JPH06318341A

JPH06318341A - 光ディスク

Info

Publication number: JPH06318341A
Application number: JP5106654A
Authority: JP
Inventors: Shiro Miyata; 志郎宮田; Hironobu Ito; 広宣伊藤
Original assignee: NKK Corp; Nippon Kokan Ltd; Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Current assignee: DIC Corp; JFE Engineering Corp
Priority date: 1993-05-07
Filing date: 1993-05-07
Publication date: 1994-11-15

Abstract

(57)【要約】【構成】樹脂製透明基板の一方の面に記録層を有し、
他方の面にハードコート層を有する光ディスクにおい
て、ハードコート層が活性光線硬化型樹脂の硬化被膜よ
りなり、かつ、樹脂製透明基板とハードコート層との間
に、有機系帯電防止剤を含有した被膜よりなる有機化合
物層を設けたことを特徴とする光ディスク。【効果】本発明の光ディスクは、ハードコート層が十
分な耐擦傷性を保持したまま、低湿度環境下及び高湿度
環境下のいずれにおいても高い塵埃付着防止効果を示
し、しかもこのハードコートはスピンコート法という簡
便な手段により形成することができ、更に有機系帯電防
止剤を用いているので表面外観や光学的な均一性が高
い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光により情報の記録、
再生及び／又は消去を行なう光ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスク、特に書き換え可能な光磁気
ディスクは大容量の情報記録媒体として注目を集めてい
る。この光ディスクの一般的な構成を図１に示す。光デ
ィスクは、グルーブと称される溝が形成された円盤状透
明基板のグルーブのある側に記録膜及び／又は反射膜が
形成され、更にこれらを被覆するように保護コートがな
されている。また一般に円盤状透明基板は、ポリカーボ
ネート、ポリメチルメタクリレート、アモルファスポリ
オレフィン等の傷の付き易い樹脂よりなるため、基板表
面の傷付き防止のため、保護コートがなされた面とは逆
の基板面にはハードコートがなされている。

【０００３】光ディスクではハードコートのなされた面
からレーザー光などの光ビームを照射することにより情
報の記録、再生及び／又は消去を行なっている。このた
め、ハードコート面に傷がついた場合は勿論であるが、
それ以外に空気中の塵埃などの異物がハードコート面に
付着した場合でも光ビームの進路が妨げられ、記録再生
エラーを生じやすくなる。ハードコート面への塵埃の付
着は、ハードコート面が帯電して空気中の塵埃が静電気
的に吸着されることにより発生することが多い。このよ
うなハードコート面の帯電による塵埃の吸着といった不
都合を防止するために、ハードコートに帯電防止効果を
付与することが提案されている。

【０００４】ハードコートに帯電防止効果を付与する手
段としては、例えば、特開昭６１一２２２０４２公報に
は、スパッタリング法や蒸着法等の方法により製膜した
ＩＴＯ等の無機透明導電性膜をハードコートとする方
法、あるいは特開平−１１９９３４公報には、基板面を
紫外線、電子線等の活性光線により硬化する樹脂の硬化
被膜により被覆し、更にその上に無機透明導電性膜を形
成する方法が開示されている。これらの方法では、良好
な帯電防止効果をハードコートに付与することができ
る。しかしながら、かかる無機透明導電性膜は、その製
法上、非常に薄い膜しか得ることができず、しかも得ら
れた膜は堅くて脆く、容易に欠損してしまうため、ハー
ドコートとして必要な耐擦傷性が劣るという欠点があ
る。

【０００５】一方、特開平４−６４９３２公報には、ま
ず基板面上に無機透明導電性膜を形成し、その膜を活性
光線硬化型樹脂の硬化被膜により被覆する方法が開示さ
れている。この方法では、活性光線硬化型樹脂の硬化被
膜の膜厚を十分に薄くすることにより帯電防止効果を発
現させることができるが、無機透明導電性膜を形成する
ためには、例えば、スパッタリング等の真空製膜法を用
いる必要があるため、製造工程が著しく煩雑となり、な
お、かつ高価な製造設備が必要であるという欠点があ
る。

【０００６】また、例えば、特開平２−１２３５３４公
報には、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ等の酸化物の微粒子を含有し
た活性光線硬化型樹脂などにより基板面を被覆する方法
が開示されている。この方法では、スピンコート法等の
量産性に優れた簡便な手段によりハードコート層を形成
することができるが、十分な帯電防止効果を付与するた
めには、酸化物微粒子の含有率を高める必要があり、こ
の場合、ハードコート層の表面の平滑性あるいはハード
コート層の光学的な均一性を保つことが著しく困難とな
り、光ディスクとしての記録再生特性が低下するという
欠点がある。

【０００７】一方、ハードコートに帯電防止性を付与す
る方法として、界面活性剤等の有機系帯電防止剤を含有
した活性光線硬化型樹脂をハードコートとして用いる方
法も知られている。この場合、量産性に優れたスピンコ
ート法が適用でき、かつコート剤は基本的に均一系であ
るので、ハードコート表面の平滑性やハードコート層の
光学的均一性を損なうことがないという利点がある。有
機系帯電防止剤としては、それ自体アクリロイル基やメ
タクリロイル基等の活性光線硬化性の官能基を有する化
合物の方が、帯電防止効果の持続性の点からみて優れて
いる。しかしながら、これらの方法では、ハードコート
表面の帯電防止剤成分の極性基に水分が吸着されること
により帯電防止効果が発現されるため、帯電防止効果の
湿度依存性が大きいと云う欠点がある。湿度の低い冬季
において十分な帯電防止効果を発現させるためには、多
量の帯電防止剤成分を用いる必要があり、この場合、湿
度の高い夏季においては、表面に大量の水分が吸着され
てハードコート表面が粘着性となり、かえって塵埃を吸
着し易くなるという欠点がある。また、帯電防止剤成分
の割合が増加するとハードコートの耐擦傷性が損なわれ
ると云う問題も発生する。

【０００８】上記のように、有機系帯電防止剤を含有し
た活性光線硬化樹脂よりなる光ディスクのハードコート
においては、ハードコートとしての十分な耐擦傷性を維
持しつつ、年間を通じて塵埃の吸着防止効果を発現する
ようなものは未だ開発されていないのが現状である。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、量産性に優れたスピンコート法によって形
成することが可能で、高湿度条件及び低湿度条件のいず
れの条件においても表面への塵埃吸着防止効果を発現
し、なおかつ表面平滑性及び光学的均一性、更には十分
な耐擦傷性を保持したハードコート層を有する光ディス
クを提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、樹脂製透明基板の一方の面に記録層を有
し、他方の面にハードコート層を有する光ディスクにお
いて、ハードコート層が活性光線硬化型樹脂の硬化被膜
よりなり、かつ、樹脂製透明基板とハードコート層との
間に、有機系帯電防止剤を含有した被膜よりなる有機化
合物層を設けたことを特徴とする光ディスクを提供す
る。

【００１１】以下、本発明を図を用いて詳細に説明す
る。

【００１２】本発明の光ディスクの構成を図２に示す。
図２に示すように、本発明の光ディスクは、基板の記録
層が形成された面とは逆の表面に、有機系帯電防止剤を
含有した被膜よりなる有機化合物層が設けられている。
更に、前記有機化合物層の表面に活性光線硬化型樹脂の
硬化被膜よりなるハードコート層が設けられている。

【００１３】図２において、基板表面に形成される有機
化合物層に含有される有機系帯電防止剤は、その分子中
に親水性部分と、主として有機化合物よりなる疎水性部
分を共に有するような化合物であり、親水性部分がカチ
オン性、アニオン性、非イオン性のいずれの場合でも用
いることができる。カチオン性帯電防止剤の親水性部分
としては、第１級アミン、第２級アミン、第３級アミ
ン、ピリジン誘導体及びこれらの塩、更に第４級アンモ
ニウム塩などを例示することができ、アニオン性帯電防
止剤の親水性部分としては、スルホン酸、カルボン酸、
リン酸、及びこれらの金属塩等を例示することができ、
非イオン性帯電防止剤の親水性部分としてはアルコー
ル、アミド、エステル、及びこれらのエチレンオキシド
付加物、あるいはプロピレンオキシド付加物等を例示す
ることができる。また通常両性界面活性剤と称される帯
電防止剤も使用可能である。

【００１４】また、これら有機系帯電防止剤の疎水性部
分としては特に制限はないが、アクリロイル基及び／又
はメタクリロイル基等の、適当な光重合開始剤の存在下
で紫外線等の活性光線照射をすることにより硬化可能な
官能基を有している帯電防止剤であれば、活性光線照射
により容易に被膜を形成することができ生産性に優れる
ので好ましい。これらの中でも一般式（Ｉ）

【００１５】

【化２】

【００１６】（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表わ
し、ｎは１又は２を表わす。）で表わされる重合性酸性
リン酸エステル類は帯電防止効果が優れ、なおかつ硬化
性も優れるので、本発明における有機系帯電防止剤とし
て特に好ましく用いることができる。

【００１７】本発明において基板表面に形成される有機
化合物層は、上記の有機系帯電防止剤を含有する組成物
を光ディスク用透明基板の表面に均一に塗布し、活性光
線照射あるいは加熱により硬化せしめることで形成する
ことができる。この際の組成物の塗布方法としてはスピ
ンコート法などの簡便な手段を用いることができる。ま
た、この組成物は、有機系帯電防止剤以外の成分とし
て、活性光線硬化型樹脂、揮発性溶剤、光重合開始剤、
重合禁止剤、各種樹脂添加剤等を含有しても良い。かか
る組成物中に占める有機系帯電防止剤の含有量は、５〜
１００重量％の範囲より選択される。特に有機系帯電防
止剤自体が活性光線硬化可能で有れば、有機系帯電防止
剤のみで上記組成物を構成してもなんら問題はない。基
板表面に形成される有機化合物層の厚さは特に制限はな
いが、通常０．１μｍ〜１０μｍの範囲である。また、
この層自体の表面抵抗値は、２５℃、５０％ＲＨの条件
において、好ましくは１×１０¹²Ω／□以下であり、更
に好ましくは１×１０¹⁰Ω／□以下である。有機化合物
層の表面抵抗値が１×１０¹²Ω／□を超えると、この層
の上に更にハードコート層を設けた場合、低湿度環境下
における帯電防止効果が十分でなくなる傾向にあるの
で、好ましくない。

【００１８】図２において有機系帯電防止剤を含有する
有機化合物層の表面に設けられるハードコート層として
は、光ディスクのハードコート剤として一般に用いられ
るアクリル系の活性光線硬化型樹脂等の硬化被膜を用い
ることができる。このような活性光線硬化型樹脂として
は、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレ
ート、ポリエステルアクリレート等の活性光線硬化性オ
リゴマー；プロピレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ヘキサメチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グ
リセリン及びペンタエリスリトール等のポリ（メタ）ア
クリレート等の活性光線硬化性多官能モノマー；エチル
（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル
（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）ア
クリレート、フェニル（メタ）アクリレート、イソボル
ニル（メタ）アクリレート等の活性光線硬化性単官能モ
ノマー；更に必要に応じて光重合開始剤、重合禁止剤、
レベリング剤等の樹脂添加剤等を適宜混合して構成した
組成物が用いられる。なお、この組成物に帯電防止剤及
び／又は導電性無機微粒子を含有せしめることも可能で
ある。

【００１９】図２に示すハードコート層は、上記の樹脂
組成物を有機系帯電防止剤を含有する有機化合物層の表
面にスピンコート法により塗布し、活性光線を照射する
ことにより形成することができる。この際のハードコー
ト層の膜厚は、１〜１０μｍの範囲であることが好まし
い。１μｍ以下であるとハードコートとしての耐擦傷性
が劣り、また１０μｍ以上であるとハードコート表面の
塵埃吸着防止効果が劣る。また、ハードコート層を構成
する活性光線硬化型樹脂の硬化被膜は鉛筆硬度が２Ｈ以
上であることが光ディスクのハードコートとしての耐擦
傷性の点からみて好ましい。

【００２０】光ディスクは、通常、案内溝を有する樹脂
製透明基板上に、記録膜、誘電体膜、反射膜および保護
コートを成膜して製造される。

【００２１】樹脂製透明基板を構成する樹脂としては、
例えば、ポリカーボネート、ＰＭＭＡ、アモルファスポ
リオレフィン等の樹脂が挙げられる。

【００２２】透明基板上に形成される記録層は、干渉
膜、記録膜、反射膜を構成単位とし、それらの組み合わ
せにより形成される。

【００２３】干渉膜には透明性、屈折率の高い無機誘電
体膜が用いられる。材質としては、例えば、ＳｉＮ_x、
ＳｉＯ_x、ＡｌＳｉＯＮ、ＡｌＳｉＮ、ＡｌＮ、ＡｌＴ
ｉＮ、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｎＳ等が挙げられる。これら干渉膜
の屈折率は、１．８〜２．８の範囲が好ましく、吸収係
数は０〜０．１の範囲が好ましい。

【００２４】記録膜を構成する材質としては、例えば、
追記型光ディスクでは、Ｔｅ、ＳｎＳｅ等のカルコゲナ
イト系合金、或いはシアニン系等の有機色素、光磁気デ
ィスクでは、ＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ等の遷移
金属と希土類金属の合金、相変化型光ディスクでは、Ｔ
ｅＯ_x、ＩｎＳｅ、ＳｎＳｂ等のカルコゲナイト系合金
等が挙げられる。

【００２５】反射膜には反射率の高い金属膜或いは合金
膜を使用する。材質は、例えば、金属膜としては、Ａ
ｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ等、合金膜としてはＡｌ−Ｔｉ、
Ａｌ−Ｃｒ等が挙げられる。

【００２６】干渉膜、金属系記録膜、反射膜は、スパッ
タリング、イオンプレーディング等の物理蒸着法（ＰＶ
Ｄ）、プラズマＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）等によ
って形成し、有機色素系記録膜は溶液をスピンコート
法、ロールコート法等により塗布した後、溶媒を除去し
て形成する。

【００２７】反射層上に形成する保護コートは、通常、
スピンコート法により紫外線硬化型樹脂を塗布した後、
紫外線を照射して硬化することにより形成する。

【００２８】このようにして成膜した光ディスクは、単
体で使用してもよく、２枚を基板が外側にくるように貼
り合わせて使用してもよい。

【００２９】

【実施例】以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説
明する。なお、実施例中、「部」は『重量部』を表わ
す。表面抵抗値は三菱油化(株)製ＨｉｒｅｓｔａＩＰ
により測定した。

【００３０】（実施例１）有機系帯電防止剤として、活
性光線により硬化可能な官能基を有する重合性酸性リン
酸エステルであるエチレンオキシド変性リン酸メタクリ
レート（共栄社化学(株)製「ライトエステルＰＭ」）６
０部、活性光線硬化型樹脂として１，６−ヘキサンジオ
ールジアクリレート（日本化薬(株)製「カヤラッドＨＤ
ＤＡ」）３５部及び光重合開始剤として「ダロキュア１
１７３」（メルク(株)製）５部を混合して活性光線硬化
性組成物Ａを調製した。

【００３１】この活性光線硬化性組成物Ａを光ディスク
用ポリカーボネート基板のレーザー光入射側に膜厚が約
２ミクロンとなるようにスピンコーターにより塗布した
後、基板周囲を窒素雰囲気とし、４１０ｍＷ／cm²のメ
タルハライドランプにより５秒間紫外線照射して組成物
Ａを硬化せしめ、有機系帯電防止剤を含有する有機化合
物層を形成した。

【００３２】次に、この有機化合物層の表面にアクリル
系活性光線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業(株)製
「ダイキュアクリアＥＸ−７０４」）を膜厚が４μｍと
なるようにスピンコーターにより塗布した後、上記と同
じ条件で硬化せしめてハードコート層とした。

【００３３】更に、この基板のハードコート層とは反対
の面に誘電体層、記録膜層、反射膜層を順次スパッタ法
により製膜し、更に保護コートを行ない本発明の光ディ
スクを得た。

【００３４】この光ディスクのハードコート表面の２５
℃、５０％ＲＨの環境における表面抵抗値は８×１０⁹
Ω／□で、鉛筆硬度は３Ｈであった。２５℃、２０％
ＲＨの環境において、このディスクのハードコート面を
木綿布によって５０回擦った後、タバコの灰に近づけた
ところ、灰はハードコート表面には全く付着しなかっ
た。更に２５℃、９５％ＲＨの環境において、このディ
スクのハードコート表面にタバコの灰及び関東ローム層
第１１種を振りかけたところ、これらもハードコート表
面に付着することはなかった。

【００３５】このように重合性酸性リン酸エステルを有
機系帯電防止剤とすると、低湿度環境下、及び高湿度環
境下のいずれにおいても顕著な塵埃付着防止効果を示
し、なおかつハードコートとしての耐擦傷性にも優れて
いることが分かった。

【００３６】（比較例１）実施例１において、活性光線
硬化性組成物Ａよりなる有機化合物層の表面にアクリル
系活性光線硬化型樹脂（「ダイキュアクリアＥＸ−７０
４」）を塗布しなかった以外は、実施例１と同様の方法
により光ディスクを得た。

【００３７】この光ディスクのハードコート表面の２５
℃、５０％ＲＨの環境における表面抵抗値は５×１０⁸
Ω／□で、鉛筆硬度はＨＢであった。２５℃、２０％
ＲＨの環境においてこのディスクのハードコート面を木
綿布によって５０回擦った後、タバコの灰に近づけたと
ころ、灰はハードコート表面には全く付着しなかった
が、２５℃、９５％ＲＨの環境においてこのディスクの
ハードコート表面にタバコの灰及び関東ローム層第１１
種を振りかけたところ、これらはハードコート表面に強
固に付着し、エアブローを行なっても殆ど取れなかっ
た。関東ローム層が付着したディスクをディスククリー
ナーにかけたところ、汚れは取れないばかりか、ディス
ク表面に多くの傷が入ってしまい、このディスクは使用
不能となってしまった。

【００３８】（比較例２）有機化合物層を設けることな
く、基板表面に直接アクリル系活性光線硬化型樹脂
（「ダイキュアクリアＥＸ−７０４」）を塗布して硬化
せしめた以外は実施例１と同様の方法で光ディスクを得
た。

【００３９】この光ディスクのハードコート表面の２５
℃、５０％ＲＨの環境における表面抵抗値は１×１０¹⁵
Ω／□以上で、鉛筆硬度は３Ｈであった。２５℃、２０
％ＲＨの環境において、このディスクのハードコート面
を木綿布によって５０回擦った後、タバコの灰に近づけ
たところ、多量の灰がハードコート表面に吸着され、こ
の灰は１０分以上経っても落ちなかった。

【００４０】（実施例２）有機系帯電防止剤として活性
光線により硬化可能な官能基を有するポリエチレングリ
コール４００メタクリレート（日本油脂(株)製「ブレン
マー３５０」）８５部、活性光線硬化型樹脂として１，
６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬(株)製
「カヤラッドＨＤＤＡ」）１０部、光重合開始剤として
「ダロキュア１１７３」（メルク(株)製）５部を混合
し、活性光線硬化性組成物Ｂを調製した。

【００４１】この活性光線硬化性組成物Ｂを光ディスク
用ポリカーボネート基板のレーザー光入射側に膜厚が約
２ミクロンとなるようにスピンコーターにより塗布した
後、基板周囲を窒素雰囲気とし、４１０ｍＷ／cm²のメ
タルハライドランプにより５秒間紫外線照射して組成物
Ｂを硬化せしめ、有機系帯電防止剤を含有する有機化合
物層を形成した。

【００４２】次に、この有機化合物層の表面にアクリル
系活性光線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業(株)製
「ダイキュアクリアＥＸ−７０４」）を膜厚が約４μｍ
となるようにスピンコーターにより塗布した後、上記と
同じ条件で硬化せしめてハードコート層とした。

【００４３】更に、この基板のハードコート層とは反対
の面に誘電体層、記録膜層、反射膜層を順次スパッタ法
により製膜し、更に保護コートを行ない本発明の光ディ
スクを得た。

【００４４】この光ディスクのハードコート表面の２５
℃、５０％ＲＨの環境における表面抵抗値は７×１０¹¹
Ω／□で、鉛筆硬度は３Ｈであった。２５℃、２０％Ｒ
Ｈの環境においてこのディスクのハードコート面を木綿
布によって５０回擦った後、タバコの灰に近づけたとこ
ろ、灰は少しハードコート表面に付着したが、すぐに落
ちた。更に、２５℃、９５％ＲＨの環境において、この
ディスクのハードコート表面にタバコの灰及び関東ロー
ム層第１１種を振りかけたところ、これらはハードコー
ト表面に付着することはなかった。

【００４５】このように重合性酸性リン酸エステル以外
の活性光線硬化可能な有機系帯電防止剤を用いても、本
発明で目標としている効果は得られた。重合性酸性リン
酸エステルの場合と比較して、低湿度環境下での塵埃付
着防止効果が若干劣るが、実用上、問題がない範囲であ
った。

【００４６】（比較例３）実施例２において、組成物Ｂ
よりなる有機化合物層の表面にアクリル系活性光線硬化
型樹脂（「ダイキュアクリアＥＸ−７０４」）を塗布し
なかった以外は、実施例２と同様の方法により光ディス
クを得た。

【００４７】この光ディスクのハードコート表面の２５
℃、５０％ＲＨの環境における表面抵抗値は３×１０¹⁰
Ω／□で、鉛筆硬度は２Ｂ以下であった。２５℃、２０
％ＲＨの環境において、このディスクのハードコート面
を木綿布によって５０回擦ったところ、ハードコート表
面は傷だらけとなってしまった。２５℃、９５％ＲＨの
環境において、このディスクのハードコート表面にタバ
コの灰及び関東ローム層第１１種を振りかけたところ、
これらはハードコート表面に強固に付着し、エアブロー
を行なっても殆ど取れなかった。関東ローム層が付着し
たディスクをディスククリーナーにかけたところ、汚れ
は取れないばかりか、ディスク表面に多くの傷が入って
しまい、このディスクは使用不能となってしまった。

【００４８】（実施例３）有機系帯電防止剤として、活
性光線硬化可能な官能基を持たないカチオン系塗布型帯
電防止剤「ＳＡＴ−５」（日本純薬(株)製）を光ディス
ク用ポリカーボネート基板のレーザー光入射側に膜厚が
約１ミクロンとなるようにスピンコーターにより塗布し
た後、６０℃で５分間乾燥して有機化合物層を形成し
た。

【００４９】次に、この有機化合物層の表面にアクリル
系活性光線硬化型樹脂（大日本インキ化学工業(株)製
「ダイキュアクリアＥＸ−７０４」）を膜厚が約４μｍ
となるようにスピンコーターにより塗布した後、上記と
同じ条件で硬化せしめてハードコート層とした。

【００５０】更に、この基板のハードコート層とは反対
の面に、誘電体層、記録膜層、反射膜層を順次スパッタ
法により製膜し、更に保護コートを行ない、本発明の光
ディスクを得た。

【００５１】この光ディスクのハードコート表面の２５
℃、５０％ＲＨの環境における表面抵抗値は４×１０¹⁰
Ω／□で、鉛筆硬度は３Ｈであった。２５℃、２０％Ｒ
Ｈの環境において、このディスクのハードコート面を木
綿布によって５０回擦った後、タバコの灰に近づけたと
ころ、灰はハードコート表面に全く付着しなかった。更
に、２５℃、９５％ＲＨの環境において、このディスク
のハードコート表面にタバコの灰及び関東ローム層第１
１種を振りかけたところ、これらはハードコート表面に
付着することはなかった。

【００５２】このように、活性光線硬化可能な官能基を
持たない有機系帯電防止剤でも本発明で目的とする効果
を得ることはできた。但し、第１層目の被膜を作成する
上で、活性光線照射による硬化という迅速な手段を用い
ることができないため、生産性がやや劣るという欠点が
あった。

【００５３】（比較例４）実施例３において、塗布型帯
電防止剤よりなる有機化合物層の表面にアクリル系活性
光線硬化型樹脂（「ダイキュアクリアＥＸ−７０４」）
を塗布しなかった以外は、実施例３と同様の方法により
光ディスクを得た。

【００５４】この光ディスクのハードコート表面の２５
℃、５０％ＲＨの環境における表面抵抗値は１×１０⁹
Ω／□で、鉛筆硬度は２Ｂ以下であった。２５℃、２０
％ＲＨの環境において、このディスクのハードコート面
を木綿布によって５０回擦ったところ、ハードコート表
面は傷だらけとなってしまった。２５℃、９５％ＲＨの
環境において、このディスクのハードコート表面にタバ
コの灰及び関東ローム層第１１種を振りかけたところ、
これらはハードコート表面に強固に付着し、エアブロー
を行なっても殆ど取れなかった。関東ローム層が付着し
たディスクをディスククリーナーにかけたところ、汚れ
は取れないばかりか、ディスク表面に多くの傷が入って
しまい、このディスクは使用不能となってしまった。

【００５５】

【発明の効果】本発明の光ディスクは、光入射側の基板
表面に、有機系帯電防止剤を含有した被膜よりなる有機
化合物層が設けられ、更に前記有機化合物層の表面に活
性光線硬化型樹脂の硬化被膜よりなるハードコート層が
設けられていることにより、ハードコートとしての十分
な耐擦傷性を保持したまま、低湿度環境下及び高湿度環
境下のいずれにおいても高い塵埃付着防止効果を示し
た。しかも、このハードコートはスピンコート法という
簡便な手段により形成することができ、更に有機系帯電
防止剤を用いているので表面外観や光学的な均一性が高
いという特徴も有していた。

【００５６】更に、前記有機系帯電防止剤を活性光線硬
化可能な官能基を有するものとすることにより、前記有
機化合物層を活性光線照射により速やかに形成せしめる
ことができた。

【００５７】また更に、前記有機系帯電防止剤を一般式
（Ｉ）で表わされる重合性酸性リン酸エステルとするこ
とにより、特に低湿度環境下における著しく高い塵埃付
着防止効果を発揮せしめることができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の光ディスクの一般的な構成を示す模式断
面図である。

【図２】本発明の光ディスクの構成を示す模式断面図で
ある。

【符号の説明】

１ハードコート２円盤状透明基板３記録層４保護コート５ハードコート６有機系帯電防止剤を含有した有機化合物層７円盤状透明基板８記録層９保護コート

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】樹脂製透明基板の一方の面に記録層を有
し、他方の面にハードコート層を有する光ディスクにお
いて、ハードコート層が活性光線硬化型樹脂の硬化被膜
よりなり、かつ、樹脂製透明基板とハードコート層との
間に、有機系帯電防止剤を含有した被膜よりなる有機化
合物層を設けたことを特徴とする光ディスク。
【請求項２】請求項１における有機系帯電防止剤が分
子中に活性光線硬化可能な官能基を有していることを特
徴とする請求項１に記載の光ディスク。
【請求項３】請求項１における有機化合物層が一般式
（Ｉ）【化１】（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表わし、
ｎは１又は２を表わす。）で表わされる重合性酸性リン
酸エステルを含有する活性光線硬化型樹脂の硬化被膜よ
りなることを特徴とする請求項１又は２に記載の光ディ
スク。