結果を纏めて前記の表１に示した。
【００６５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の新規ピラ
ジニウム塩化合物剤は、カチオン重合性化合物の重合開
始剤として有効であり、表１に示すように、加熱処理に
より、極めて迅速かつ低温で重合、硬化させることがで
きる。
ジニウム塩化合物剤は、カチオン重合性化合物の重合開
始剤として有効であり、表１に示すように、加熱処理に
より、極めて迅速かつ低温で重合、硬化させることがで
きる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｇ 59/68 ＮＫＱ 64/00 ＮＰＵ Ｃ０８Ｋ 5/3462 ＫＢＪ 5/3465 ＫＢＪ
Claims (2)
- 【請求項１】下記の一般式化１で表されるピラジニウム
塩化合物 【化１】 〔式中、Ｒ1 は、芳香環で置換されたアルキル基又は芳
香環で置換されていてもよいアルケニル基を表し、
Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 は、各々水素原子、アルキル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ
基、置換されていてもよいフェニル基又はアルコキシカ
ルボニル基を表し、Ｒ2 とＲ3 又はＲ4 ，Ｒ5 がそれぞ
れ一体となって縮合して芳香環を形成してもよく、Ｘ
は、ＳｂＦ6 ，ＡｓＦ6 ，ＰＦ6 又はＢＦ4 を表す〕 - 【請求項２】請求項１記載のピラジニウム塩化合物の少
なくとも一種を含有することを特徴とするカチオン重合
開始剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13289493A JP3285053B2 (ja) | 1993-05-11 | 1993-05-11 | 新規ピラジニウム塩化合物および重合開始剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13289493A JP3285053B2 (ja) | 1993-05-11 | 1993-05-11 | 新規ピラジニウム塩化合物および重合開始剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06321915A true JPH06321915A (ja) | 1994-11-22 |
| JP3285053B2 JP3285053B2 (ja) | 2002-05-27 |
Family
ID=15092042
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13289493A Expired - Fee Related JP3285053B2 (ja) | 1993-05-11 | 1993-05-11 | 新規ピラジニウム塩化合物および重合開始剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3285053B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6034200A (en) * | 1997-03-17 | 2000-03-07 | Korea Research Institute Of Chemical Tech. | Heat-curable epoxy resin composition |
| US6121405A (en) * | 1996-10-30 | 2000-09-19 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Method for preparing a high-heat-resistant-epoxy-resin composition comprising pyrazinium salt containing a benzyl group |
| US6133383A (en) * | 1996-10-29 | 2000-10-17 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Method for preparing a high heat resistant epoxy resin composition comprising quinoxalinium salt containing benzyl group |
| US6376638B1 (en) | 1998-10-28 | 2002-04-23 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Latent curing agent for epoxy resin initiated by heat and UV-light and epoxy resin composition containing the same and cured epoxy products |
| KR100334848B1 (ko) * | 1999-07-03 | 2002-05-04 | 김충섭 | 저 함량으로 높은 부피 팽창 반응을 수반하는 잠재성 촉매형경화제를 함유하는 에폭시 수지 경화계 |
| US6977274B2 (en) | 1999-01-30 | 2005-12-20 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Epoxy resin curing system containing latent catalytic curing agent causing the expansion of volume |
| KR101097045B1 (ko) * | 2005-05-31 | 2011-12-22 | 동우 화인켐 주식회사 | 디스플레이 칼라필터 보호용 경화성 수지 조성물 |
| KR101292385B1 (ko) * | 2006-09-01 | 2013-08-01 | 동우 화인켐 주식회사 | 경화성 수지 조성물 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57209931A (en) * | 1981-06-04 | 1982-12-23 | Ciba Geigy Ag | Photopolymerizable mixture and photopolymerization |
| JPS57209930A (en) * | 1981-06-02 | 1982-12-23 | Ciba Geigy Ag | Heat polymerizable composition and heat polymerization of cationic polymerizable compound |
-
1993
- 1993-05-11 JP JP13289493A patent/JP3285053B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57209930A (en) * | 1981-06-02 | 1982-12-23 | Ciba Geigy Ag | Heat polymerizable composition and heat polymerization of cationic polymerizable compound |
| JPS57209931A (en) * | 1981-06-04 | 1982-12-23 | Ciba Geigy Ag | Photopolymerizable mixture and photopolymerization |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6133383A (en) * | 1996-10-29 | 2000-10-17 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Method for preparing a high heat resistant epoxy resin composition comprising quinoxalinium salt containing benzyl group |
| US6121405A (en) * | 1996-10-30 | 2000-09-19 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Method for preparing a high-heat-resistant-epoxy-resin composition comprising pyrazinium salt containing a benzyl group |
| US6034200A (en) * | 1997-03-17 | 2000-03-07 | Korea Research Institute Of Chemical Tech. | Heat-curable epoxy resin composition |
| US6376638B1 (en) | 1998-10-28 | 2002-04-23 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Latent curing agent for epoxy resin initiated by heat and UV-light and epoxy resin composition containing the same and cured epoxy products |
| US6977274B2 (en) | 1999-01-30 | 2005-12-20 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Epoxy resin curing system containing latent catalytic curing agent causing the expansion of volume |
| KR100334848B1 (ko) * | 1999-07-03 | 2002-05-04 | 김충섭 | 저 함량으로 높은 부피 팽창 반응을 수반하는 잠재성 촉매형경화제를 함유하는 에폭시 수지 경화계 |
| KR101097045B1 (ko) * | 2005-05-31 | 2011-12-22 | 동우 화인켐 주식회사 | 디스플레이 칼라필터 보호용 경화성 수지 조성물 |
| KR101292385B1 (ko) * | 2006-09-01 | 2013-08-01 | 동우 화인켐 주식회사 | 경화성 수지 조성물 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3285053B2 (ja) | 2002-05-27 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |