JPH06313903A - エレクトロクロミック電極及びその製造方法 - Google Patents
エレクトロクロミック電極及びその製造方法Info
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- JPH06313903A JPH06313903A JP5104507A JP10450793A JPH06313903A JP H06313903 A JPH06313903 A JP H06313903A JP 5104507 A JP5104507 A JP 5104507A JP 10450793 A JP10450793 A JP 10450793A JP H06313903 A JPH06313903 A JP H06313903A
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- electrochromic electrode
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 大面積のエレクトロクロミック電極を均一に
低コストで製膜すること。 【構成】 導電膜（例、ＩＴＯ膜）を形成した基板
（例、ガラス基板）上に、平均粒径０．０１〜０．１μ
ｍのエレクトロクロミック電極材料（好ましくは、平均
径１０〜１００nmのＮｉＯ，ＷＯ3 ，ｅｔｃ．）６０〜
９５重量％と４０〜５重量％の樹脂成分（好ましくはエ
ポキシ樹脂）からなるエレクトロクロミック電極膜をス
ピンコート法などで塗布して形成する。
低コストで製膜すること。 【構成】 導電膜（例、ＩＴＯ膜）を形成した基板
（例、ガラス基板）上に、平均粒径０．０１〜０．１μ
ｍのエレクトロクロミック電極材料（好ましくは、平均
径１０〜１００nmのＮｉＯ，ＷＯ3 ，ｅｔｃ．）６０〜
９５重量％と４０〜５重量％の樹脂成分（好ましくはエ
ポキシ樹脂）からなるエレクトロクロミック電極膜をス
ピンコート法などで塗布して形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエレクトロクロミック電
極及びその製造方法に係る。
極及びその製造方法に係る。
【０００２】
【従来の技術】エレクトロクロミック素子に用いられる
電極は、透明導電膜を形成した後、発色性のエレクトロ
クロミック電極材料である酸化タングステン、酸化ニッ
ケル、酸化イリジウムなどを製膜して得ている。この製
膜法としては、スパッタ法、イオンプレーティング法、
真空蒸着法、化学的気相堆積法、などの乾式法がよく知
られているが、電極材料の金属塩水溶液の熱分解法や、
醋体の分解反応、その他過酸化物の分解等、湿式法によ
る製膜法も提案されている。
電極は、透明導電膜を形成した後、発色性のエレクトロ
クロミック電極材料である酸化タングステン、酸化ニッ
ケル、酸化イリジウムなどを製膜して得ている。この製
膜法としては、スパッタ法、イオンプレーティング法、
真空蒸着法、化学的気相堆積法、などの乾式法がよく知
られているが、電極材料の金属塩水溶液の熱分解法や、
醋体の分解反応、その他過酸化物の分解等、湿式法によ
る製膜法も提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来のエレ
クトロクロミック電極の製膜法では、特に面積の広い素
子を製作する場合、乾式法では真空蒸着設備が大型化
し、費用がかかる難点があり、また乾式法、湿式法と
も、大面積時の電流の均一性が取りにくく、膜厚の均一
性が得られにくいという難点があった。
クトロクロミック電極の製膜法では、特に面積の広い素
子を製作する場合、乾式法では真空蒸着設備が大型化
し、費用がかかる難点があり、また乾式法、湿式法と
も、大面積時の電流の均一性が取りにくく、膜厚の均一
性が得られにくいという難点があった。
【０００４】そこで、本発明は低コストで大面積を均一
に作製できるエレクトロクロミック電極及びその製造方
法を提供することを目的とする。
に作製できるエレクトロクロミック電極及びその製造方
法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、導電膜を形成した基板上のエレクトロク
ロミック電極であって、６０〜９５重量％のエレクトロ
クロミック電極材料と４０〜５重量％の樹脂成分とから
なることを特徴とするエレクトロクロミック電極、及び
エレクトロクロミック電極材料を樹脂成分又はその前駆
体成分の有機溶媒溶液に溶解又は分散した後、導電膜を
形成した基板上に塗布し、乾燥、硬化させることを特徴
とするエレクトロクロミック電極の製造方法を提供す
る。
成するために、導電膜を形成した基板上のエレクトロク
ロミック電極であって、６０〜９５重量％のエレクトロ
クロミック電極材料と４０〜５重量％の樹脂成分とから
なることを特徴とするエレクトロクロミック電極、及び
エレクトロクロミック電極材料を樹脂成分又はその前駆
体成分の有機溶媒溶液に溶解又は分散した後、導電膜を
形成した基板上に塗布し、乾燥、硬化させることを特徴
とするエレクトロクロミック電極の製造方法を提供す
る。
【０００６】すなわち、本発明は、反応硬化性樹脂溶液
中へエレクトロクロミック電極材料を希薄分散液させ、
基板上に塗布することにより、クラックの発生のない、
均一な大面積の薄膜層を得ることができることを見い出
して完成されたものである。エレクトロクロミック電極
材料としては、ＷＯ3 ，ＮｉＯ，ＩｒＯx ，ＭｏＯ 3 ，
ＭｏＳ2 ，Ｖ2 Ｏ5 ，ＭｇＷＯ4 ，Ｎｂ2 Ｏ5 ，ＴｉＯ
2 ，Ｗ4 Ｏ8 （Ｃ2Ｏ4 ）x などの公知のエレクトロク
ロミック電極材料のいずれでもよい。
中へエレクトロクロミック電極材料を希薄分散液させ、
基板上に塗布することにより、クラックの発生のない、
均一な大面積の薄膜層を得ることができることを見い出
して完成されたものである。エレクトロクロミック電極
材料としては、ＷＯ3 ，ＮｉＯ，ＩｒＯx ，ＭｏＯ 3 ，
ＭｏＳ2 ，Ｖ2 Ｏ5 ，ＭｇＷＯ4 ，Ｎｂ2 Ｏ5 ，ＴｉＯ
2 ，Ｗ4 Ｏ8 （Ｃ2Ｏ4 ）x などの公知のエレクトロク
ロミック電極材料のいずれでもよい。
【０００７】これらのエレクトロクロミック電極材料は
超微粒子であることが好ましく、特に平均粒径が０．０
１〜０．１μｍの範囲内であることが好ましい。粒径
０．０１μｍ未満ではエレクトロクロミック電極活性が
安定的に得られにくく、一方粒径０．１μｍ超では粒子
の大きさが大きいため印加によるエレクトロクロミック
反応時に下地層の透明導電膜からのリーク電流が発生し
て、電極のメモリ性能が損なわれ易い。
超微粒子であることが好ましく、特に平均粒径が０．０
１〜０．１μｍの範囲内であることが好ましい。粒径
０．０１μｍ未満ではエレクトロクロミック電極活性が
安定的に得られにくく、一方粒径０．１μｍ超では粒子
の大きさが大きいため印加によるエレクトロクロミック
反応時に下地層の透明導電膜からのリーク電流が発生し
て、電極のメモリ性能が損なわれ易い。
【０００８】粒径０．０１〜０．１μｍの超微粒子の電
極材料はガス中蒸発法によって製造された市販製品がそ
のまま使用できる（日本冶金（株）製ほか）。エレクト
ロクロミック電極層を構成する樹脂成分としては、電解
質溶液に対する安定性、耐熱安定性、紫外線等に対して
も安定なものでなければならない。これらの性状を満足
するものとしては重合性モノマー、あるいは重合性オリ
ゴマーからの反応硬化型樹脂が好ましく、エポキシ系樹
脂ウレタン系樹脂など種々の樹脂が使用できるが、とく
にエポキシ樹脂は好適である。エポキシ樹脂としては、
例えばビスフェノールＡ型（ＤＤＰ）とエピクロルヒド
リン（ＥＣＨ）を反応させアルカリ処理することで得ら
れる樹脂や、ＤＤＰの代わりに２価フェノールを用いる
ことでエポキシ樹脂の主鎖骨格を変更したもの、あるい
はテトラブロモビスフェノールＡ（ＴＢＢＡ）を成分と
する臭素化エポキシ樹脂、フェノールノボラック及びｏ
−クレゾールノボラックから誘導されるノボラック型エ
ポキシ樹脂、あるいは低粘度型のビスフェノールＦ型も
利用できる。このほかグリシジルアミンやグリシジルエ
ステルを用いるエポキシ樹脂、ＥＣＨを使用する代わり
に不飽和二重結合の過酸化物による酸化反応で得られる
エポキシ樹脂、２，６キシレノールを原料とするエポキ
シ樹脂、硬化物の耐熱性を向上させた多官能エポキシ樹
脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、耐水性の向上
のため骨格にフッ素原子を導入した疎水性骨格型エポキ
シ樹脂、耐熱性向上のためイミド環を含むエポキシ樹脂
等が使用できる。エポキシ系樹脂以外の樹脂としてはポ
リウレタン、ポリイミド、不飽和ポリエステル樹脂も使
用可能であり、その他、ウレタンアクリレート、ポリエ
ステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート等の紫
外線硬化型樹脂も使用できる。
極材料はガス中蒸発法によって製造された市販製品がそ
のまま使用できる（日本冶金（株）製ほか）。エレクト
ロクロミック電極層を構成する樹脂成分としては、電解
質溶液に対する安定性、耐熱安定性、紫外線等に対して
も安定なものでなければならない。これらの性状を満足
するものとしては重合性モノマー、あるいは重合性オリ
ゴマーからの反応硬化型樹脂が好ましく、エポキシ系樹
脂ウレタン系樹脂など種々の樹脂が使用できるが、とく
にエポキシ樹脂は好適である。エポキシ樹脂としては、
例えばビスフェノールＡ型（ＤＤＰ）とエピクロルヒド
リン（ＥＣＨ）を反応させアルカリ処理することで得ら
れる樹脂や、ＤＤＰの代わりに２価フェノールを用いる
ことでエポキシ樹脂の主鎖骨格を変更したもの、あるい
はテトラブロモビスフェノールＡ（ＴＢＢＡ）を成分と
する臭素化エポキシ樹脂、フェノールノボラック及びｏ
−クレゾールノボラックから誘導されるノボラック型エ
ポキシ樹脂、あるいは低粘度型のビスフェノールＦ型も
利用できる。このほかグリシジルアミンやグリシジルエ
ステルを用いるエポキシ樹脂、ＥＣＨを使用する代わり
に不飽和二重結合の過酸化物による酸化反応で得られる
エポキシ樹脂、２，６キシレノールを原料とするエポキ
シ樹脂、硬化物の耐熱性を向上させた多官能エポキシ樹
脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、耐水性の向上
のため骨格にフッ素原子を導入した疎水性骨格型エポキ
シ樹脂、耐熱性向上のためイミド環を含むエポキシ樹脂
等が使用できる。エポキシ系樹脂以外の樹脂としてはポ
リウレタン、ポリイミド、不飽和ポリエステル樹脂も使
用可能であり、その他、ウレタンアクリレート、ポリエ
ステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート等の紫
外線硬化型樹脂も使用できる。
【０００９】本発明のエレクトロクロミック電極薄膜
は、エレクトロクロミック電極材料６０〜９５重量％と
樹脂成分４０〜５重量％からなる。エレクトロクロミッ
ク電極材料が６０重量％未満では活物質の単位面積当た
りの密度が少なく、リーク電流が生じやすい。その結果
エレクトロクロミック素子のメモリ性が悪い。またエレ
クトロクロミック電極材料が９０重量％を超えると活物
質の電極面への付着が弱く、剥離が生じやすい。代表的
には、１０ｇに対してエポキシ樹脂１．６〜３．９ｇ、
より好ましくは２．５〜３．３ｇのごとき組成とする。
は、エレクトロクロミック電極材料６０〜９５重量％と
樹脂成分４０〜５重量％からなる。エレクトロクロミッ
ク電極材料が６０重量％未満では活物質の単位面積当た
りの密度が少なく、リーク電流が生じやすい。その結果
エレクトロクロミック素子のメモリ性が悪い。またエレ
クトロクロミック電極材料が９０重量％を超えると活物
質の電極面への付着が弱く、剥離が生じやすい。代表的
には、１０ｇに対してエポキシ樹脂１．６〜３．９ｇ、
より好ましくは２．５〜３．３ｇのごとき組成とする。
【００１０】本発明のエレクトロクロミック電極の製膜
法としてはスピンコート印刷、ディップ法、バーコード
印刷法、などを採用することができる。製膜時に塗工液
の粘度を調整するために有機溶剤を用い、例えば、Ｎ−
メチルピロリドン、トルエン、エチルセルロース及びそ
の異性体、ニトロメタン、ベンゾール系溶剤、イソプロ
ピルアルコール、シクロヘキサノール、ブチルアルコー
ル、ベンジルアルコール等アルコール類が使用可能であ
るが、これに限定されない。
法としてはスピンコート印刷、ディップ法、バーコード
印刷法、などを採用することができる。製膜時に塗工液
の粘度を調整するために有機溶剤を用い、例えば、Ｎ−
メチルピロリドン、トルエン、エチルセルロース及びそ
の異性体、ニトロメタン、ベンゾール系溶剤、イソプロ
ピルアルコール、シクロヘキサノール、ブチルアルコー
ル、ベンジルアルコール等アルコール類が使用可能であ
るが、これに限定されない。
【００１１】粘度（濃度）は塗工法、溶媒の種類、印刷
すべき基板の大きさに依存する。上記組成物を塗布後、
乾燥、硬化せしめてエレクトロクロミック電極を得る。
基板としては、典型的には、透明導電膜（ＩＴＯ膜）を
形成したガラス基板を用いる。図１に、透過型エレクト
ロクロミック素子の構成例を示す。
すべき基板の大きさに依存する。上記組成物を塗布後、
乾燥、硬化せしめてエレクトロクロミック電極を得る。
基板としては、典型的には、透明導電膜（ＩＴＯ膜）を
形成したガラス基板を用いる。図１に、透過型エレクト
ロクロミック素子の構成例を示す。
【００１２】一方のエレクトロクロミック電極はガラス
基板１表面にＩＴＯ透明導電膜２を介して還元発色型の
ＷＯ3 ，ＭＯ3 などのエレクトロクロミック電極膜３を
形成したもの、他方の電極もガラス基板４表面にＩＴＯ
透明導電膜５を介して酸化発色型のＮｉＯエレクトロク
ロミック電極膜６を形成したものである。電極間には電
解質層７を設ける。電解質層７は電解液層のほか固体電
解質層でもよい。
基板１表面にＩＴＯ透明導電膜２を介して還元発色型の
ＷＯ3 ，ＭＯ3 などのエレクトロクロミック電極膜３を
形成したもの、他方の電極もガラス基板４表面にＩＴＯ
透明導電膜５を介して酸化発色型のＮｉＯエレクトロク
ロミック電極膜６を形成したものである。電極間には電
解質層７を設ける。電解質層７は電解液層のほか固体電
解質層でもよい。
【００１３】電解質としては、プロピレンカーボネー
ト、ジメトキシエタン、スルフォラン、ジメチルサルフ
ォキサイド、γ−ブチロラクトンなどの有機溶液に過塩
素酸リチウム、トリフルオロメタンスルフォン酸リチウ
ム、過塩素酸ナトリウム等のリチウム等アルカリ金属イ
オン供与性の塩及び／あるいは燐酸などのプロトン供与
性の酸を添加した電解質溶液が使用可能である。
ト、ジメトキシエタン、スルフォラン、ジメチルサルフ
ォキサイド、γ−ブチロラクトンなどの有機溶液に過塩
素酸リチウム、トリフルオロメタンスルフォン酸リチウ
ム、過塩素酸ナトリウム等のリチウム等アルカリ金属イ
オン供与性の塩及び／あるいは燐酸などのプロトン供与
性の酸を添加した電解質溶液が使用可能である。
【００１４】また、本出願人が先に開示しているような
ベンゾニトリル、ベンジルシアナイド、１−フェニル−
１−シクロプロパンカルボニトリル、ＤＬ−２−フェニ
ルブチロニトリル、２，２−ジフェニルプロピオニトリ
ル、４−フェニルブチロニトリルの少なくとも１種とポ
リエチレングリコールジメチルエーテル、及びアルカリ
金属塩を主成分とするエレクトロクロミック素子用電解
質溶液が使用可能であるが（特願平５−２５７０２号ほ
か）、これに限定されない。
ベンゾニトリル、ベンジルシアナイド、１−フェニル−
１−シクロプロパンカルボニトリル、ＤＬ−２−フェニ
ルブチロニトリル、２，２−ジフェニルプロピオニトリ
ル、４−フェニルブチロニトリルの少なくとも１種とポ
リエチレングリコールジメチルエーテル、及びアルカリ
金属塩を主成分とするエレクトロクロミック素子用電解
質溶液が使用可能であるが（特願平５−２５７０２号ほ
か）、これに限定されない。
【００１５】さらに、同じく本出願人が先に開示してい
る高分子多孔質膜の空孔中に電解液を固定化した固体高
分子電解質膜を使用してもよい（特願平２−４８４９０
号ほか）。このような電解質薄膜は固体として取り扱う
ことができ、液漏れの心配がなくしかも薄膜化が可能で
あるためイオン伝導性に優れることができる。含浸させ
る高分子多孔膜としては、膜厚が１ミクロン〜５０ミク
ロン、空孔率が４０〜９０％、破断強度が２００kg／cm
2 以上、平均貫通孔径が０．００１ミクロン〜０．７ミ
クロンのものが好ましく使用される。薄膜の材料として
は、化学的、電気化学的安定性の面から例えばポリオレ
フィン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニ
リデンなどを用いることができる。ポリオレフィンを用
いるに際しては、特に重量平均分子量が５×１０5 以上
のポリオレフィンが好適である。
る高分子多孔質膜の空孔中に電解液を固定化した固体高
分子電解質膜を使用してもよい（特願平２−４８４９０
号ほか）。このような電解質薄膜は固体として取り扱う
ことができ、液漏れの心配がなくしかも薄膜化が可能で
あるためイオン伝導性に優れることができる。含浸させ
る高分子多孔膜としては、膜厚が１ミクロン〜５０ミク
ロン、空孔率が４０〜９０％、破断強度が２００kg／cm
2 以上、平均貫通孔径が０．００１ミクロン〜０．７ミ
クロンのものが好ましく使用される。薄膜の材料として
は、化学的、電気化学的安定性の面から例えばポリオレ
フィン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニ
リデンなどを用いることができる。ポリオレフィンを用
いるに際しては、特に重量平均分子量が５×１０5 以上
のポリオレフィンが好適である。
【００１６】特にポリオレフィンなどの微多孔膜の細孔
に含浸させて用いる場合には、通常屈折率が１．４８〜
１．５８程度になるようにする必要があるが、特にヘイ
ズ率を５％以下に押さえる場合では、マトリックスの屈
折率と電解質溶液の屈折率をより合わせる必要があるた
め、例えばポリエチレン微多孔膜を使用する場合でヘイ
ズ率を３％以下にする場合は、屈折率を１．５２３〜
１．５６４程度にする必要がある。
に含浸させて用いる場合には、通常屈折率が１．４８〜
１．５８程度になるようにする必要があるが、特にヘイ
ズ率を５％以下に押さえる場合では、マトリックスの屈
折率と電解質溶液の屈折率をより合わせる必要があるた
め、例えばポリエチレン微多孔膜を使用する場合でヘイ
ズ率を３％以下にする場合は、屈折率を１．５２３〜
１．５６４程度にする必要がある。
【００１７】
【実施例】実施例１． イオンプレーティングでＩＴＯ（酸化インジウム／
酸化錫）を１６００オングストローム厚製膜した１００
mm角１．１mm厚ノンアルカリガラス上に平均粒径０．０
３μｍのＮｉＯ超微粒子の有機溶媒分散液をスピンコー
トした。分散溶液は、ＮｉＯ １０ｇ、ビスフェノール
とエピクロールヒドリンを１００℃で加熱縮合させて得
たエポキシ樹脂３．１ｇをＮ−メチルピロリドン５０cc
／トルエン５ccを加えて得た。溶液を１次回転数７００
／分、２次回転数１６００／分でスピンコートし、乾燥
後６３００Åのエレクトロクロミック電極を得た。
酸化錫）を１６００オングストローム厚製膜した１００
mm角１．１mm厚ノンアルカリガラス上に平均粒径０．０
３μｍのＮｉＯ超微粒子の有機溶媒分散液をスピンコー
トした。分散溶液は、ＮｉＯ １０ｇ、ビスフェノール
とエピクロールヒドリンを１００℃で加熱縮合させて得
たエポキシ樹脂３．１ｇをＮ−メチルピロリドン５０cc
／トルエン５ccを加えて得た。溶液を１次回転数７００
／分、２次回転数１６００／分でスピンコートし、乾燥
後６３００Åのエレクトロクロミック電極を得た。
【００１８】 イオンプレーティングでＩＴＯ（酸化
インジウム／酸化錫）を１６００オングストローム厚製
膜した１００mm角１．１mm厚ノンアルカリガラス上に酸
化タングステン（高純度化学製）を３６００オングスト
ローム厚イオンプレーティングして、酸化タングステン
電極を得た。 ２５ミクロン厚ポリエチレン微多孔膜（平均空孔径
０．０３μｍ、空孔率５６％）にＤＬ−２−フェニルブ
チロニトリル３８wt％、２，２ジフェニルプロピオニト
リル３８wt％、ポリエチレングリコールジメチルエーテ
ル１９wt％、過塩素酸リチウム５wt％からなる電解質溶
液（電解質溶液）を多孔膜の空孔中に含浸させて固定
化し、固体電解質を製作した。
インジウム／酸化錫）を１６００オングストローム厚製
膜した１００mm角１．１mm厚ノンアルカリガラス上に酸
化タングステン（高純度化学製）を３６００オングスト
ローム厚イオンプレーティングして、酸化タングステン
電極を得た。 ２５ミクロン厚ポリエチレン微多孔膜（平均空孔径
０．０３μｍ、空孔率５６％）にＤＬ−２−フェニルブ
チロニトリル３８wt％、２，２ジフェニルプロピオニト
リル３８wt％、ポリエチレングリコールジメチルエーテ
ル１９wt％、過塩素酸リチウム５wt％からなる電解質溶
液（電解質溶液）を多孔膜の空孔中に含浸させて固定
化し、固体電解質を製作した。
【００１９】 電極及びの間にをはさみ、ＩＴ
Ｏ導電膜に接続端子を取付けた後、エポキシ接着剤で基
板及び電解質層の周辺端面をシールしてエレクトロクロ
ミック素子を製作した。酸化タングステン電極／酸化ニ
ッケル間にマイナス１．５〔ｖ〕及びプラス０．５
〔ｖ〕のステップ電圧（各４０秒）かけて測定した注入
電荷量は２．４〔mC／cm2 〕であった。透過率変化は、
消色時７４．３％、着色時４０．３％、ヘイズ率は２．
２％であった。
Ｏ導電膜に接続端子を取付けた後、エポキシ接着剤で基
板及び電解質層の周辺端面をシールしてエレクトロクロ
ミック素子を製作した。酸化タングステン電極／酸化ニ
ッケル間にマイナス１．５〔ｖ〕及びプラス０．５
〔ｖ〕のステップ電圧（各４０秒）かけて測定した注入
電荷量は２．４〔mC／cm2 〕であった。透過率変化は、
消色時７４．３％、着色時４０．３％、ヘイズ率は２．
２％であった。
【００２０】このエレクトロクロミック素子は、消色時
の透明性が高く、粒子散乱によるヘイズ率が低く、注入
電荷量が大きく、メモリ性が高いことが確認された。
の透明性が高く、粒子散乱によるヘイズ率が低く、注入
電荷量が大きく、メモリ性が高いことが確認された。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、大面積のエレクトロク
ロミック電極膜を低コストで均一に製膜することが可能
である。
ロミック電極膜を低コストで均一に製膜することが可能
である。
【図１】エレクトロクロミック素子の模式図である。
１，４…ガラス基板 ２，５…ＩＴＯ膜 ３，６…エレクトロクロミック電極 ７…電解質層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 櫻田 智 埼玉県入間郡大井町西鶴ヶ岡１丁目３番１ 号 東燃株式会社総合研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 導電膜を形成した基板上のエレクトロク
ロミック電極であって、平均粒径が０．０１〜０．１μ
ｍの金属化合物からなる電極材料６０〜９５重量％と樹
脂成分４０〜５重量％とからなることを特徴とするエレ
クトロクロミック電極。 - 【請求項２】 エレクトロクロミック電極材料を樹脂成
分又はその前駆体成分の有機溶媒溶液に溶解又は分散し
た後、透明導電膜を形成した基板上に塗布し、乾燥、硬
化させることを特徴とするエレクトロクロミック電極の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5104507A JPH06313903A (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | エレクトロクロミック電極及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5104507A JPH06313903A (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | エレクトロクロミック電極及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06313903A true JPH06313903A (ja) | 1994-11-08 |
Family
ID=14382415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5104507A Pending JPH06313903A (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | エレクトロクロミック電極及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06313903A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105553035A (zh) * | 2016-02-01 | 2016-05-04 | 蔡雄 | 一种基于可视化调节功能充电面板的电动车快速充电站 |
-
1993
- 1993-04-30 JP JP5104507A patent/JPH06313903A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105553035A (zh) * | 2016-02-01 | 2016-05-04 | 蔡雄 | 一种基于可视化调节功能充电面板的电动车快速充电站 |
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