JPH0725863A - 新規オニウム塩化合物および重合開始剤 - Google Patents
新規オニウム塩化合物および重合開始剤Info
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- JPH0725863A JPH0725863A JP5197029A JP19702993A JPH0725863A JP H0725863 A JPH0725863 A JP H0725863A JP 5197029 A JP5197029 A JP 5197029A JP 19702993 A JP19702993 A JP 19702993A JP H0725863 A JPH0725863 A JP H0725863A
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- Polymerization Catalysts (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】新規オニウム塩化合物の重合開始剤を提供す
る。 【構成】一般式化１に示されるのオニウム塩化合物及び
その重合開始剤。 【化１】 〔式中、Ｒ1 は、水素原子、アルキル基、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、フェニル基又
はアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ2 は、アルキル基
又はフェニル基を表し、Ｒ3 は、硫黄原子のα位の炭素
原子にハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ
基、フェニル基、ビニル基又はアルコキシカルボニル基
等が置換されているアルキル基又は置換されていてもよ
いフェニル基を表し、Ｙは、酸素原子又は硫黄原子を表
し、Ｘは、有機又は無機のアニオン残基を表す〕 【効果】カチオン重合性化合物およびラジカル重合性化
合物の両者を容易に光硬化することができる重合開始剤
である。
る。 【構成】一般式化１に示されるのオニウム塩化合物及び
その重合開始剤。 【化１】 〔式中、Ｒ1 は、水素原子、アルキル基、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、フェニル基又
はアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ2 は、アルキル基
又はフェニル基を表し、Ｒ3 は、硫黄原子のα位の炭素
原子にハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ
基、フェニル基、ビニル基又はアルコキシカルボニル基
等が置換されているアルキル基又は置換されていてもよ
いフェニル基を表し、Ｙは、酸素原子又は硫黄原子を表
し、Ｘは、有機又は無機のアニオン残基を表す〕 【効果】カチオン重合性化合物およびラジカル重合性化
合物の両者を容易に光硬化することができる重合開始剤
である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規オニウム塩化合物
およびそれを含有する重合開始剤に関するものである。
該重合開始剤を含有する組成物は、加熱又は光により短
時間でカチオン重合性化合物を硬化することができ、ま
た、光により短時間でラジカル重合性化合物を硬化する
ことができる。得られた硬化物は、優れた物性を有して
いるため成型樹脂、注型樹脂、塗料、接着剤、インキ等
の材料として好適に用いられる。更に、該重合開始剤を
含有する組成物は、光により酸を発生することができる
ため、化学増感用フォトレジストとして使用することが
できる。
およびそれを含有する重合開始剤に関するものである。
該重合開始剤を含有する組成物は、加熱又は光により短
時間でカチオン重合性化合物を硬化することができ、ま
た、光により短時間でラジカル重合性化合物を硬化する
ことができる。得られた硬化物は、優れた物性を有して
いるため成型樹脂、注型樹脂、塗料、接着剤、インキ等
の材料として好適に用いられる。更に、該重合開始剤を
含有する組成物は、光により酸を発生することができる
ため、化学増感用フォトレジストとして使用することが
できる。
【０００２】
【従来の技術】熱潜在性カチオン重合開始剤及びその組
成物が記載されているものとして、特開昭５８−３７０
０３号、特開昭６３−２２３００２号、特開昭５６−１
５２８３３号、特開平２−１７８３１９号、特開平３−
１７１１９号などが知られている。光カチオン重合開始
剤及びその組成物が記載されているものとして、特開昭
５０−１５１９９７号、特開昭５２−１４２７９号、特
開昭５７−２０９９３１号などが知られている。また、
光ラジカル重合開始剤は、ベンジルジメチルケタールや
ベンゾフェノン等を代表として、数多くのものが市販さ
れている。さらに、化学増感用フォトレジスト用の光酸
発生剤としては、スルホン酸エステル等が使用されてい
る。
成物が記載されているものとして、特開昭５８−３７０
０３号、特開昭６３−２２３００２号、特開昭５６−１
５２８３３号、特開平２−１７８３１９号、特開平３−
１７１１９号などが知られている。光カチオン重合開始
剤及びその組成物が記載されているものとして、特開昭
５０−１５１９９７号、特開昭５２−１４２７９号、特
開昭５７−２０９９３１号などが知られている。また、
光ラジカル重合開始剤は、ベンジルジメチルケタールや
ベンゾフェノン等を代表として、数多くのものが市販さ
れている。さらに、化学増感用フォトレジスト用の光酸
発生剤としては、スルホン酸エステル等が使用されてい
る。
【０００３】カチオン重合を利用した硬化系は、一般に
硬化収縮が小さく、酸素による硬化阻害を受けない等の
利点を有するが、塩基性化合物等により、硬化阻害を受
けることや、使用可能なモノマーや開始剤の種類が少な
い等の欠点がある。
硬化収縮が小さく、酸素による硬化阻害を受けない等の
利点を有するが、塩基性化合物等により、硬化阻害を受
けることや、使用可能なモノマーや開始剤の種類が少な
い等の欠点がある。
【０００４】一方、ラジカル重合を利用した硬化系は、
塩基性化合物等により、硬化阻害を受けないことや使用
可能なモノマーや開始剤の種類が多く、その組み合わせ
にほとんど制限がない等の利点を有するが、硬化収縮が
大きく、酸素による硬化阻害を受ける等の欠点がある。
塩基性化合物等により、硬化阻害を受けないことや使用
可能なモノマーや開始剤の種類が多く、その組み合わせ
にほとんど制限がない等の利点を有するが、硬化収縮が
大きく、酸素による硬化阻害を受ける等の欠点がある。
【０００５】従って、これらの欠点を各々補うために、
カチオン重合とラジカル重合系のハイブリッドが行われ
る。しかし、カチオン重合用の開始剤ではラジカル重合
には使用できず、ラジカル重合用の開始剤ではカチオン
重合には使用できない。このことから、ハイブリッドで
は、両者の開始剤を同時に使用しなければならず、開始
剤の総量が増えることによるコストアップや硬化物の物
性の低下を招くことになる。
カチオン重合とラジカル重合系のハイブリッドが行われ
る。しかし、カチオン重合用の開始剤ではラジカル重合
には使用できず、ラジカル重合用の開始剤ではカチオン
重合には使用できない。このことから、ハイブリッドで
は、両者の開始剤を同時に使用しなければならず、開始
剤の総量が増えることによるコストアップや硬化物の物
性の低下を招くことになる。
【０００６】また、特開昭５８−３７００３号に記載さ
れているスルホニウム塩系の熱潜在性カチオン重合開始
剤、及び特開開平２−１７８３１９号に記載されている
ピリジニウム塩系の熱潜在性カチオン重合開始剤では、
カチオン重合性化合物を加熱処理により、膜厚に関係無
く硬化することは可能であるが、光硬化に見られるよう
なスピーディーな硬化は期待できない。
れているスルホニウム塩系の熱潜在性カチオン重合開始
剤、及び特開開平２−１７８３１９号に記載されている
ピリジニウム塩系の熱潜在性カチオン重合開始剤では、
カチオン重合性化合物を加熱処理により、膜厚に関係無
く硬化することは可能であるが、光硬化に見られるよう
なスピーディーな硬化は期待できない。
【０００７】一方、特開昭５０−１５１９９７号、特開
昭５２−１４２７９号などに記載されている光カチオン
重合開始剤を用いたエポキシ樹脂配合物などは、光照射
により、スピーディーな硬化が可能である。しかし、こ
れらの光カチオン重合開始剤は、熱潜在性カチオン重合
開始剤ではないため、通常使用される加熱処理により、
カチオン重合性化合物を熱硬化することはできない。こ
のため、光が照射されない所や膜厚が厚い場合などは、
硬化することができない。従って、光硬化および熱硬化
の利点を生かすためには、光硬化および熱硬化用の開始
剤を同時に使用しなくてはならず、開始剤の総量が増え
ることによるコストアップや硬化物の物性の低下を招く
ことになる。一方、化学増感用フォトレジスト用の光酸
発生剤として使用されるスルホン酸エステル等は、量子
収率が低いものや価格が高いものなどが多いという問題
点がある。
昭５２−１４２７９号などに記載されている光カチオン
重合開始剤を用いたエポキシ樹脂配合物などは、光照射
により、スピーディーな硬化が可能である。しかし、こ
れらの光カチオン重合開始剤は、熱潜在性カチオン重合
開始剤ではないため、通常使用される加熱処理により、
カチオン重合性化合物を熱硬化することはできない。こ
のため、光が照射されない所や膜厚が厚い場合などは、
硬化することができない。従って、光硬化および熱硬化
の利点を生かすためには、光硬化および熱硬化用の開始
剤を同時に使用しなくてはならず、開始剤の総量が増え
ることによるコストアップや硬化物の物性の低下を招く
ことになる。一方、化学増感用フォトレジスト用の光酸
発生剤として使用されるスルホン酸エステル等は、量子
収率が低いものや価格が高いものなどが多いという問題
点がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前に述べた
事情からみてなされたもので、カチオン重合性化合物及
びラジカル重合性化合物を加熱又は光により、短時間に
硬化させることができる新規なカチオン重合開始剤の提
供および量子収率が高く、安価な化学増感用の光酸発生
剤を提供することを目的としている。
事情からみてなされたもので、カチオン重合性化合物及
びラジカル重合性化合物を加熱又は光により、短時間に
硬化させることができる新規なカチオン重合開始剤の提
供および量子収率が高く、安価な化学増感用の光酸発生
剤を提供することを目的としている。
【０００９】
【問題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するため、鋭意検討したところ、特定のオニウム
塩化合物からなる重合開始剤を用いることで、低温加熱
または光により、短時間にてカチオン重合性化合物を硬
化することができ、更にその硬化物特性に優れた性能を
与える新規重合開始剤を見出して本発明を完成するに至
った。即ち、本発明は、下記一般式化２で表されるオニ
ウム塩化合物、及び該化合物の少なくとも一種を含有す
ることを特徴とする重合開始剤である。
を達成するため、鋭意検討したところ、特定のオニウム
塩化合物からなる重合開始剤を用いることで、低温加熱
または光により、短時間にてカチオン重合性化合物を硬
化することができ、更にその硬化物特性に優れた性能を
与える新規重合開始剤を見出して本発明を完成するに至
った。即ち、本発明は、下記一般式化２で表されるオニ
ウム塩化合物、及び該化合物の少なくとも一種を含有す
ることを特徴とする重合開始剤である。
【００１０】
【化２】
【００１１】〔式中、Ｒ1 は、水素原子、アルキル基、
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、置
換されていてもよいフェニル基又はアルコキシカルボニ
ル基を表し、Ｒ2 は、アルキル基又は置換されていても
よいフェニル基を表し、Ｒ3 は、硫黄原子のα位の炭素
原子にハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ
基、フェニル基、ビニル基及びアルコキシカルボニル基
からなる群から選ばれた一種を有するアルキル基又は置
換されていてもよいフェニル基を表し、Ｙは、酸素原子
又は硫黄原子を表し、Ｘは、有機又は無機のアニオン残
基を表す〕
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、置
換されていてもよいフェニル基又はアルコキシカルボニ
ル基を表し、Ｒ2 は、アルキル基又は置換されていても
よいフェニル基を表し、Ｒ3 は、硫黄原子のα位の炭素
原子にハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ
基、フェニル基、ビニル基及びアルコキシカルボニル基
からなる群から選ばれた一種を有するアルキル基又は置
換されていてもよいフェニル基を表し、Ｙは、酸素原子
又は硫黄原子を表し、Ｘは、有機又は無機のアニオン残
基を表す〕
【００１２】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
オニウム塩化合物は、上記の一般式化２で表されるが、
かかる式において、Ｒ1 は、水素原子、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ−ブ
チル基等のアルキル基又はＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等のハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メトキシ基，エトキシ
基等のアルコキシ基、フェニル基またはメトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシアルボニ
ル基の群より選ばれた基であり、Ｒ2 は、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル等の炭素数１から１８のアルキル
基またはアルキル基、ハロゲン原子等で置換されていて
もよいフェニル基の群より選ばれた基であり、Ｒ3 は、
硫黄原子のα位の炭素原子にＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等のハ
ロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メトキシ基，エトキ
シ基等のアルコキシ基、フェニル基又はメトキシカルボ
ニル基、エトシカルボニル基等のアルコキシカルボニル
基、フェノキシカルボニル基、アセチル基、ベンゾイル
基等で置換されているアルキル基、又は、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル等のアルキル基、Ｆ，Ｃｌ，Ｂ
ｒ，Ｉ等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メトキ
シ基，エトキシ基等のアルコキシ基、フェニル基または
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等のアルコキ
シカルボニル基で置換されていえてもよいフェニル基の
群より選ばれた基であり、Ｙは、酸素原子または硫黄原
子の群より選ばれた基である。Ｘは、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，
Ｉ等のハロゲン原子、Ｒ4 ＣＯＯ、Ｒ5 ＳＯ3 、ＳｂＦ
6 ，ＡｓＦ6 ，ＰＦ6 又はＢＦ4 等である。但し、Ｒ4
およびＲ5 は、メチル、エチル、プロピル、ブチル等の
アルキル基、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等のハロゲン原子、ニ
トロ基、シアノ基、メトキシ基，エトキシ基等のアルコ
キシ基等で置換されていもよいアルキル基もしくはフェ
ニル基を表す。
オニウム塩化合物は、上記の一般式化２で表されるが、
かかる式において、Ｒ1 は、水素原子、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ−ブ
チル基等のアルキル基又はＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等のハロ
ゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メトキシ基，エトキシ
基等のアルコキシ基、フェニル基またはメトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシアルボニ
ル基の群より選ばれた基であり、Ｒ2 は、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル等の炭素数１から１８のアルキル
基またはアルキル基、ハロゲン原子等で置換されていて
もよいフェニル基の群より選ばれた基であり、Ｒ3 は、
硫黄原子のα位の炭素原子にＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等のハ
ロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メトキシ基，エトキ
シ基等のアルコキシ基、フェニル基又はメトキシカルボ
ニル基、エトシカルボニル基等のアルコキシカルボニル
基、フェノキシカルボニル基、アセチル基、ベンゾイル
基等で置換されているアルキル基、又は、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル等のアルキル基、Ｆ，Ｃｌ，Ｂ
ｒ，Ｉ等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メトキ
シ基，エトキシ基等のアルコキシ基、フェニル基または
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等のアルコキ
シカルボニル基で置換されていえてもよいフェニル基の
群より選ばれた基であり、Ｙは、酸素原子または硫黄原
子の群より選ばれた基である。Ｘは、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，
Ｉ等のハロゲン原子、Ｒ4 ＣＯＯ、Ｒ5 ＳＯ3 、ＳｂＦ
6 ，ＡｓＦ6 ，ＰＦ6 又はＢＦ4 等である。但し、Ｒ4
およびＲ5 は、メチル、エチル、プロピル、ブチル等の
アルキル基、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等のハロゲン原子、ニ
トロ基、シアノ基、メトキシ基，エトキシ基等のアルコ
キシ基等で置換されていもよいアルキル基もしくはフェ
ニル基を表す。
【００１３】本発明のオニウム塩化合物は、例えば、次
の方法で得ることができる。ジメチル硫酸等のジアルキ
ル硫酸又はｐ−トルエンスルホン酸メチル等のスルホン
酸アルキルエステル化合物と２−エトキシカルボニルメ
チルチオベンゾチアゾール、２−ベンジルチオベンゾオ
キサゾール等の２−置換チオヘテロ化合物とを等モルづ
つ、必要に応じてメタノール、ジオキサン、アセトニト
リル等の不活性溶媒存在下にて室温〜１２０℃で数時間
〜６０日間反応させて得られる。また、必要応じてこれ
ら得られた化合物を水もしくは水−メタノール系等の水
−有機溶媒系に溶解せしめ、六フッ化アンチモン酸ナト
リウム、スルホン酸ナトリウム誘導体やカルボン酸ナト
リウム誘導体等のアルカリ金属塩を加え激しく攪拌し、
析出した液状、固形物または溶解している生成物を濾
過、分離または抽出後、乾燥して得られる。
の方法で得ることができる。ジメチル硫酸等のジアルキ
ル硫酸又はｐ−トルエンスルホン酸メチル等のスルホン
酸アルキルエステル化合物と２−エトキシカルボニルメ
チルチオベンゾチアゾール、２−ベンジルチオベンゾオ
キサゾール等の２−置換チオヘテロ化合物とを等モルづ
つ、必要に応じてメタノール、ジオキサン、アセトニト
リル等の不活性溶媒存在下にて室温〜１２０℃で数時間
〜６０日間反応させて得られる。また、必要応じてこれ
ら得られた化合物を水もしくは水−メタノール系等の水
−有機溶媒系に溶解せしめ、六フッ化アンチモン酸ナト
リウム、スルホン酸ナトリウム誘導体やカルボン酸ナト
リウム誘導体等のアルカリ金属塩を加え激しく攪拌し、
析出した液状、固形物または溶解している生成物を濾
過、分離または抽出後、乾燥して得られる。
【００１４】本発明において、重合開始剤である前記四
級アンモニウム塩化合物は、次式化３、化４に示される
ものが例示される。但し、式中のＸは、Ｆ、Ｂｒ、Ｉ等
のハロゲン原子、Ｒ4 ＣＯＯ、Ｒ5 ＳＯ3 、ＳｂＦ6 、
ＰＦ6 又はＢＦ4 等を表し、Ｒ4 、Ｒ5 は、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル等のアルキル基、Ｆ、Ｃｌ、Ｂ
ｒ、Ｉ等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メトキ
シ基，エトキシ基等のアルコキシ基等で置換されていも
よいアルキル基もしくはフェニル基を表す。
級アンモニウム塩化合物は、次式化３、化４に示される
ものが例示される。但し、式中のＸは、Ｆ、Ｂｒ、Ｉ等
のハロゲン原子、Ｒ4 ＣＯＯ、Ｒ5 ＳＯ3 、ＳｂＦ6 、
ＰＦ6 又はＢＦ4 等を表し、Ｒ4 、Ｒ5 は、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル等のアルキル基、Ｆ、Ｃｌ、Ｂ
ｒ、Ｉ等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メトキ
シ基，エトキシ基等のアルコキシ基等で置換されていも
よいアルキル基もしくはフェニル基を表す。
【００１５】
【化３】
【００１６】
【化４】
【００１７】
【化５】
【００１８】
【化６】
【００１９】カチオン重合性化合物と配合してカチオン
重合組成物として用いられる。カチオン重合性化合物と
しては、次のような化合物が挙げられる。 （ａ）エポキシ基を有する化合物として、１，１，３−
テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイ
ド、４−ビニルシクロヘキセンジオキサイド、（３，４
−エポキシシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシ
シクロヘキシルカルボキシレート、ジ（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）アジペート、フェニルグリシジルエ
ーテル、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ハロゲン化
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ｏ−，ｍ−，ｐ−ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラ
ック型エポシキ樹脂、多価アルコールのポリグリシジル
エーテル等のエポキシ化合物
重合組成物として用いられる。カチオン重合性化合物と
しては、次のような化合物が挙げられる。 （ａ）エポキシ基を有する化合物として、１，１，３−
テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイ
ド、４−ビニルシクロヘキセンジオキサイド、（３，４
−エポキシシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシ
シクロヘキシルカルボキシレート、ジ（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）アジペート、フェニルグリシジルエ
ーテル、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ハロゲン化
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ｏ−，ｍ−，ｐ−ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラ
ック型エポシキ樹脂、多価アルコールのポリグリシジル
エーテル等のエポキシ化合物
【００２０】（ｂ）ビニル化合物として、スチレン、α
−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン等のスチ
レン類；ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニル
エーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシ
ブチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類；
アリルビニルエーテル、１−オクタヒドロナフチルビニ
ルエーテル等のアルケニルビニルエーテル類；エチニル
ビニルエーテル、１−メチル−２−プロペニルビニルエ
ーテル等のアルキニルビニルエーテル類；フェニルビニ
ルエーテル、ｐ−メトキシフェニルビニルエーテル等の
アリールビニルエーテル類；ブタンジオールジビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールビニルエーテル、シク
ロヘキサンジオールジビニルエーテル等のアルキルジビ
ニルエーテル類；１，４−ベンゼンジメタノールジビニ
ルエーテル、Ｎ−ｍ−クロロフェニルジエタノールアミ
ンジビニルエーテル、ｍ−フェニレンビス（エチレング
リコール）ジビニルエーテル等のアラルキルジビニルエ
ーテル類；ハイドロキノンジビニルエーテル、レゾルシ
ノールジビニルエーテル等のアリールジビニルエーテル
類；Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドン等
のカチオン重合性窒素含有化合物等
−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン等のスチ
レン類；ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニル
エーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシ
ブチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類；
アリルビニルエーテル、１−オクタヒドロナフチルビニ
ルエーテル等のアルケニルビニルエーテル類；エチニル
ビニルエーテル、１−メチル−２−プロペニルビニルエ
ーテル等のアルキニルビニルエーテル類；フェニルビニ
ルエーテル、ｐ−メトキシフェニルビニルエーテル等の
アリールビニルエーテル類；ブタンジオールジビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールビニルエーテル、シク
ロヘキサンジオールジビニルエーテル等のアルキルジビ
ニルエーテル類；１，４−ベンゼンジメタノールジビニ
ルエーテル、Ｎ−ｍ−クロロフェニルジエタノールアミ
ンジビニルエーテル、ｍ−フェニレンビス（エチレング
リコール）ジビニルエーテル等のアラルキルジビニルエ
ーテル類；ハイドロキノンジビニルエーテル、レゾルシ
ノールジビニルエーテル等のアリールジビニルエーテル
類；Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドン等
のカチオン重合性窒素含有化合物等
【００２１】（ｃ）ビシクロオルソエステル化合物とし
て、１−フェニル−４−エチル−２，６，７−トリオキ
サビシクロ〔２，２，２〕オクタン，１−エチル−４−
ヒドロキシメチル−２，６，７−トリオキサビシクロ
〔２，２，２〕オクタン等
て、１−フェニル−４−エチル−２，６，７−トリオキ
サビシクロ〔２，２，２〕オクタン，１−エチル−４−
ヒドロキシメチル−２，６，７−トリオキサビシクロ
〔２，２，２〕オクタン等
【００２２】（ｄ）スピロオルソカーボネート化合物と
して、１，５，７，１１−テトラオキサスピロ〔５，
５〕ウンデカン、３，９−ジベンジル−１，５，７，１
１−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン等や１，
４，６−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン，２−メチ
ル−１，４，６−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン，
１，４，６−トリオキサスピロ〔４，５〕デカン等のス
ピロオルソエステル化合物等である。
して、１，５，７，１１−テトラオキサスピロ〔５，
５〕ウンデカン、３，９−ジベンジル−１，５，７，１
１−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン等や１，
４，６−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン，２−メチ
ル−１，４，６−トリオキサスピロ〔４，４〕ノナン，
１，４，６−トリオキサスピロ〔４，５〕デカン等のス
ピロオルソエステル化合物等である。
【００２３】これらは、単独若しくは２種以上を併用し
て用いても差し支えない。（ａ）〜（ｄ）の内で、殊に
（ａ）のエポキシ基を有する化合物が好んで使用され
る。
て用いても差し支えない。（ａ）〜（ｄ）の内で、殊に
（ａ）のエポキシ基を有する化合物が好んで使用され
る。
【００２４】本発明にもちいる重合性化合物としては、
例えば、ラジカル重合性オリゴマーとして、エポキシア
クリレート、エポキシメタアクリレート、ポリエステル
アクリレート、ポリエステルメタアクリレート、ポリエ
ーテルアクリレート、ポリエーテルメタアクリレート、
ポリウレタンアクリレート、ポリウレタンメタアクリレ
ート、ポリブタジエンアクリレート、ポリブタジエンメ
タアクリレート等が例示することができる。また、ラジ
カル重合性の反応希釈剤として、アクリル酸、アクリル
酸エステル等のアクリル酸エステルモノマー；メタアク
リル酸やメタアクリル酸メチル等のメタアクリル酸エス
テルモノマー；スチレン等が例示することができる。
例えば、ラジカル重合性オリゴマーとして、エポキシア
クリレート、エポキシメタアクリレート、ポリエステル
アクリレート、ポリエステルメタアクリレート、ポリエ
ーテルアクリレート、ポリエーテルメタアクリレート、
ポリウレタンアクリレート、ポリウレタンメタアクリレ
ート、ポリブタジエンアクリレート、ポリブタジエンメ
タアクリレート等が例示することができる。また、ラジ
カル重合性の反応希釈剤として、アクリル酸、アクリル
酸エステル等のアクリル酸エステルモノマー；メタアク
リル酸やメタアクリル酸メチル等のメタアクリル酸エス
テルモノマー；スチレン等が例示することができる。
【００２５】本発明において、前記オニウム塩化合物と
カチオン重合性化合物との配合割合は、カチオン重合性
化合物１００部に対し、オニウム塩化合物０．０１〜２
０部、好ましくは０．１〜１０部の割合で配合する。こ
のオニウム塩化合物量が少いと、カチオン重合性化合物
の硬化性が低下し、過剰であると硬化物の特性が低下す
る。
カチオン重合性化合物との配合割合は、カチオン重合性
化合物１００部に対し、オニウム塩化合物０．０１〜２
０部、好ましくは０．１〜１０部の割合で配合する。こ
のオニウム塩化合物量が少いと、カチオン重合性化合物
の硬化性が低下し、過剰であると硬化物の特性が低下す
る。
【００２６】本発明において、前記オニウム塩化合物と
ラジカル重合性化合物との配合割合は、ラジカル重合性
化合物１００部に対し、オニウム塩化合物０．０１〜２
０部、好ましくは０．１〜１０部の割合で配合する。こ
のオニウム塩化合物量が少いと、ラジカル重合性化合物
の硬化性が低下し、過剰であると硬化物の特性が低下す
る。
ラジカル重合性化合物との配合割合は、ラジカル重合性
化合物１００部に対し、オニウム塩化合物０．０１〜２
０部、好ましくは０．１〜１０部の割合で配合する。こ
のオニウム塩化合物量が少いと、ラジカル重合性化合物
の硬化性が低下し、過剰であると硬化物の特性が低下す
る。
【００２７】本発明のオニウム塩化合物を含有するカチ
オン重合性組成物は、加熱により容易に硬化できる。熱
硬化する場合は、３０〜２００℃、好ましくは、５０〜
１８０℃の範囲で使用される。
オン重合性組成物は、加熱により容易に硬化できる。熱
硬化する場合は、３０〜２００℃、好ましくは、５０〜
１８０℃の範囲で使用される。
【００２８】また，オニウム塩化合物を含有するカチオ
ン重合性組成物は、α線、β線、γ線、中性子線、Ｘ
線、加速電子線のような電離性放射線によっても容易に
短時間で硬化することができる。電離性放射線による硬
化の場合は、通常0.5 〜６０Ｍｒａｄの線量の範囲が使
用でき、１〜５０Ｍｒａｄの範囲が好ましい。なお、電
離性放射線および熱を併用して硬化させることも可能で
ある。
ン重合性組成物は、α線、β線、γ線、中性子線、Ｘ
線、加速電子線のような電離性放射線によっても容易に
短時間で硬化することができる。電離性放射線による硬
化の場合は、通常0.5 〜６０Ｍｒａｄの線量の範囲が使
用でき、１〜５０Ｍｒａｄの範囲が好ましい。なお、電
離性放射線および熱を併用して硬化させることも可能で
ある。
【００２９】本発明のオニウム塩化合物を含有するカチ
オン重合性組成物およびラジカル重合性組成物は、光に
よっても容易に短時間で硬化することができる。光硬化
は、５００ｎｍ以下の光、特に紫外線が好適に使用され
るため、光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧
水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、クセノ
ンランプ、カーボンアーク灯等が用いられるい。また、
レーザー光を用いることもできる。
オン重合性組成物およびラジカル重合性組成物は、光に
よっても容易に短時間で硬化することができる。光硬化
は、５００ｎｍ以下の光、特に紫外線が好適に使用され
るため、光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧
水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、クセノ
ンランプ、カーボンアーク灯等が用いられるい。また、
レーザー光を用いることもできる。
【００３０】本発明のオニウム塩化合物は、一般に単独
で使用されるが、他のカチオン重合開始剤やラジカル重
合開始剤と併用して用いることもできる。また、前記
（ａ）のエポキシ基を有する化合物を用いる場合は、エ
ポキシ樹脂の硬化剤として通常用いられている、フェノ
ール系硬化剤、酸無水物類硬化剤等の硬化剤を性能が損
なわない範囲内で併用して用いてもよい。
で使用されるが、他のカチオン重合開始剤やラジカル重
合開始剤と併用して用いることもできる。また、前記
（ａ）のエポキシ基を有する化合物を用いる場合は、エ
ポキシ樹脂の硬化剤として通常用いられている、フェノ
ール系硬化剤、酸無水物類硬化剤等の硬化剤を性能が損
なわない範囲内で併用して用いてもよい。
【００３１】前記のカチオン重合性化合物に本発明の開
始剤を配合して使用する際に、必要に応じて反応性希釈
剤、硬化促進剤、溶剤、顔料、染料、カップリング剤、
無機充填剤、炭素繊維ガラス繊維、界面活性剤等を添加
して使用される。
始剤を配合して使用する際に、必要に応じて反応性希釈
剤、硬化促進剤、溶剤、顔料、染料、カップリング剤、
無機充填剤、炭素繊維ガラス繊維、界面活性剤等を添加
して使用される。
【００３２】
【実施例】以下、本発明を実施例、比較例により、更に
具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に
何等限定されるものではない。
具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に
何等限定されるものではない。
【００３３】実施例１：Ｎ−メチル−２−ベンジルチオ
ベンゾチアゾリウムスルフェートの合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−ベンジルチオベンゾチア
ゾール７．７２ｇを混合し、５０℃で２０時間反応させ
た。得られた化合物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧
乾燥した。 収率：９８％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９５，１４６０，１４４
２，１３９１，１２５２, １２２６，１０５８，１００
３，７７０，７０９
ベンゾチアゾリウムスルフェートの合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−ベンジルチオベンゾチア
ゾール７．７２ｇを混合し、５０℃で２０時間反応させ
た。得られた化合物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧
乾燥した。 収率：９８％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９５，１４６０，１４４
２，１３９１，１２５２, １２２６，１０５８，１００
３，７７０，７０９
【００３４】実施例２：Ｎ−メチル−２−（２−ニトロ
ベンジルチオ）ベンゾチアゾリウムスルフェートの合成 ジメチル硫酸２．５２ｇと２−（２−ニトロベンジルチ
オ）ベンゾチアゾール６．０５ｇを混合し、５０℃で２
４時間反応させた。得られた化合物をエーテルで洗浄
し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：９６％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５２６，１４６３，１４２
１，１３９５，１３５３，１２２３，１００４，７６
９，
ベンジルチオ）ベンゾチアゾリウムスルフェートの合成 ジメチル硫酸２．５２ｇと２−（２−ニトロベンジルチ
オ）ベンゾチアゾール６．０５ｇを混合し、５０℃で２
４時間反応させた。得られた化合物をエーテルで洗浄
し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：９６％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５２６，１４６３，１４２
１，１３９５，１３５３，１２２３，１００４，７６
９，
【００３５】実施例３：Ｎ−メチル−２−（α−フェネ
チルチオ）ベンゾチアゾリウムスルフェートの合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−（α−フェネチルチオ）
ベンゾチアゾール８．１４ｇを混合し、５０℃で４日間
反応させた。得られた化合物をエーテルで洗浄し、４０
℃で減圧乾燥した。 収率：８７％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９３，１４６６，１４４
１，１３８８，１２３１，１０５６，７５９
チルチオ）ベンゾチアゾリウムスルフェートの合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−（α−フェネチルチオ）
ベンゾチアゾール８．１４ｇを混合し、５０℃で４日間
反応させた。得られた化合物をエーテルで洗浄し、４０
℃で減圧乾燥した。 収率：８７％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９３，１４６６，１４４
１，１３８８，１２３１，１０５６，７５９
【００３６】実施例４：Ｎ−メチル−２−（ベンズヒド
リルチオ）ベンゾチアゾリウムスルフェートの合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−（ベンズヒドリルチオ）
ベンゾチアゾール１０．００ｇをメタノール２ｇに溶解
させ、５０℃で９日間反応させた。得られた化合物をエ
ーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：６５
％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９４，１４５４，１３１
４，１２８３，１２５５，１２１６，１０３１，７６
０，７０１
リルチオ）ベンゾチアゾリウムスルフェートの合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−（ベンズヒドリルチオ）
ベンゾチアゾール１０．００ｇをメタノール２ｇに溶解
させ、５０℃で９日間反応させた。得られた化合物をエ
ーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：６５
％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９４，１４５４，１３１
４，１２８３，１２５５，１２１６，１０３１，７６
０，７０１
【００３７】実施例５：Ｎ−メチル−２−（エトキシカ
ルボニルメチルチオ）ベンゾチアゾリウムスルフェート
の合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−（エトキシカルボニルメ
チルチオ）ベンゾチアゾール７．６０ｇを混合し、５０
℃で１７時間反応させた。得られた化合物をエーテルで
洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：９９％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３００４，１７３４，１４８
９，１４６６，１３９９，１３１０，１２５３，１２１
０，１００７，７６２
ルボニルメチルチオ）ベンゾチアゾリウムスルフェート
の合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−（エトキシカルボニルメ
チルチオ）ベンゾチアゾール７．６０ｇを混合し、５０
℃で１７時間反応させた。得られた化合物をエーテルで
洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：９９％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３００４，１７３４，１４８
９，１４６６，１３９９，１３１０，１２５３，１２１
０，１００７，７６２
【００３８】実施例６：Ｎ−エチル−２−（エトキシカ
ルボニルメチルチオ）ベンゾチアゾリウムスルフェート
の合成 ジエチル硫酸３．０８ｇと２−（エトキシカルボニルメ
チルチオ）ベンゾチアゾール５．０７ｇを混合し、５０
℃で１０日間反応させた。得られた化合物をエーテルで
洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：５９％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：２９８２，１７３５，１４６
３，１４２４，１３０８，１２５２，１２２０，１１９
４，１０１５，７６３
ルボニルメチルチオ）ベンゾチアゾリウムスルフェート
の合成 ジエチル硫酸３．０８ｇと２−（エトキシカルボニルメ
チルチオ）ベンゾチアゾール５．０７ｇを混合し、５０
℃で１０日間反応させた。得られた化合物をエーテルで
洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：５９％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：２９８２，１７３５，１４６
３，１４２４，１３０８，１２５２，１２２０，１１９
４，１０１５，７６３
【００３９】実施例７：Ｎ−メチル−２−（２−エトキ
シカルボニル−２−プロピルチオ）ベンゾチアゾリウム
スルフェートの合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−（２−エトキシカルボニ
ル−２−プロピルチオ）ベンゾチアゾール８．４４ｇを
混合し、５０℃で２日間反応させた。得られた化合物を
エーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：９
８％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：２９８４，１７２８，１４６
４，１３８９，１２５５，１２１６，１１７４，１１２
２，１０１０，７６２
シカルボニル−２−プロピルチオ）ベンゾチアゾリウム
スルフェートの合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−（２−エトキシカルボニ
ル−２−プロピルチオ）ベンゾチアゾール８．４４ｇを
混合し、５０℃で２日間反応させた。得られた化合物を
エーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：９
８％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：２９８４，１７２８，１４６
４，１３８９，１２５５，１２１６，１１７４，１１２
２，１０１０，７６２
【００４０】実施例８：Ｎ−メチル−２−フェナシルチ
オベンゾチアゾリウムスルフェートの合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−フェナシルチオベンゾチ
アゾール８．５６ｇをメタノール５ｇに溶解させ、５０
℃で１３日間反応させた。得られた化合物をエーテルで
洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：８３％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１６７８，１５９６，１４７
６，１４５０，１３９４，１２８１，１２５５，１２１
５，１００１，７６１，６８９
オベンゾチアゾリウムスルフェートの合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−フェナシルチオベンゾチ
アゾール８．５６ｇをメタノール５ｇに溶解させ、５０
℃で１３日間反応させた。得られた化合物をエーテルで
洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：８３％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１６７８，１５９６，１４７
６，１４５０，１３９４，１２８１，１２５５，１２１
５，１００１，７６１，６８９
【００４１】実施例９：Ｎ−メチル−２−デシルチオベ
ンゾチアゾリウムスルフェートの合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−デシルチオベンゾチアゾ
ール７．２３ｇをジオキサン２ｇに溶解させ、５０℃で
５日間反応させた。得られた化合物をエーテルで洗浄
し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：９８％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１６７５，１５９５，１４４
９，１３９３，１２８４，１２５５，１２１４，１０１
４，９９９，７６６，７０１
ンゾチアゾリウムスルフェートの合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−デシルチオベンゾチアゾ
ール７．２３ｇをジオキサン２ｇに溶解させ、５０℃で
５日間反応させた。得られた化合物をエーテルで洗浄
し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：９８％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１６７５，１５９５，１４４
９，１３９３，１２８４，１２５５，１２１４，１０１
４，９９９，７６６，７０１
【００４２】実施例１０：Ｎ−メチル−２−シンナミル
チオベンゾチアゾリウムスルフェートの合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−シンナミルチオベンゾチ
アゾール８．５０ｇをジオキサン２ｇに溶解させ、５０
℃で２４時間反応させた。得られた化合物をエーテルで
洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：９８％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５９２，１４９４，１４５
０，１４２１，１２５１，１２２６，１０５８，１０１
０，７５７，７０１
チオベンゾチアゾリウムスルフェートの合成 ジメチル硫酸３．７８ｇと２−シンナミルチオベンゾチ
アゾール８．５０ｇをジオキサン２ｇに溶解させ、５０
℃で２４時間反応させた。得られた化合物をエーテルで
洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：９８％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５９２，１４９４，１４５
０，１４２１，１２５１，１２２６，１０５８，１０１
０，７５７，７０１
【００４３】実施例１１：Ｎ−メチル−２−（α−エト
キシカルボニルベンジルチオ）ベンゾチアゾリウムスル
フェートの合成 ジメチル硫酸２．５２ｇと２−（α−エトキシカルボニ
ルベンジルチオ）ベンゾチアゾール６．５９ｇを混合
し、５０℃で３日間反応させた。得られた化合物をエー
テルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：９８％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１７３５，１４９１，１４６
３，１３９５，１２８３，１２１７，１１６２，１０５
８，１０１０，７６４，７３９，６９８
キシカルボニルベンジルチオ）ベンゾチアゾリウムスル
フェートの合成 ジメチル硫酸２．５２ｇと２−（α−エトキシカルボニ
ルベンジルチオ）ベンゾチアゾール６．５９ｇを混合
し、５０℃で３日間反応させた。得られた化合物をエー
テルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：９８％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１７３５，１４９１，１４６
３，１３９５，１２８３，１２１７，１１６２，１０５
８，１０１０，７６４，７３９，６９８
【００４４】実施例１２：Ｎ−メチル−２−シンナミル
チオベンゾチアゾリウム−ｐ−トルエｐ−トルエンスル
ホン酸メチル５．５９ｇと２−シンナミルチオベンゾチ
アゾール８．５０ｇを混合し、９０℃で２時間反応させ
た後、５０℃で３日間反応させた。得られた化合物をエ
ーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：９９
％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５９９，１４９５，１４６
３，１４５１，１４２１，１２１８，１１９２，１１２
２，１０１１，８１８，７５７，６８１，５６８
チオベンゾチアゾリウム−ｐ−トルエｐ−トルエンスル
ホン酸メチル５．５９ｇと２−シンナミルチオベンゾチ
アゾール８．５０ｇを混合し、９０℃で２時間反応させ
た後、５０℃で３日間反応させた。得られた化合物をエ
ーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収率：９９
％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５９９，１４９５，１４６
３，１４５１，１４２１，１２１８，１１９２，１１２
２，１０１１，８１８，７５７，６８１，５６８
【００４５】実施例１３：Ｎ−メチル−２−（２，４−
ジニトロフェニルチオ）ベンゾチアゾリウムスルフェー
トの合成 ジメチル硫酸４．４１ｇと２−（２，４−ジニトロフェ
ニルチオ）ベンゾチアゾール１０．００ｇをジオキサン
７ｇに溶解させ、９０℃で６時間反応させた。得られた
化合物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。
収率：５９％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：２９７３，１６９０，１６３
６，１５９７，１４６９，１４４８，１３８５，１２８
９，１２２４，１１５８，９６６，８７９，７００
ジニトロフェニルチオ）ベンゾチアゾリウムスルフェー
トの合成 ジメチル硫酸４．４１ｇと２−（２，４−ジニトロフェ
ニルチオ）ベンゾチアゾール１０．００ｇをジオキサン
７ｇに溶解させ、９０℃で６時間反応させた。得られた
化合物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。
収率：５９％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：２９７３，１６９０，１６３
６，１５９７，１４６９，１４４８，１３８５，１２８
９，１２２４，１１５８，９６６，８７９，７００
【００４６】実施例１４：Ｎ−メチル−２−（２−ニト
ロベンジルチオ）ベンゾオキサゾリウムスルフェートの
合成 ジメチル硫酸２．５２ｇと２−（２−ニトロベンジルチ
オ）ベンゾオキサゾール６．０５ｇをジオキサン３ｇに
溶解させ、５０℃で２４時間反応させた。得られた化合
物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収
率：９９％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５２７，１４９２，１４３
３，１３４６，１２６３，１２３４，１０９６，１０６
２，１００７，７５３
ロベンジルチオ）ベンゾオキサゾリウムスルフェートの
合成 ジメチル硫酸２．５２ｇと２−（２−ニトロベンジルチ
オ）ベンゾオキサゾール６．０５ｇをジオキサン３ｇに
溶解させ、５０℃で２４時間反応させた。得られた化合
物をエーテルで洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。 収
率：９９％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５２７，１４９２，１４３
３，１３４６，１２６３，１２３４，１０９６，１０６
２，１００７，７５３
【００４７】実施例１５：Ｎ−メチル−２−ベンジルチ
オベンゾチアゾリウムヘキサフロロアンチモネートの合
成 実施例１の化合物３．８４ｇを蒸留水６ｇとメチルエチ
ルケトン（以下、ＭＥＫと言う）２ｇの混合溶媒に溶解
させ、六フッ化アンチモン酸カリウム３．３０ｇを加
え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水４０ｇを加え、よ
く攪拌して冷却した。析出した化合物を濾別し、４０℃
で減圧乾燥させた。 収率：９６％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３１０２，１４９７，１４６
７，１４４６，１３９４, １０５７，７７３，７０６，
６６１
オベンゾチアゾリウムヘキサフロロアンチモネートの合
成 実施例１の化合物３．８４ｇを蒸留水６ｇとメチルエチ
ルケトン（以下、ＭＥＫと言う）２ｇの混合溶媒に溶解
させ、六フッ化アンチモン酸カリウム３．３０ｇを加
え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水４０ｇを加え、よ
く攪拌して冷却した。析出した化合物を濾別し、４０℃
で減圧乾燥させた。 収率：９６％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３１０２，１４９７，１４６
７，１４４６，１３９４, １０５７，７７３，７０６，
６６１
【００４８】実施例１６：Ｎ−メチル−２−（２−ニト
ロベンジルチオ）ベンゾチアゾリウムヘキサフロロアン
チモネートの合成 実施例２の化合物４．２９ｇを蒸留水５ｇとＭＥＫ２ｇ
の混合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウム
３．３０ｇを加え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水４
０ｇを加え、よく攪拌し、冷却した。析出した化合物を
濾別し、４０℃で減圧乾燥させた。 収率：９２％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３１０５，１５３３，１４６
５，１４２５，１４００，１３４９，１１２２，１００
７，７７３，７１７，６５５
ロベンジルチオ）ベンゾチアゾリウムヘキサフロロアン
チモネートの合成 実施例２の化合物４．２９ｇを蒸留水５ｇとＭＥＫ２ｇ
の混合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウム
３．３０ｇを加え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水４
０ｇを加え、よく攪拌し、冷却した。析出した化合物を
濾別し、４０℃で減圧乾燥させた。 収率：９２％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：３１０５，１５３３，１４６
５，１４２５，１４００，１３４９，１１２２，１００
７，７７３，７１７，６５５
【００４９】実施例１７：Ｎ−メチル−２−（α−フェ
ネチルチオ）ベンゾチアゾリウムヘキサフロロアンチモ
ネートの合成 実施例３の化合物３．９８ｇを蒸留水２０ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸カリウム 3.30 ｇを加え、よ
く攪拌し、冷却した。析出した化合物を濾別し、４０℃
で減圧乾燥させた。 収率：７８％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５８８，１４９４，１４５
２，１４２５，１４０３，７７５，７５９，７０３，６
５８
ネチルチオ）ベンゾチアゾリウムヘキサフロロアンチモ
ネートの合成 実施例３の化合物３．９８ｇを蒸留水２０ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸カリウム 3.30 ｇを加え、よ
く攪拌し、冷却した。析出した化合物を濾別し、４０℃
で減圧乾燥させた。 収率：７８％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５８８，１４９４，１４５
２，１４２５，１４０３，７７５，７５９，７０３，６
５８
【００５０】実施例１８：Ｎ−メチル−２−（ベンズヒ
ドリルチオ）ベンゾチアゾリウムヘキサフロロアンチモ
ネートの合成 実施例４の化合物４．６０ｇを蒸留水２０ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸カリウム３．３０ｇを加え、
よく攪拌し、冷却した。析出した化合物を分離し、４０
℃で減圧乾燥させた。 収率：６６％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９４，１４５６，１４２
８，１３０９，１０２０７５７，７０４，６５９
ドリルチオ）ベンゾチアゾリウムヘキサフロロアンチモ
ネートの合成 実施例４の化合物４．６０ｇを蒸留水２０ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸カリウム３．３０ｇを加え、
よく攪拌し、冷却した。析出した化合物を分離し、４０
℃で減圧乾燥させた。 収率：６６％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１４９４，１４５６，１４２
８，１３０９，１０２０７５７，７０４，６５９
【００５１】実施例１９：Ｎ−メチル−２−（エトキシ
カルボニルメチルチオ）ベンゾチアゾリウムヘキサフロ
ロアンチモネートの合成 実施例５の化合物３．７９ｇを蒸留水２０ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸カリウム３．３０ｇを加え、
よく攪拌し、冷却した。析出した化合物を分離し、４０
℃で減圧乾燥させた。 収率：９１％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：２９８４，１７３３，１４９
２，１４６７，１４００，１３１２，１１９２，１０１
０，７６７，６５７
カルボニルメチルチオ）ベンゾチアゾリウムヘキサフロ
ロアンチモネートの合成 実施例５の化合物３．７９ｇを蒸留水２０ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸カリウム３．３０ｇを加え、
よく攪拌し、冷却した。析出した化合物を分離し、４０
℃で減圧乾燥させた。 収率：９１％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：２９８４，１７３３，１４９
２，１４６７，１４００，１３１２，１１９２，１０１
０，７６７，６５７
【００５２】実施例２０：Ｎ−エチル−２−（エトキシ
カルボニルメチルチオ）ベンゾチアゾリウムヘキサフロ
ロアンチモネートの合成 実施例６の化合物４．０８ｇを蒸留水５ｇとＭＥＫ２ｇ
の混合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウム
３．３０ｇを加え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水４
５ｇを加え、よく攪拌し、冷却した。析出した化合物を
分離し、４０℃で減 圧乾燥させた。 収率：９２％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：２９８０，１７３５，１４６
３，１４２６，１４０４，１３０７，１１８８，１０１
７，７６２，６６１
カルボニルメチルチオ）ベンゾチアゾリウムヘキサフロ
ロアンチモネートの合成 実施例６の化合物４．０８ｇを蒸留水５ｇとＭＥＫ２ｇ
の混合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウム
３．３０ｇを加え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水４
５ｇを加え、よく攪拌し、冷却した。析出した化合物を
分離し、４０℃で減 圧乾燥させた。 収率：９２％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：２９８０，１７３５，１４６
３，１４２６，１４０４，１３０７，１１８８，１０１
７，７６２，６６１
【００５３】実施例２１：Ｎ−メチル−２−（２−エト
キシカルボニル−２−プロピルチオ）ベンゾチアゾリウ
ムヘキサフロロアンチモネートの合成 実施例７の化合物４．０８ｇを蒸留水２０ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸カリウム３．３０ｇを加え、
よく攪拌して冷却した。析出した化合物を分離し、４０
℃で減圧乾燥させた。 収率：９７％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：２９９２，１７３３，１４６
６，１３９２，１２８０，１１７８，１１２６，１０１
５，７６３，６５９
キシカルボニル−２−プロピルチオ）ベンゾチアゾリウ
ムヘキサフロロアンチモネートの合成 実施例７の化合物４．０８ｇを蒸留水２０ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸カリウム３．３０ｇを加え、
よく攪拌して冷却した。析出した化合物を分離し、４０
℃で減圧乾燥させた。 収率：９７％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：２９９２，１７３３，１４６
６，１３９２，１２８０，１１７８，１１２６，１０１
５，７６３，６５９
【００５４】実施例２２：Ｎ−メチル−２−フェナシル
チオベンゾチアゾリウムヘキサフロロアンチモネートの
合成 実施例８の化合物４．１２ｇをを蒸留水５ｇとＭＥＫ２
ｇの混合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウ
ム３．３０ｇを加え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水
４５ｇを加え、よく攪拌して冷却した。析出した化合物
を分離し、４０℃で減圧乾燥させた。 収率：６４％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１６８１，１５９５，１４７
７，１４５０，１４２７, １３９４，１２０６，９９
９，７６０，６９０, ６５８
チオベンゾチアゾリウムヘキサフロロアンチモネートの
合成 実施例８の化合物４．１２ｇをを蒸留水５ｇとＭＥＫ２
ｇの混合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウ
ム３．３０ｇを加え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水
４５ｇを加え、よく攪拌して冷却した。析出した化合物
を分離し、４０℃で減圧乾燥させた。 収率：６４％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１６８１，１５９５，１４７
７，１４５０，１４２７, １３９４，１２０６，９９
９，７６０，６９０, ６５８
【００５５】実施例２３：Ｎ−メチル−２−デシルチオ
ベンゾチアゾリウムヘキサフロロアンチモネートの合成 実施例９の化合物４．８８ｇを蒸留水５ｇとＭＥＫ５ｇ
の混合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウム
3．３０ｇを加え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水４
５ｇを加え、よく攪拌し、冷却した。析出した化合物を
分離し、４０℃で減圧乾燥させた。 収率：９２％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１６８１，１５９５，１４６
５，１４４９，１３８８，１２７３，１２００，９９
３，７６６，７０２，６５７
ベンゾチアゾリウムヘキサフロロアンチモネートの合成 実施例９の化合物４．８８ｇを蒸留水５ｇとＭＥＫ５ｇ
の混合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウム
3．３０ｇを加え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水４
５ｇを加え、よく攪拌し、冷却した。析出した化合物を
分離し、４０℃で減圧乾燥させた。 収率：９２％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１６８１，１５９５，１４６
５，１４４９，１３８８，１２７３，１２００，９９
３，７６６，７０２，６５７
【００５６】実施例２４：Ｎ−メチル−２−シンナミル
チオベンゾチアゾリウムヘキサフロロアンチモネートの
合成 実施例１０の化合物４．１０ｇを蒸留水５ｇとＭＥＫ２
ｇの混合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウ
ム３．３０ｇを加え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水
４５ｇを加え、よく攪拌して冷却した。析出した化合物
を分離し、４０℃で減圧乾燥させた。 収率：９６％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５９０，１４９４，１４５
１，１４２２，１０５８，９７２，７５６，６９９，６
５８
チオベンゾチアゾリウムヘキサフロロアンチモネートの
合成 実施例１０の化合物４．１０ｇを蒸留水５ｇとＭＥＫ２
ｇの混合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウ
ム３．３０ｇを加え、よく攪拌した。この溶液に蒸留水
４５ｇを加え、よく攪拌して冷却した。析出した化合物
を分離し、４０℃で減圧乾燥させた。 収率：９６％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５９０，１４９４，１４５
１，１４２２，１０５８，９７２，７５６，６９９，６
５８
【００５７】実施例２５：Ｎ−メチル−２−（α−エト
キシカルボニルベンジルチオ）ベンゾチアゾリウムヘキ
サフロロアンチモネートの合成 実施例１１の化合物４．５６ｇを蒸留水２０ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸カリウム３．３０ｇを加え、
よく攪拌し、冷却した。析出した化合物を分離し、４０
℃で減圧乾燥させた。 収率：９１％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１７３５，１４９０，１４６
６，１３９４，１２７９，１２２６，１１７７，１０５
８，１０１７，７６０，７３０，６９９，６６０
キシカルボニルベンジルチオ）ベンゾチアゾリウムヘキ
サフロロアンチモネートの合成 実施例１１の化合物４．５６ｇを蒸留水２０ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸カリウム３．３０ｇを加え、
よく攪拌し、冷却した。析出した化合物を分離し、４０
℃で減圧乾燥させた。 収率：９１％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１７３５，１４９０，１４６
６，１３９４，１２７９，１２２６，１１７７，１０５
８，１０１７，７６０，７３０，６９９，６６０
【００５８】実施例２６：Ｎ−メチル−２−（２，４−
ジニトロフェニルチオ）ベンゾチアゾリウムヘキサフロ
ロアンチモネートの合成 実施例１３の化合物４．５９ｇを蒸留水２０ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸カリウム３．３０ｇを加え、
よく攪拌して冷却した。析出した化合物を分離し、４０
℃で減圧乾燥させた。 収率：６８％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１７０３，１６４５，１５９
７，１４６９，１４５１，１２９２，１２１５，１１９
０，９６７，８４５，７０５，６５７
ジニトロフェニルチオ）ベンゾチアゾリウムヘキサフロ
ロアンチモネートの合成 実施例１３の化合物４．５９ｇを蒸留水２０ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸カリウム３．３０ｇを加え、
よく攪拌して冷却した。析出した化合物を分離し、４０
℃で減圧乾燥させた。 収率：６８％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１７０３，１６４５，１５９
７，１４６９，１４５１，１２９２，１２１５，１１９
０，９６７，８４５，７０５，６５７
【００５９】実施例２７：Ｎ−メチル−２−（２−ニト
ロベンジルチオ）ベンゾオキサゾリウムヘキサフロロア
ンチモネートの合成 実施例１４の化合物４．１２ｇを蒸留水２０ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸カリウム３．３０ｇを加え、
よく攪拌し、冷却した。析出した化合物を分離し、４０
℃で減圧乾燥させた。 収率：６６％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５２５，１４９２，１４３
１，１３４５，１２６５，１０９５，７７５，６６０
ロベンジルチオ）ベンゾオキサゾリウムヘキサフロロア
ンチモネートの合成 実施例１４の化合物４．１２ｇを蒸留水２０ｇに溶解さ
せ、六フッ化アンチモン酸カリウム３．３０ｇを加え、
よく攪拌し、冷却した。析出した化合物を分離し、４０
℃で減圧乾燥させた。 収率：６６％ このもののスペクトルデータは以下のとおりであった。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ-1）：１５２５，１４９２，１４３
１，１３４５，１２６５，１０９５，７７５，６６０
【００６０】実施例２８〜５７ 〈硬化性能テスト〉実施例４および実施例１５から２７
で合成した化合物をプロピレンカーボネートに溶解さ
せ、ＥＲＬ−４２２１（ＵＣＣ社製脂環型エポキシ）ま
たはトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰ
Ｔ−Ａ）に純分として２．５部になるように添加して配
合物を調整した。この配合物についてＤＳＣおよびＵＶ
−ＤＳＣ測定を行い、ＤＳＣ測定では、発熱ピークのト
ップ温度、ＵＶ−ＤＳＣ測定では、光照射から発熱のト
ップピークまでの時間を求めた。
で合成した化合物をプロピレンカーボネートに溶解さ
せ、ＥＲＬ−４２２１（ＵＣＣ社製脂環型エポキシ）ま
たはトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰ
Ｔ−Ａ）に純分として２．５部になるように添加して配
合物を調整した。この配合物についてＤＳＣおよびＵＶ
−ＤＳＣ測定を行い、ＤＳＣ測定では、発熱ピークのト
ップ温度、ＵＶ−ＤＳＣ測定では、光照射から発熱のト
ップピークまでの時間を求めた。
【００６１】なお、ＤＳＣ測定条件およびＵＶ−ＤＳＣ
測定条件は下記の通りであり、その測定結果を表１〜表
３に示した。 ＤＳＣ測定条件 ＤＳＣ測定機器 ： ＤＳＣ２２０Ｃ（セイコー電子工
業社製） 雰 囲 気 ： 窒素ガス気流中 ３０ｍｌ／分 昇温温度 ： １０℃／分 サンプル量 ： ０．３〜０．８ｍｇ ＵＶ−ＤＳＣ測定条件 ＤＳＣ測定機器 ： ＤＳＣ２２０Ｃ（セイコー電子工
業社製） ＵＶ照射器 ： 超高圧水銀灯 雰 囲 気 ： 窒素ガス気流中 ３０ｍｌ／分 測定温度 ： ５０℃ サンプル量 ： ０．１〜０．３ｍｇ 膜 厚 ： ２〜１０μｍ 照 度 ： １０ｍＷ／ｃｍ2 （３６５ｎｍ）
測定条件は下記の通りであり、その測定結果を表１〜表
３に示した。 ＤＳＣ測定条件 ＤＳＣ測定機器 ： ＤＳＣ２２０Ｃ（セイコー電子工
業社製） 雰 囲 気 ： 窒素ガス気流中 ３０ｍｌ／分 昇温温度 ： １０℃／分 サンプル量 ： ０．３〜０．８ｍｇ ＵＶ−ＤＳＣ測定条件 ＤＳＣ測定機器 ： ＤＳＣ２２０Ｃ（セイコー電子工
業社製） ＵＶ照射器 ： 超高圧水銀灯 雰 囲 気 ： 窒素ガス気流中 ３０ｍｌ／分 測定温度 ： ５０℃ サンプル量 ： ０．１〜０．３ｍｇ 膜 厚 ： ２〜１０μｍ 照 度 ： １０ｍＷ／ｃｍ2 （３６５ｎｍ）
【００６２】
【表１】
【００６３】
【表２】
【００６４】
【表３】
【００６５】比較例１、３、５ 対比用試料１として、Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチル−Ｎ−
エチルアニリニウムヘキサフロロアンチモネートを開始
剤に用い、実施例と同様にＥＲＬ−４２２１（ＵＣＣ社
製脂環型エポキシ）およびＴＭＰＴ−Ａに添加して配合
物を調整し、ＤＳＣおよびＵＶ−ＤＳＣ測定を行った。
これらの結果を前記の表１〜表３に示した。
エチルアニリニウムヘキサフロロアンチモネートを開始
剤に用い、実施例と同様にＥＲＬ−４２２１（ＵＣＣ社
製脂環型エポキシ）およびＴＭＰＴ−Ａに添加して配合
物を調整し、ＤＳＣおよびＵＶ−ＤＳＣ測定を行った。
これらの結果を前記の表１〜表３に示した。
【００６６】比較例２、４、６ 対比用試料２として、ベンジル−４−シアノピリジニウ
ムヘキサフロロアンチモネートを開始剤に用い、実施例
と同様にＥＲＬ−４２２１（ＵＣＣ社製脂環型エポキ
シ）およびＴＭＰＴ−Ａに添加して配合物を調整し、Ｄ
ＳＣおよびＵＶ−ＤＳＣ測定を行い、ＤＳＣ測定では、
発熱ピークのトップ温度、ＵＶ−ＤＳＣ測定では、光照
射から発熱のトップピークまでの時間を求めた。これら
の結果を纏めて前記の表１〜表３に示した。
ムヘキサフロロアンチモネートを開始剤に用い、実施例
と同様にＥＲＬ−４２２１（ＵＣＣ社製脂環型エポキ
シ）およびＴＭＰＴ−Ａに添加して配合物を調整し、Ｄ
ＳＣおよびＵＶ−ＤＳＣ測定を行い、ＤＳＣ測定では、
発熱ピークのトップ温度、ＵＶ−ＤＳＣ測定では、光照
射から発熱のトップピークまでの時間を求めた。これら
の結果を纏めて前記の表１〜表３に示した。
【００６７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の新規オニ
ウム塩化合物は、カチオン重合性化合物の重合開始剤と
して有効であり、表１に見られるように、加熱処理によ
り、極めて迅速かつ低温で重合、硬化させることができ
る。また、表２および表３に見られるように、光反応性
にも優れており、カチオン重合性化合物およびラジカル
重合性化合物を光硬化することができる。
ウム塩化合物は、カチオン重合性化合物の重合開始剤と
して有効であり、表１に見られるように、加熱処理によ
り、極めて迅速かつ低温で重合、硬化させることができ
る。また、表２および表３に見られるように、光反応性
にも優れており、カチオン重合性化合物およびラジカル
重合性化合物を光硬化することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式化１で表されるオニウム塩化合物。 【化１】 〔式中、Ｒ1 は、水素原子、アルキル基、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、置換されてい
てもよいフェニル基又はアルコキシカルボニル基を表
し、Ｒ2 は、アルキル基又は置換されていてもよいフェ
ニル基を表し、Ｒ3 は、Ｙは、酸素原子又は硫黄原子を
表し、Ｙのα位の炭素原子にハロゲン原子、ニトロ基、
シアノ基、アルコキシ基、フェニル基、ビニル基及びア
ルコキシカルボニル基からなる群から選ばれた一種を有
するアルキル基又は置換されていてもよいフェニル基を
表し、Ｘは、有機又は無機のアニオン残基を表す〕 - 【請求項２】請求項１に記載のオニウム塩化合物の少な
くとも一種を含有することを特徴とする重合開始剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19702993A JP3565516B2 (ja) | 1993-07-14 | 1993-07-14 | 新規オニウム塩化合物および重合開始剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19702993A JP3565516B2 (ja) | 1993-07-14 | 1993-07-14 | 新規オニウム塩化合物および重合開始剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0725863A true JPH0725863A (ja) | 1995-01-27 |
| JP3565516B2 JP3565516B2 (ja) | 2004-09-15 |
Family
ID=16367565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19702993A Expired - Fee Related JP3565516B2 (ja) | 1993-07-14 | 1993-07-14 | 新規オニウム塩化合物および重合開始剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3565516B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6458863B1 (en) | 1999-12-09 | 2002-10-01 | Sanwa Kako Company Limited | Vibration damping, resinous, open cell cellular bodies |
| JP2009235345A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Bridgestone Corp | 加硫促進剤、ゴム組成物およびそれを用いたタイヤ |
| CN105315388A (zh) * | 2015-10-16 | 2016-02-10 | 北京化工大学 | 一种碳硫键引发剂 |
| KR20160115804A (ko) * | 2015-03-26 | 2016-10-06 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 경화막 형성용 조성물, 표시 소자용 경화막, 표시 소자용 경화막의 형성 방법, 표시 소자 및 표시 소자의 제조 방법 |
| JP2017059277A (ja) * | 2015-09-14 | 2017-03-23 | 学校法人神奈川大学 | 光学材料、光学素子、及び物品の屈折率を変化させる方法 |
-
1993
- 1993-07-14 JP JP19702993A patent/JP3565516B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6458863B1 (en) | 1999-12-09 | 2002-10-01 | Sanwa Kako Company Limited | Vibration damping, resinous, open cell cellular bodies |
| JP2009235345A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Bridgestone Corp | 加硫促進剤、ゴム組成物およびそれを用いたタイヤ |
| KR20160115804A (ko) * | 2015-03-26 | 2016-10-06 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 경화막 형성용 조성물, 표시 소자용 경화막, 표시 소자용 경화막의 형성 방법, 표시 소자 및 표시 소자의 제조 방법 |
| JP2016183305A (ja) * | 2015-03-26 | 2016-10-20 | Jsr株式会社 | 硬化膜形成用組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法、表示素子及び表示素子の製造方法 |
| JP2017059277A (ja) * | 2015-09-14 | 2017-03-23 | 学校法人神奈川大学 | 光学材料、光学素子、及び物品の屈折率を変化させる方法 |
| CN105315388A (zh) * | 2015-10-16 | 2016-02-10 | 北京化工大学 | 一种碳硫键引发剂 |
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