JPH06318038A - 個体識別ラベル - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高温雰囲気下での長時間使用にも十分に耐え
ることのできる耐熱性に優れた個体識別ラベルを提供す
る。 【構成】 基材2の表面に個体識別情報aが記録され
た個体識別ラベル1において、上記基材2を金属板又は
箔によって構成するとともに、上記個体識別情報aをポ
リイミド樹脂により形成する。
ることのできる耐熱性に優れた個体識別ラベルを提供す
る。 【構成】 基材2の表面に個体識別情報aが記録され
た個体識別ラベル1において、上記基材2を金属板又は
箔によって構成するとともに、上記個体識別情報aをポ
リイミド樹脂により形成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、製品や素材等の各種個
体の管理に利用される個体識別ラベルに関する。
体の管理に利用される個体識別ラベルに関する。
【0002】
【従来の技術】個体識別ラベルは、プラスチックフィル
ム等でなる基材の表面に英数字やバーコード等のパター
ンを用いて所定の個体識別情報を記録したもので、対象
とする個体に貼着して使用される。
ム等でなる基材の表面に英数字やバーコード等のパター
ンを用いて所定の個体識別情報を記録したもので、対象
とする個体に貼着して使用される。
【0003】この種のラベルを用いた個体管理において
は、高温(例えば、200〜300°C)の雰囲気下で
ラベルを使用せざるを得ない場合があることから、耐熱
性を有する個体識別ラベルが必要となる。
は、高温(例えば、200〜300°C)の雰囲気下で
ラベルを使用せざるを得ない場合があることから、耐熱
性を有する個体識別ラベルが必要となる。
【0004】そのような耐熱性を有する個体識別ラベル
として、ポリイミドフィルムでなる基材の表面に、白色
顔料を含むポリイミド樹脂又はポリアミド樹脂等でなる
耐熱性樹脂層を設け、その上に個体識別情報を示す黒色
パターンを熱転写インクにより形成したものが現在実用
化されている。
として、ポリイミドフィルムでなる基材の表面に、白色
顔料を含むポリイミド樹脂又はポリアミド樹脂等でなる
耐熱性樹脂層を設け、その上に個体識別情報を示す黒色
パターンを熱転写インクにより形成したものが現在実用
化されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の個体識別ラベルにおいては、個体識別情報
のパターン形成部に用いられているインクの耐熱性が十
分でなかったため、200〜300°Cの温度雰囲気下
での長時間使用に耐えることが難しいという問題があっ
た。
ような従来の個体識別ラベルにおいては、個体識別情報
のパターン形成部に用いられているインクの耐熱性が十
分でなかったため、200〜300°Cの温度雰囲気下
での長時間使用に耐えることが難しいという問題があっ
た。
【0006】本発明は、このような問題に対処するもの
で、高温雰囲気下での長時間使用にも十分に耐えること
のできる耐熱性に優れた個体識別ラベルを提供すること
を目的とする。
で、高温雰囲気下での長時間使用にも十分に耐えること
のできる耐熱性に優れた個体識別ラベルを提供すること
を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的達成のため、本
発明は、基材の表面に個体識別情報が記録された個体識
別ラベルにおいて、上記基材を金属板又は箔によって構
成するとともに、上記個体識別情報をポリイミド樹脂に
より形成したことを特徴とする。
発明は、基材の表面に個体識別情報が記録された個体識
別ラベルにおいて、上記基材を金属板又は箔によって構
成するとともに、上記個体識別情報をポリイミド樹脂に
より形成したことを特徴とする。
【0008】この場合において、基材を構成する金属板
又は箔の厚みは3μm〜10mmであり、その材質とし
ては、銅、ニッケル、鉄、アルミニウム、ステンレスス
ティール等を挙げることができる。また、この金属板又
は箔の表面には、個体識別情報を形成するポリイミド樹
脂との密着性を向上させ或いはコントラストを向上させ
るため、公知の各種処理(例えばメッキ処理)を施して
もよい。
又は箔の厚みは3μm〜10mmであり、その材質とし
ては、銅、ニッケル、鉄、アルミニウム、ステンレスス
ティール等を挙げることができる。また、この金属板又
は箔の表面には、個体識別情報を形成するポリイミド樹
脂との密着性を向上させ或いはコントラストを向上させ
るため、公知の各種処理(例えばメッキ処理)を施して
もよい。
【0009】一方、個体識別情報を形成するポリイミド
樹脂としては、公知のポリイミド樹脂を用いることがで
きるが、金属板又は箔上に個体識別情報を容易に形成で
きるという点で特に感光性ポリイミド樹脂を使用するの
が好ましい。また、基材とのコントラストを高めるた
め、上記ポリイミド樹脂には顔料を含有させてもよい。
本発明におけるポリイミド樹脂の厚みは0.1〜10μ
mが好ましい。
樹脂としては、公知のポリイミド樹脂を用いることがで
きるが、金属板又は箔上に個体識別情報を容易に形成で
きるという点で特に感光性ポリイミド樹脂を使用するの
が好ましい。また、基材とのコントラストを高めるた
め、上記ポリイミド樹脂には顔料を含有させてもよい。
本発明におけるポリイミド樹脂の厚みは0.1〜10μ
mが好ましい。
【0010】本発明の個体識別ラベルは、個体の被貼着
面に貼り付けて使用されるので、上記基材を構成する金
属層の下層に粘着剤層又は接着剤層を設けるのが好まし
い。その場合の接着剤は、公知のあらゆる接着剤を用い
ることが可能であるが、本発明の目的が高温雰囲気下で
の使用に耐え得る個体識別ラベルの提供にある点に鑑み
れば、耐熱性を有する例えばエポキシ系、シリコーン
系、イミド系又はこれらの複合系の接着剤が好ましい。
また、粘着剤についても、公知のあらゆる粘着剤を用い
ることができるが、中でもアクリル系、ゴム系、シリコ
ーン系の粘着剤が好ましい。このような接着剤層又は粘
着剤層の厚みは、5〜50μmがよい。
面に貼り付けて使用されるので、上記基材を構成する金
属層の下層に粘着剤層又は接着剤層を設けるのが好まし
い。その場合の接着剤は、公知のあらゆる接着剤を用い
ることが可能であるが、本発明の目的が高温雰囲気下で
の使用に耐え得る個体識別ラベルの提供にある点に鑑み
れば、耐熱性を有する例えばエポキシ系、シリコーン
系、イミド系又はこれらの複合系の接着剤が好ましい。
また、粘着剤についても、公知のあらゆる粘着剤を用い
ることができるが、中でもアクリル系、ゴム系、シリコ
ーン系の粘着剤が好ましい。このような接着剤層又は粘
着剤層の厚みは、5〜50μmがよい。
【0011】
【作用】上記構成の個体識別ラベルによれば、基材が金
属板又は箔によって構成され、しかもその基材表面にお
ける個体識別情報が耐熱性樹脂であるポリイミド樹脂に
より形成されているから、基材及びその表面の個体識別
情報のいずれについても十分な耐熱性を有することとな
る。従って、例えば200〜350°Cの高温雰囲気下
で使用したり加熱された鉄板等に接触したりしても劣化
することがなく、個体識別情報の読み取りが不可能とな
ることもない。
属板又は箔によって構成され、しかもその基材表面にお
ける個体識別情報が耐熱性樹脂であるポリイミド樹脂に
より形成されているから、基材及びその表面の個体識別
情報のいずれについても十分な耐熱性を有することとな
る。従って、例えば200〜350°Cの高温雰囲気下
で使用したり加熱された鉄板等に接触したりしても劣化
することがなく、個体識別情報の読み取りが不可能とな
ることもない。
【0012】これにより、高温雰囲気下での長時間使用
にも十分に耐えることのできる耐熱性に優れた個体識別
ラベルを実現できることとなる。
にも十分に耐えることのできる耐熱性に優れた個体識別
ラベルを実現できることとなる。
【0013】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
1および図2は、本発明の実施例を示す個体識別ラベル
の平面図とその拡大断面図である。
1および図2は、本発明の実施例を示す個体識別ラベル
の平面図とその拡大断面図である。
【0014】これらの図に示すように、個体識別ラベル
1は、基材2が厚さ30μmのステンレススティール
(JIS記号でSUS304のもの、以下同様)によっ
て構成されており、その基材2の表面に個体識別情報
(図例では、英数字)aが記録されている。この個体識
別ラベルaは、本発明においては後述するポリイミド樹
脂によって構成されている。
1は、基材2が厚さ30μmのステンレススティール
(JIS記号でSUS304のもの、以下同様)によっ
て構成されており、その基材2の表面に個体識別情報
(図例では、英数字)aが記録されている。この個体識
別ラベルaは、本発明においては後述するポリイミド樹
脂によって構成されている。
【0015】このような個体識別ラベル1は、次のよう
にして製作したものである。先ず、ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物とパラフェニレンジアミンの略等モル
量を、ジメチルアセトアミド中にてモノマー濃度20重
量%で室温下、24時間反応させて
にして製作したものである。先ず、ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物とパラフェニレンジアミンの略等モル
量を、ジメチルアセトアミド中にてモノマー濃度20重
量%で室温下、24時間反応させて
【0016】
【化1】
【0017】にて示されるポリイミド前駆体溶液を得
た。こうして得られたポリイミド前駆体溶液の固形分1
00重量部に対して、
た。こうして得られたポリイミド前駆体溶液の固形分1
00重量部に対して、
【0018】
【化2】
【0019】のうち、R3 およびR4 がメチル基で、X
1 、X2 、X3 およびX4 が水素原子である化合物(以
下、o−NCNという)を30重量部を添加し、均一に
溶解した。
1 、X2 、X3 およびX4 が水素原子である化合物(以
下、o−NCNという)を30重量部を添加し、均一に
溶解した。
【0020】次に、この溶液を厚さ30μmのステンレ
ススティールでなる基材上にコートして、80°Cのホ
ットプレート上で10分間予備乾燥を行い、乾燥膜厚約
5μmの塗膜を形成した。その後、個体識別情報を記録
したマスクを通して250W超高圧水銀灯にガラスフィ
ルターをかけた436nmの波長の活性光線を用い、光
源から30cmのところで3分間、真空密着露光を行っ
た。
ススティールでなる基材上にコートして、80°Cのホ
ットプレート上で10分間予備乾燥を行い、乾燥膜厚約
5μmの塗膜を形成した。その後、個体識別情報を記録
したマスクを通して250W超高圧水銀灯にガラスフィ
ルターをかけた436nmの波長の活性光線を用い、光
源から30cmのところで3分間、真空密着露光を行っ
た。
【0021】露光後、185°Cで10分間加熱した
後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド3重
量%水溶液/メチルアルコール(体積比2/1)からな
る現像液で4分間現像、水でリンスしたところ、光照射
部のみが鮮明に基板上に残存するネガ型パターンを得
た。
後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド3重
量%水溶液/メチルアルコール(体積比2/1)からな
る現像液で4分間現像、水でリンスしたところ、光照射
部のみが鮮明に基板上に残存するネガ型パターンを得
た。
【0022】このパターンは高温加熱(400°C/2
時間)してイミド化した場合、残存膜厚率は約75%で
あった。なお、最終的に得られたポリイミドフィルムは
茶色状であって、基材とコントラストは実用レベルの諸
特性を充分に備えるものであった。
時間)してイミド化した場合、残存膜厚率は約75%で
あった。なお、最終的に得られたポリイミドフィルムは
茶色状であって、基材とコントラストは実用レベルの諸
特性を充分に備えるものであった。
【0023】このようにして得られた個体識別ラベル1
は、300°Cの下に1時間放置しておいても特に劣化
は認められず、また、350°Cに加熱された鉄板と接
触しても、特に劣化(例えば画像転写)は認められなか
った。
は、300°Cの下に1時間放置しておいても特に劣化
は認められず、また、350°Cに加熱された鉄板と接
触しても、特に劣化(例えば画像転写)は認められなか
った。
【0024】これは、上記構成の個体識別ラベル1にお
いては、基材2がステンレススティールによって構成さ
れ、しかもその表面に記録されている個体識別情報aが
上記ポリイミド樹脂により形成されていることで、十分
な耐熱性を持つに到ったからであると考えられる。
いては、基材2がステンレススティールによって構成さ
れ、しかもその表面に記録されている個体識別情報aが
上記ポリイミド樹脂により形成されていることで、十分
な耐熱性を持つに到ったからであると考えられる。
【0025】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、金属板又
は箔でなる基材の表面に個体識別情報をポリイミド樹脂
により形成したので、高温雰囲気下での長時間使用にも
十分に耐えることのできる耐熱性に優れた個体識別ラベ
ルを実現できることとなる。
は箔でなる基材の表面に個体識別情報をポリイミド樹脂
により形成したので、高温雰囲気下での長時間使用にも
十分に耐えることのできる耐熱性に優れた個体識別ラベ
ルを実現できることとなる。
【図1】本発明の実施例を示す個体識別ラベルの平面図
【図2】同個体識別ラベルの拡大縦断面図
1・・・個体識別ラベル 2・・・基材(ステンレススティール) a・・・個体識別情報(ポリイミド樹脂)
Claims (1)
- 【請求項1】 基材の表面に個体識別情報が記録された
個体識別ラベルであって、上記基材が金属板又は箔によ
って構成されているとともに、上記個体識別情報がポリ
イミド樹脂により形成されていることを特徴とする個体
識別ラベル。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5106952A JPH06318038A (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 個体識別ラベル |
US08/237,104 US5521034A (en) | 1993-05-07 | 1994-05-03 | Individual identification label |
EP94107165A EP0623908A1 (en) | 1993-05-07 | 1994-05-06 | Individual identification label |
US08/402,816 US5562993A (en) | 1993-05-07 | 1995-03-10 | Semiconductor device with identification information |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5106952A JPH06318038A (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 個体識別ラベル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06318038A true JPH06318038A (ja) | 1994-11-15 |
Family
ID=14446699
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5106952A Pending JPH06318038A (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 個体識別ラベル |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5521034A (ja) |
EP (1) | EP0623908A1 (ja) |
JP (1) | JPH06318038A (ja) |
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---|---|---|---|---|
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FR2783971B1 (fr) * | 1998-09-30 | 2002-08-23 | St Microelectronics Sa | Circuit semi-conducteur comprenant des motifs en surface et procede de reglage d'un outil par rapport a cette surface |
US6337122B1 (en) | 2000-01-11 | 2002-01-08 | Micron Technology, Inc. | Stereolithographically marked semiconductors devices and methods |
US7135356B2 (en) * | 2002-02-07 | 2006-11-14 | Semiconductor Components Industries, L.L.C. | Semiconductor device and method of producing a high contrast identification mark |
JP3908970B2 (ja) * | 2002-03-18 | 2007-04-25 | 住友化学株式会社 | 光学パネル成形用型並びにその製造及び使用 |
JP2004264415A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Pioneer Electronic Corp | 電子ビーム記録基板 |
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WO2008027702A1 (en) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | 3M Innovative Properties Company | Flame resistant rfid tag and method of making the same |
JP2009170476A (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Panasonic Corp | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP5146490B2 (ja) | 2010-06-07 | 2013-02-20 | 三菱電機株式会社 | 半導体素子 |
CN111105697B (zh) * | 2019-11-27 | 2022-03-11 | 苏州三帆包装材料有限公司 | 一种耐高温的感光标签及其加工方法 |
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DE3411697A1 (de) * | 1984-03-29 | 1985-10-10 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur herstellung von polyimid- und polyisoindolochinazolindion-reliefstrukturen |
JPH0632351B2 (ja) * | 1986-05-30 | 1994-04-27 | 日東電工株式会社 | フレキシブルプリント基板 |
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JP2717188B2 (ja) * | 1988-10-28 | 1998-02-18 | 日東電工株式会社 | 耐熱性表示素材及びラベル |
JPH0498855A (ja) * | 1990-08-16 | 1992-03-31 | Nec Kyushu Ltd | 半導体装置及びその樹脂封止方法 |
JPH0513902A (ja) * | 1990-09-04 | 1993-01-22 | Chisso Corp | フレキシブルプリント基板及びその製造法 |
EP0502400B1 (en) * | 1991-03-05 | 1997-09-17 | Nitto Denko Corporation | Heat-resistant positive photoresist composition, photosensitive substrate, and process for preparing heat-resistant positive pattern |
JP3093055B2 (ja) * | 1992-07-07 | 2000-10-03 | 日東電工株式会社 | 耐熱性ネガ型フォトレジスト組成物および感光性基材、ならびにネガ型パターン形成方法 |
JP2931143B2 (ja) * | 1991-04-15 | 1999-08-09 | 日東電工株式会社 | 耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いた感光性基材ならびにパターン形成方法 |
-
1993
- 1993-05-07 JP JP5106952A patent/JPH06318038A/ja active Pending
-
1994
- 1994-05-03 US US08/237,104 patent/US5521034A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-05-06 EP EP94107165A patent/EP0623908A1/en not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-03-10 US US08/402,816 patent/US5562993A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5562993A (en) | 1996-10-08 |
US5521034A (en) | 1996-05-28 |
EP0623908A1 (en) | 1994-11-09 |
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