JPH06312132A - 炭化水素の吸着剤及び吸着除去方法 - Google Patents
炭化水素の吸着剤及び吸着除去方法Info
- Publication number
- JPH06312132A JPH06312132A JP5102188A JP10218893A JPH06312132A JP H06312132 A JPH06312132 A JP H06312132A JP 5102188 A JP5102188 A JP 5102188A JP 10218893 A JP10218893 A JP 10218893A JP H06312132 A JPH06312132 A JP H06312132A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adsorbent
- crystalline silicate
- hydrocarbon
- exhaust gas
- molecular sieve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 炭化水素を浄化する吸着剤及び炭化水素の吸
着除去方法に関する。 【構成】 銀を担持してなる分子篩構造をもつ結晶性シ
リケートよりなり、かつ分子篩構造をもつ結晶性シリケ
ートが脱水された状態において酸化物のモル比で表わし
て、 （１±０．６）Ｒ2 Ｏ・〔ａＭ2 Ｏ3 ・ｂＡｌ2 Ｏ3 ・
ｃＭｅＯ〕・ｙＳｉＯ2 （上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は水素イ
オン、ＭはVIII族金属、希土類金属、チタン、バナジウ
ム、クロム、ニオブ、アンチモン及びガリウムからなる
群から選ばれた１種以上の金属、Ｍｅはアルカリ土類金
属、ａ≧０，ｂ≧０，ｃ≧０，ａ＋ｂ＝１，ｙ／ｃ＞１
２，ｙ＞１２）の化学式を有し、かつ本文で詳記する表
Ａに示されるＸ線回折パターンを有する結晶性シリケー
トである炭化水素の吸着剤。
着除去方法に関する。 【構成】 銀を担持してなる分子篩構造をもつ結晶性シ
リケートよりなり、かつ分子篩構造をもつ結晶性シリケ
ートが脱水された状態において酸化物のモル比で表わし
て、 （１±０．６）Ｒ2 Ｏ・〔ａＭ2 Ｏ3 ・ｂＡｌ2 Ｏ3 ・
ｃＭｅＯ〕・ｙＳｉＯ2 （上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は水素イ
オン、ＭはVIII族金属、希土類金属、チタン、バナジウ
ム、クロム、ニオブ、アンチモン及びガリウムからなる
群から選ばれた１種以上の金属、Ｍｅはアルカリ土類金
属、ａ≧０，ｂ≧０，ｃ≧０，ａ＋ｂ＝１，ｙ／ｃ＞１
２，ｙ＞１２）の化学式を有し、かつ本文で詳記する表
Ａに示されるＸ線回折パターンを有する結晶性シリケー
トである炭化水素の吸着剤。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、内燃機関などより排出
される炭化水素（以下、ＨＣと略称）を浄化する吸着剤
及びＨＣの吸着除去方法に関する。
される炭化水素（以下、ＨＣと略称）を浄化する吸着剤
及びＨＣの吸着除去方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、触媒コンバータの開発により、ガ
ソリン自動車からの排ガスはますます浄化される方向に
ある。しかし、触媒が作用する温度は２００℃以上の高
温であり、始動時などの低温時では内燃機関から発生す
る未燃のＨＣなどがそのまま大気中に排出される問題は
依然として残っている。
ソリン自動車からの排ガスはますます浄化される方向に
ある。しかし、触媒が作用する温度は２００℃以上の高
温であり、始動時などの低温時では内燃機関から発生す
る未燃のＨＣなどがそのまま大気中に排出される問題は
依然として残っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記状況を鑑み、低温
時で発生するＨＣなどを吸着剤を用いて吸着除去する試
みはこれまで多くの研究機関にて実施されてきた。例え
ば、活性炭を吸着剤として用いた場合、低温域では未燃
のＨＣを多く吸着するが高温域では活性炭そのものに酸
化作用がないため、吸着したＨＣがそのまま脱離して大
気中に放出されてしまう問題点がある。さらに活性炭は
有機系吸着剤であるので高温域で活性炭自身が燃焼発火
してしまう危険が残っている。一方、無機系の吸着剤と
してはアルミナ、シリカなどがあげられるが、ＨＣを吸
着する容量が少ないため多量の吸着剤を必要とする不具
合が生じている。そのため、低温にてＨＣを多量に吸着
し、高温にて吸着したＨＣを燃焼除去して自己再生する
ことが可能な吸着剤の適用が待ち望まれていた。
時で発生するＨＣなどを吸着剤を用いて吸着除去する試
みはこれまで多くの研究機関にて実施されてきた。例え
ば、活性炭を吸着剤として用いた場合、低温域では未燃
のＨＣを多く吸着するが高温域では活性炭そのものに酸
化作用がないため、吸着したＨＣがそのまま脱離して大
気中に放出されてしまう問題点がある。さらに活性炭は
有機系吸着剤であるので高温域で活性炭自身が燃焼発火
してしまう危険が残っている。一方、無機系の吸着剤と
してはアルミナ、シリカなどがあげられるが、ＨＣを吸
着する容量が少ないため多量の吸着剤を必要とする不具
合が生じている。そのため、低温にてＨＣを多量に吸着
し、高温にて吸着したＨＣを燃焼除去して自己再生する
ことが可能な吸着剤の適用が待ち望まれていた。
【０００４】本発明は上記技術水準に鑑み、低温にてＨ
Ｃを多量に吸着し、高温にて吸着したＨＣを燃焼除去し
て自己再生することが可能な吸着剤及びそれらの吸着剤
を用いて内燃機関などから発生するＨＣを吸着除去しう
る方法を提供しようとするものである。
Ｃを多量に吸着し、高温にて吸着したＨＣを燃焼除去し
て自己再生することが可能な吸着剤及びそれらの吸着剤
を用いて内燃機関などから発生するＨＣを吸着除去しう
る方法を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、これまで
前記目的に合った吸着剤の開発の検討を行ってきたとこ
ろ、銀を担持した特殊の分子篩構造をもつ結晶性シリケ
ートが好ましい吸着剤であることを見い出し、本発明を
完成するに至った。
前記目的に合った吸着剤の開発の検討を行ってきたとこ
ろ、銀を担持した特殊の分子篩構造をもつ結晶性シリケ
ートが好ましい吸着剤であることを見い出し、本発明を
完成するに至った。
【０００６】すなわち本発明は （１）銀を担持してなる分子篩構造をもつ結晶性シリケ
ートよりなり、かつ分子篩構造をもつ結晶性シリケート
が脱水された状態において酸化物のモル比で表わして、 （１±０．６）Ｒ2 Ｏ・〔ａＭ2 Ｏ3 ・ｂＡｌ2 Ｏ3 ・
ｃＭｅＯ〕・ｙＳｉＯ2 （上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は水素イ
オン、ＭはVIII族金属、希土類金属、チタン、バナジウ
ム、クロム、ニオブ、アンチモン及びガリウムからなる
群から選ばれた１種以上の金属、Ｍｅはアルカリ土類金
属、ａ≧０，ｂ≧０，ｃ≧０，ａ＋ｂ＝１，ｙ／ｃ＞１
２，ｙ＞１２）の化学式を有し、かつ下記で詳記する表
Ａに示されるＸ線回折パターンを有する結晶性シリケー
トであることを特徴とする炭化水素の吸着剤 （２）分子篩構造をもつ結晶性シリケートが予め合成し
た結晶性シリケートを母結晶とし、その外表面に母結晶
と同一の結晶構造を有するＳｉとＯよりなる結晶性シリ
ケートを成長してなり、かつ本文で詳記する表Ａに示さ
れるＸ線パターンを有する層状複合結晶性シリケートで
あることを特徴とする上記（１）記載の炭化水素の吸着
剤、 （３）分子篩構造をもつ結晶性シリケートがＹ型ゼオラ
イト、モルデナイト、Ｌ型ゼオライト、クリノプチロラ
イト、Ａ型ゼオライト、フェリエライト、ＺＳＭ−５型
ゼオライトであることを特徴とする上記（１）記載の炭
化水素の吸着剤、 （４）上記（１）〜（３）いずれかの銀を担持してなる
分子篩構造をもつ結晶性シリケートに、さらにコバル
ト、ニッケル、クロム、鉄、マンガン、イリジウム、
金、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム及びバナ
ジウムからなる群から選ばれた１種以上の金属を担持し
てなることを特徴とする炭化水素の吸着剤、 （５）内燃機関などの起動時における排ガス中の炭化水
素を除去するにあたり、低温時の排ガスを上記（１）〜
（４）いずれかの炭化水素の吸着剤と接触させて該排ガ
ス中の炭化水素を吸着除去させ、その後該吸着剤を高温
条件にして吸着炭化水素を燃焼除去すると共に、吸着剤
を再生することを特徴とする炭化水素の吸着除去方法、 （６）炭化水素の吸着剤の内部を切り抜き、切り抜き箇
所に切り換え弁を設置し、低温時の排ガス中の炭化水素
を吸着剤に吸着させる場合は該切り換え弁を閉めて排ガ
スと吸着剤を接触させて吸着剤に炭化水素を吸着させ、
吸着炭化水素を燃焼除去する場合は切り換え弁を開けて
高温排ガスを切り抜き箇所を通してパージさせて吸着剤
を高温条件にすることを特徴とする上記（５）記載の炭
化水素の吸着除去方法、である。
ートよりなり、かつ分子篩構造をもつ結晶性シリケート
が脱水された状態において酸化物のモル比で表わして、 （１±０．６）Ｒ2 Ｏ・〔ａＭ2 Ｏ3 ・ｂＡｌ2 Ｏ3 ・
ｃＭｅＯ〕・ｙＳｉＯ2 （上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は水素イ
オン、ＭはVIII族金属、希土類金属、チタン、バナジウ
ム、クロム、ニオブ、アンチモン及びガリウムからなる
群から選ばれた１種以上の金属、Ｍｅはアルカリ土類金
属、ａ≧０，ｂ≧０，ｃ≧０，ａ＋ｂ＝１，ｙ／ｃ＞１
２，ｙ＞１２）の化学式を有し、かつ下記で詳記する表
Ａに示されるＸ線回折パターンを有する結晶性シリケー
トであることを特徴とする炭化水素の吸着剤 （２）分子篩構造をもつ結晶性シリケートが予め合成し
た結晶性シリケートを母結晶とし、その外表面に母結晶
と同一の結晶構造を有するＳｉとＯよりなる結晶性シリ
ケートを成長してなり、かつ本文で詳記する表Ａに示さ
れるＸ線パターンを有する層状複合結晶性シリケートで
あることを特徴とする上記（１）記載の炭化水素の吸着
剤、 （３）分子篩構造をもつ結晶性シリケートがＹ型ゼオラ
イト、モルデナイト、Ｌ型ゼオライト、クリノプチロラ
イト、Ａ型ゼオライト、フェリエライト、ＺＳＭ−５型
ゼオライトであることを特徴とする上記（１）記載の炭
化水素の吸着剤、 （４）上記（１）〜（３）いずれかの銀を担持してなる
分子篩構造をもつ結晶性シリケートに、さらにコバル
ト、ニッケル、クロム、鉄、マンガン、イリジウム、
金、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム及びバナ
ジウムからなる群から選ばれた１種以上の金属を担持し
てなることを特徴とする炭化水素の吸着剤、 （５）内燃機関などの起動時における排ガス中の炭化水
素を除去するにあたり、低温時の排ガスを上記（１）〜
（４）いずれかの炭化水素の吸着剤と接触させて該排ガ
ス中の炭化水素を吸着除去させ、その後該吸着剤を高温
条件にして吸着炭化水素を燃焼除去すると共に、吸着剤
を再生することを特徴とする炭化水素の吸着除去方法、 （６）炭化水素の吸着剤の内部を切り抜き、切り抜き箇
所に切り換え弁を設置し、低温時の排ガス中の炭化水素
を吸着剤に吸着させる場合は該切り換え弁を閉めて排ガ
スと吸着剤を接触させて吸着剤に炭化水素を吸着させ、
吸着炭化水素を燃焼除去する場合は切り換え弁を開けて
高温排ガスを切り抜き箇所を通してパージさせて吸着剤
を高温条件にすることを特徴とする上記（５）記載の炭
化水素の吸着除去方法、である。
【０００７】
【表１】 Ｗ：弱 Ｍ：中級 Ｓ：強 ＶＳ：非常に強 （照射は銅のＫα線） （Ｉ0 は最も強いピーク強度でＩ／Ｉ0 は相対強度）
【０００８】
【作用】本発明における分子篩構造をもつ結晶性シリケ
ートは前記表Ａで示されるＸ線回折パターンを有し、脱
水された状態において酸化物のモル比で表わして （１±０．６）Ｒ2 Ｏ・〔ａＭ2 Ｏ3 ・ｂＡｌ2 Ｏ3 ・
ｃＭｅＯ〕・ｙＳｉＯ2 （上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は水素イ
オン、ＭはVIII族元素、希土類元素、チタン、バナジウ
ム、クロム、ニオブ、アンチモン及びガリウムからなる
群より選ばれた少なくとも１種以上の金属、Ｍｅはマグ
ネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムのア
ルカリ土類金属、ａ≧０，ｂ≧０，ｃ≧０，ａ＋ｂ＝
１，ｙ／ｃ＞１２，ｙ＞１２）なる化学式を有する結晶
性シリケートがあげられる。
ートは前記表Ａで示されるＸ線回折パターンを有し、脱
水された状態において酸化物のモル比で表わして （１±０．６）Ｒ2 Ｏ・〔ａＭ2 Ｏ3 ・ｂＡｌ2 Ｏ3 ・
ｃＭｅＯ〕・ｙＳｉＯ2 （上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は水素イ
オン、ＭはVIII族元素、希土類元素、チタン、バナジウ
ム、クロム、ニオブ、アンチモン及びガリウムからなる
群より選ばれた少なくとも１種以上の金属、Ｍｅはマグ
ネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムのア
ルカリ土類金属、ａ≧０，ｂ≧０，ｃ≧０，ａ＋ｂ＝
１，ｙ／ｃ＞１２，ｙ＞１２）なる化学式を有する結晶
性シリケートがあげられる。
【０００９】また、結晶性シリケートが予め合成した上
記結晶性シリケートを母結晶とし、その母結晶の外表面
に母結晶と同一の結晶構造を有するＳｉとＯよりなる結
晶性シリケートを成長させた層状複合結晶性シリケート
であり、耐熱、耐スチーム安定性を高めた結晶性シリケ
ートでもよく、さらに結晶性シリケートがＹ型ゼオライ
ト、モルデナイト、Ｌ型ゼオライト、クリノプチロライ
ト、Ａ型ゼオライト、フェリエライト、ＺＳＭ−５型ゼ
オライトでも十分吸着剤として有効である。
記結晶性シリケートを母結晶とし、その母結晶の外表面
に母結晶と同一の結晶構造を有するＳｉとＯよりなる結
晶性シリケートを成長させた層状複合結晶性シリケート
であり、耐熱、耐スチーム安定性を高めた結晶性シリケ
ートでもよく、さらに結晶性シリケートがＹ型ゼオライ
ト、モルデナイト、Ｌ型ゼオライト、クリノプチロライ
ト、Ａ型ゼオライト、フェリエライト、ＺＳＭ−５型ゼ
オライトでも十分吸着剤として有効である。
【００１０】さらに上記結晶性シリケートに担持する金
属として銀のみ、または銀とコバルト、ニッケル、クロ
ム、鉄、マンガン、イリジウム、金、白金、パラジウ
ム、ルテニウム、ロジウム及びバナジウムからなる群か
ら選ばれた１種以上の金属を担持共存させた吸着剤を用
いてＨＣの吸着力、酸化力を制御させることもできる。
属として銀のみ、または銀とコバルト、ニッケル、クロ
ム、鉄、マンガン、イリジウム、金、白金、パラジウ
ム、ルテニウム、ロジウム及びバナジウムからなる群か
ら選ばれた１種以上の金属を担持共存させた吸着剤を用
いてＨＣの吸着力、酸化力を制御させることもできる。
【００１１】分子篩構造を有する結晶性シリケートに銀
を含有させる方法としては硝酸銀などの水溶液を用いて
イオン交換法あるいは含浸法を用いて担持する方法が好
ましい。
を含有させる方法としては硝酸銀などの水溶液を用いて
イオン交換法あるいは含浸法を用いて担持する方法が好
ましい。
【００１２】なお、銀とコバルト、ニッケル、クロム、
鉄、マンガン、イリジウム、金、白金、パラジウム、ル
テニウム、ロジウム、バナジウムを結晶性シリケートに
担持させる方法としては、各金属の硝酸塩などの水溶液
を用いて共イオン交換法あるいは共含浸法によって行う
方法があげられる。
鉄、マンガン、イリジウム、金、白金、パラジウム、ル
テニウム、ロジウム、バナジウムを結晶性シリケートに
担持させる方法としては、各金属の硝酸塩などの水溶液
を用いて共イオン交換法あるいは共含浸法によって行う
方法があげられる。
【００１３】本発明のＨＣ吸着剤をガソリンエンジンの
三元触媒（通常、Ｐｔ，Ｒｈ系の貴金属を含有した触媒
で、理論空燃比付近でＮＯｘ，ＣＯ，ＨＣを同時に除去
できる触媒）の後流に据え付ける場合、起動時の排ガス
の温度は通常室温〜約１００℃であり、この温度域にて
多量のＨＣを吸着することができる。三元触媒が作用す
る温度は約２００℃以上であり、排ガス温度が２５０℃
以上ではＨＣは三元触媒によって除去できる。そこで三
元触媒の後流に本発明ＨＣ吸着剤を設置し、三元触媒が
作用しない２００℃以下でのＨＣを吸着させて系外への
ＨＣの排出を防ぐ。暖気が進み、吸着剤の温度が約１５
０℃以上になると吸着したＨＣが燃焼されてＨ2 Ｏ，Ｃ
Ｏ2 となり、脱離されてＨＣ吸着剤は再生され、再び低
温域にて未燃のＨＣを吸着するようになる。
三元触媒（通常、Ｐｔ，Ｒｈ系の貴金属を含有した触媒
で、理論空燃比付近でＮＯｘ，ＣＯ，ＨＣを同時に除去
できる触媒）の後流に据え付ける場合、起動時の排ガス
の温度は通常室温〜約１００℃であり、この温度域にて
多量のＨＣを吸着することができる。三元触媒が作用す
る温度は約２００℃以上であり、排ガス温度が２５０℃
以上ではＨＣは三元触媒によって除去できる。そこで三
元触媒の後流に本発明ＨＣ吸着剤を設置し、三元触媒が
作用しない２００℃以下でのＨＣを吸着させて系外への
ＨＣの排出を防ぐ。暖気が進み、吸着剤の温度が約１５
０℃以上になると吸着したＨＣが燃焼されてＨ2 Ｏ，Ｃ
Ｏ2 となり、脱離されてＨＣ吸着剤は再生され、再び低
温域にて未燃のＨＣを吸着するようになる。
【００１４】また、本発明のＨＣ吸着剤を用いて、ＨＣ
を吸着除去するシステムを考える場合、ガス量の大小に
よる圧力損失を考慮に入れる必要がある。通常、低温起
動時はガス量が少ないため、ＨＣを含有する排ガスを全
量ＨＣ吸着剤に流通させてもよいが、高温時ではガス量
も多くなるので、吸着剤に全量ガスを流して吸着したＨ
Ｃを燃焼除去してＨＣ吸着剤を再生させると、圧損失や
吸着剤寿命に影響を与えることもある。この場合、ＨＣ
吸着剤の内部を切り抜き、この切り抜き場所に弁を設置
し、低温時でＨＣを吸着させる時は弁を閉め、ＨＣ吸着
剤にＨＣを含むガスを流してＨＣを吸着させ、一方、高
温時でガス量が多い時は圧力損失を少なくするため、弁
を開け排ガスをそのままパージする方法をとり、この場
合、吸着したＨＣはＨＣ吸着剤の酸化作用により燃焼除
去されるが、生じたＣＯ2 ，Ｈ2Ｏは自己拡散によりパ
ージされ系外へ排出され、ＨＣ吸着剤が再生される方法
を採用することが好ましい。
を吸着除去するシステムを考える場合、ガス量の大小に
よる圧力損失を考慮に入れる必要がある。通常、低温起
動時はガス量が少ないため、ＨＣを含有する排ガスを全
量ＨＣ吸着剤に流通させてもよいが、高温時ではガス量
も多くなるので、吸着剤に全量ガスを流して吸着したＨ
Ｃを燃焼除去してＨＣ吸着剤を再生させると、圧損失や
吸着剤寿命に影響を与えることもある。この場合、ＨＣ
吸着剤の内部を切り抜き、この切り抜き場所に弁を設置
し、低温時でＨＣを吸着させる時は弁を閉め、ＨＣ吸着
剤にＨＣを含むガスを流してＨＣを吸着させ、一方、高
温時でガス量が多い時は圧力損失を少なくするため、弁
を開け排ガスをそのままパージする方法をとり、この場
合、吸着したＨＣはＨＣ吸着剤の酸化作用により燃焼除
去されるが、生じたＣＯ2 ，Ｈ2Ｏは自己拡散によりパ
ージされ系外へ排出され、ＨＣ吸着剤が再生される方法
を採用することが好ましい。
【００１５】
（実施例１）水ガラス１号（ＳｉＯ2 ：３０％）：５６
１６ｇを水：５４２９ｇに溶解し、この溶液を溶液Ａと
する。一方、水：４１７５ｇに硫酸アルミニウム：７１
８．９ｇ、塩化第二鉄：１１０ｇ、酢酸カルシウム：４
７．２ｇ、塩化ナトリウム：２６２ｇ、濃塩酸：２０２
０ｇを溶解し、この溶液を溶液Ｂとする。溶液Ａと溶液
Ｂを一定割合で供給して沈殿を生成させ、十分攪拌して
ｐＨ＝８．０のスラリを得る。このスラリを２０リット
ルのオートクレーブに仕込み、さらにテトラプロピルア
ンモニウムブロマイドを５００ｇ添加し、１６０℃にて
７２時間水熱合成を行い、合成後水洗して乾燥させ、さ
らに５００℃、３時間焼成させ結晶性シリケート１を得
る。この結晶性シリケートは酸化物のモル比で（結晶水
を省く）下記の組成式で表され、結晶構造はＸ線回折で
前記表Ａにて表示されるものである。 ０．５Ｎａ2 Ｏ・０．５Ｈ2 Ｏ・〔０．８Ａｌ2 Ｏ3 ・
０．２Ｆｅ2 Ｏ3 ・０．２５ＣａＯ〕・２５ＳｉＯ2
１６ｇを水：５４２９ｇに溶解し、この溶液を溶液Ａと
する。一方、水：４１７５ｇに硫酸アルミニウム：７１
８．９ｇ、塩化第二鉄：１１０ｇ、酢酸カルシウム：４
７．２ｇ、塩化ナトリウム：２６２ｇ、濃塩酸：２０２
０ｇを溶解し、この溶液を溶液Ｂとする。溶液Ａと溶液
Ｂを一定割合で供給して沈殿を生成させ、十分攪拌して
ｐＨ＝８．０のスラリを得る。このスラリを２０リット
ルのオートクレーブに仕込み、さらにテトラプロピルア
ンモニウムブロマイドを５００ｇ添加し、１６０℃にて
７２時間水熱合成を行い、合成後水洗して乾燥させ、さ
らに５００℃、３時間焼成させ結晶性シリケート１を得
る。この結晶性シリケートは酸化物のモル比で（結晶水
を省く）下記の組成式で表され、結晶構造はＸ線回折で
前記表Ａにて表示されるものである。 ０．５Ｎａ2 Ｏ・０．５Ｈ2 Ｏ・〔０．８Ａｌ2 Ｏ3 ・
０．２Ｆｅ2 Ｏ3 ・０．２５ＣａＯ〕・２５ＳｉＯ2
【００１６】上記結晶性シリケート１を用いて、０．０
４Ｍ硝酸銀水溶液に浸漬して、２４時間攪拌してＡｇイ
オン交換を実施した。洗浄後乾燥して粉末吸着剤１を得
た。
４Ｍ硝酸銀水溶液に浸漬して、２４時間攪拌してＡｇイ
オン交換を実施した。洗浄後乾燥して粉末吸着剤１を得
た。
【００１７】次に、上記粉末吸着剤１の１００部に対し
てバインダとしてアルミナゾル３部、シリカゾル５５部
（ＳｉＯ2 ：２０％）に水を２００部加え、充分攪拌を
行いウォッシュコート用スラリとした。次にコージェラ
イト用モノリス基材（４００セルの格子目）を上記スラ
リに浸漬し、取り出した後余分なスラリを吹きはらい２
００℃で乾燥させた。コート量は基材１リットルあたり
２００ｇ担持し、このコート物をハニカム吸着剤１とす
る。
てバインダとしてアルミナゾル３部、シリカゾル５５部
（ＳｉＯ2 ：２０％）に水を２００部加え、充分攪拌を
行いウォッシュコート用スラリとした。次にコージェラ
イト用モノリス基材（４００セルの格子目）を上記スラ
リに浸漬し、取り出した後余分なスラリを吹きはらい２
００℃で乾燥させた。コート量は基材１リットルあたり
２００ｇ担持し、このコート物をハニカム吸着剤１とす
る。
【００１８】（実施例２）実施例１の結晶性シリケート
の合成において、塩化第二鉄の代わりに塩化コバルト、
塩化ルテニウム、塩化ロジウム、塩化ランタン、塩化セ
リウム、塩化チタン、塩化バナジウム、塩化クロム、塩
化アンチモン、塩化ガリウム及び塩化ニオブを各々酸化
物換算でＦｅ2 Ｏ3 と同じモル数だけ添加した以外は結
晶性シリケート１と同様の操作を繰り返して結晶性シリ
ケート２〜１２を調製した。これらの結晶性シリケート
の結晶構造はＸ線回折で前記表Ａに表示されるものであ
り、その組成は酸化物のモル比（脱水された形態）で表
わして０．５Ｎａ2 Ｏ・０．５Ｈ2 Ｏ・〔０．２Ｍ2 Ｏ
3 ・０．８Ａｌ2 Ｏ3 ・０．２５ＣａＯ〕・２５ＳｉＯ
2 である。ここでＭはＣｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｌａ，Ｃｅ，
Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｓｂ，Ｇａ，Ｎｂで結晶性シリケート
２〜１２である。
の合成において、塩化第二鉄の代わりに塩化コバルト、
塩化ルテニウム、塩化ロジウム、塩化ランタン、塩化セ
リウム、塩化チタン、塩化バナジウム、塩化クロム、塩
化アンチモン、塩化ガリウム及び塩化ニオブを各々酸化
物換算でＦｅ2 Ｏ3 と同じモル数だけ添加した以外は結
晶性シリケート１と同様の操作を繰り返して結晶性シリ
ケート２〜１２を調製した。これらの結晶性シリケート
の結晶構造はＸ線回折で前記表Ａに表示されるものであ
り、その組成は酸化物のモル比（脱水された形態）で表
わして０．５Ｎａ2 Ｏ・０．５Ｈ2 Ｏ・〔０．２Ｍ2 Ｏ
3 ・０．８Ａｌ2 Ｏ3 ・０．２５ＣａＯ〕・２５ＳｉＯ
2 である。ここでＭはＣｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｌａ，Ｃｅ，
Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｓｂ，Ｇａ，Ｎｂで結晶性シリケート
２〜１２である。
【００１９】又、結晶性シリケート１の合成法において
酢酸カルシウムの代わりに酢酸マグネシウム、酢酸スト
ロンチウム、酢酸バリウムを各々酸化物換算でＣａＯと
同じモル数だけ添加した以外は結晶性シリケート１と同
様の操作を繰り返して結晶性シリケート１３〜１５を調
製した。これらの母結晶の結晶構造はＸ線回折で前記表
Ａにて表示されるものであり、その組成は酸化物のモル
比（脱水された形態）で表わして０．５Ｎａ2 Ｏ・０．
５Ｈ2 Ｏ・〔０．２Ｆｅ2 Ｏ3 ・０．８Ａｌ2Ｏ3 ・
０．２５ＭｅＯ〕・２５ＳｉＯ2 である。ここでＭｅは
Ｍｇ，Ｓｒ，Ｂａである。
酢酸カルシウムの代わりに酢酸マグネシウム、酢酸スト
ロンチウム、酢酸バリウムを各々酸化物換算でＣａＯと
同じモル数だけ添加した以外は結晶性シリケート１と同
様の操作を繰り返して結晶性シリケート１３〜１５を調
製した。これらの母結晶の結晶構造はＸ線回折で前記表
Ａにて表示されるものであり、その組成は酸化物のモル
比（脱水された形態）で表わして０．５Ｎａ2 Ｏ・０．
５Ｈ2 Ｏ・〔０．２Ｆｅ2 Ｏ3 ・０．８Ａｌ2Ｏ3 ・
０．２５ＭｅＯ〕・２５ＳｉＯ2 である。ここでＭｅは
Ｍｇ，Ｓｒ，Ｂａである。
【００２０】上記結晶性シリケート２〜１５を実施例１
と同様な方法でＡｇイオン交換し粉末吸着剤２〜１５を
得、さらに上記粉末吸着剤を実施例１と同様にハニカム
化し、ハニカム吸着剤２〜１５を得た。
と同様な方法でＡｇイオン交換し粉末吸着剤２〜１５を
得、さらに上記粉末吸着剤を実施例１と同様にハニカム
化し、ハニカム吸着剤２〜１５を得た。
【００２１】（実施例３）実施例１で得た結晶性シリケ
ート１の１０００ｇを母結晶とし、これを水：２１６０
ｇに添加し、さらにコロイダルシリカ（ＳｉＯ2 ：２０
％）：４５９０ｇを添加して十分攪拌を行い、この溶液
を溶液ａとする。一方、水：２００８ｇに水酸化ナトリ
ウム：１０５．８ｇを溶解させ溶液ｂを得る。溶液ａを
攪拌しながら溶液ｂを徐々に滴下し、沈殿を生成させて
スラリを得る。このスラリをオートクレーブに入れ、テ
トラプロピルアンモニウムブロマイド：５６８ｇを水：
２１０６ｇに溶解させた溶液を上記オートクレーブに添
加する。このオートクレーブで１６０℃、７２時間水熱
合成を行い（２００rpm にて攪拌）、攪拌後、洗浄して
乾燥後、５００℃、３時間焼成を行い層状複合結晶性シ
リケート１を得る。この表層の層状シリケートはシリカ
ライトと呼ばれる。
ート１の１０００ｇを母結晶とし、これを水：２１６０
ｇに添加し、さらにコロイダルシリカ（ＳｉＯ2 ：２０
％）：４５９０ｇを添加して十分攪拌を行い、この溶液
を溶液ａとする。一方、水：２００８ｇに水酸化ナトリ
ウム：１０５．８ｇを溶解させ溶液ｂを得る。溶液ａを
攪拌しながら溶液ｂを徐々に滴下し、沈殿を生成させて
スラリを得る。このスラリをオートクレーブに入れ、テ
トラプロピルアンモニウムブロマイド：５６８ｇを水：
２１０６ｇに溶解させた溶液を上記オートクレーブに添
加する。このオートクレーブで１６０℃、７２時間水熱
合成を行い（２００rpm にて攪拌）、攪拌後、洗浄して
乾燥後、５００℃、３時間焼成を行い層状複合結晶性シ
リケート１を得る。この表層の層状シリケートはシリカ
ライトと呼ばれる。
【００２２】上記層状複合結晶性シリケート１を実施例
１と同様にＡｇイオン交換及びハニカム化し、粉末吸着
剤１６及びハニカム吸着剤１６を得た。
１と同様にＡｇイオン交換及びハニカム化し、粉末吸着
剤１６及びハニカム吸着剤１６を得た。
【００２３】（実施例４）Ｎａ型のＹ型ゼオライト（Ｓ
ｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比：５）、モルデナイト（ＳｉＯ2
／Ａｌ2 Ｏ3 比：１５）、Ｌ型ゼオライト（ＳｉＯ2 ／
Ａｌ2 Ｏ3 比：６）、クリノプチロライト（ＳｉＯ2 ／
Ａｌ2 Ｏ3 比：５）、Ａ型ゼオライト（ＳｉＯ2 ／Ａｌ
2 Ｏ3 比：１）、フェリエライト（ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ
3 比：５）、ＺＳＭ−５型ゼオライト（ＳｉＯ2 ／Ａｌ
2 Ｏ3 比：３０）のゼオライトを実施例１の結晶性シリ
ケート１と同様にＡｇイオン交換及びハニカム化し、粉
末吸着剤１７〜２３及びハニカム吸着剤１７〜２３を得
た。
ｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比：５）、モルデナイト（ＳｉＯ2
／Ａｌ2 Ｏ3 比：１５）、Ｌ型ゼオライト（ＳｉＯ2 ／
Ａｌ2 Ｏ3 比：６）、クリノプチロライト（ＳｉＯ2 ／
Ａｌ2 Ｏ3 比：５）、Ａ型ゼオライト（ＳｉＯ2 ／Ａｌ
2 Ｏ3 比：１）、フェリエライト（ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ
3 比：５）、ＺＳＭ−５型ゼオライト（ＳｉＯ2 ／Ａｌ
2 Ｏ3 比：３０）のゼオライトを実施例１の結晶性シリ
ケート１と同様にＡｇイオン交換及びハニカム化し、粉
末吸着剤１７〜２３及びハニカム吸着剤１７〜２３を得
た。
【００２４】（実施例５）実施例１で得た結晶性シリケ
ート１を（０．０４Ｍ硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸コバル
ト）水溶液、（０．０４Ｍ硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸ニッ
ケル）水溶液、（０．０４Ｍ硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸第
二鉄）水溶液、（０．０４Ｍ硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸マ
ンガン）水溶液、（０．０４Ｍ硝酸銀＋０．０１Ｍバナ
ジン酸アンモニウム）水溶液に浸漬攪拌し、各々共イオ
ン交換を実施例１と同様に実施し、粉末吸着剤２４〜２
８を得、さらにハニカム吸着剤２４〜２８を得た。
ート１を（０．０４Ｍ硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸コバル
ト）水溶液、（０．０４Ｍ硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸ニッ
ケル）水溶液、（０．０４Ｍ硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸第
二鉄）水溶液、（０．０４Ｍ硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸マ
ンガン）水溶液、（０．０４Ｍ硝酸銀＋０．０１Ｍバナ
ジン酸アンモニウム）水溶液に浸漬攪拌し、各々共イオ
ン交換を実施例１と同様に実施し、粉末吸着剤２４〜２
８を得、さらにハニカム吸着剤２４〜２８を得た。
【００２５】また、実施例１で得た粉末吸着剤１に対し
て塩化イリジウム、塩化金酸、塩化白金酸、塩化パラジ
ウム、塩化ルテニウム、塩化ロジウムの各水溶液を含浸
させ、粉末吸着剤あたりＩｒ，Ａｕ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒ
ｕ，Ｒｈを約１％担持させて、蒸発乾固させて粉末吸着
剤２９〜３４を得た。さらに、これらの粉末吸着剤をウ
ォッシュコートしてハニカム吸着剤２９〜３４を得た。
て塩化イリジウム、塩化金酸、塩化白金酸、塩化パラジ
ウム、塩化ルテニウム、塩化ロジウムの各水溶液を含浸
させ、粉末吸着剤あたりＩｒ，Ａｕ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒ
ｕ，Ｒｈを約１％担持させて、蒸発乾固させて粉末吸着
剤２９〜３４を得た。さらに、これらの粉末吸着剤をウ
ォッシュコートしてハニカム吸着剤２９〜３４を得た。
【００２６】（実施例６）実施例３で得た層状複合結晶
性シリケート１を実施例５と同様の方法で（０．０４Ｍ
硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸コバルト）水溶液、（０．０４
Ｍ硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸ニッケル）水溶液、（０．０
４Ｍ硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸第二鉄）水溶液、（０．０
４Ｍ硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸マンガン）水溶液、（０．
０４Ｍ硝酸銀＋０．０１Ｍバナジン酸アンモニウム）水
溶液に浸漬攪拌し、共イオン交換法により粉末吸着剤３
５〜３９、さらにハニカム吸着剤３５〜３９を得た。
性シリケート１を実施例５と同様の方法で（０．０４Ｍ
硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸コバルト）水溶液、（０．０４
Ｍ硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸ニッケル）水溶液、（０．０
４Ｍ硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸第二鉄）水溶液、（０．０
４Ｍ硝酸銀＋０．０４Ｍ硝酸マンガン）水溶液、（０．
０４Ｍ硝酸銀＋０．０１Ｍバナジン酸アンモニウム）水
溶液に浸漬攪拌し、共イオン交換法により粉末吸着剤３
５〜３９、さらにハニカム吸着剤３５〜３９を得た。
【００２７】また実施例４で得た粉末吸着剤１７（Ａｇ
／Ｙ型ゼオライト）に対して、塩化イリジウム、塩化金
酸、塩化白金酸、塩化パラジウム、塩化ルテニウム、塩
化ロジウムの各水溶液を含浸させ粉末吸着剤あたりＩ
ｒ，Ａｕ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈを０．６wt％担持さ
せて、蒸発乾固後、粉末吸着剤４０〜４５を得、さら
に、ハニカム４０〜４５を得た。
／Ｙ型ゼオライト）に対して、塩化イリジウム、塩化金
酸、塩化白金酸、塩化パラジウム、塩化ルテニウム、塩
化ロジウムの各水溶液を含浸させ粉末吸着剤あたりＩ
ｒ，Ａｕ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈを０．６wt％担持さ
せて、蒸発乾固後、粉末吸着剤４０〜４５を得、さら
に、ハニカム４０〜４５を得た。
【００２８】（比較例１）粉末の活性炭及び銀を担持し
たγ−Ａｌ2 Ｏ3 （Ａｇ2 Ｏ：１０wt％）をウォッシュ
コート法によりハニカム基材にコートし、実施例１と同
様な方法で比較ハニカム吸着剤４６、４７を得た。
たγ−Ａｌ2 Ｏ3 （Ａｇ2 Ｏ：１０wt％）をウォッシュ
コート法によりハニカム基材にコートし、実施例１と同
様な方法で比較ハニカム吸着剤４６、４７を得た。
【００２９】実施例１〜６、比較例１であげたハニカム
吸着剤１〜４７を後記表Ｂにまとめる。
吸着剤１〜４７を後記表Ｂにまとめる。
【００３０】
【表２】
【００３１】
【表３】
【００３２】
【表４】
【００３３】（実験例１）１リットルのハニカム吸着剤
１〜４７を吸着塔に設置し、炭化水素の吸着試験を実施
した。試験条件は下記のとおりである。 ○ ガス組成 Ｃ2 Ｈ4 ： ２０００ppm Ｃ3 Ｈ6 ： ２０００ppm （ＴＨＣ＝１０，０００ppm ） Ｏ2 ： ５％ ＣＯ2 ： １０％ Ｈ2 Ｏ ： １０％ ＮＯ ： ５０ppm Ｎ2 ： 残 ○ ＧＨＳＶ ： ３０，０００ｈ-1 ○ 吸着温度 ： ５０℃ ○ 脱離温度 ： １５０℃
１〜４７を吸着塔に設置し、炭化水素の吸着試験を実施
した。試験条件は下記のとおりである。 ○ ガス組成 Ｃ2 Ｈ4 ： ２０００ppm Ｃ3 Ｈ6 ： ２０００ppm （ＴＨＣ＝１０，０００ppm ） Ｏ2 ： ５％ ＣＯ2 ： １０％ Ｈ2 Ｏ ： １０％ ＮＯ ： ５０ppm Ｎ2 ： 残 ○ ＧＨＳＶ ： ３０，０００ｈ-1 ○ 吸着温度 ： ５０℃ ○ 脱離温度 ： １５０℃
【００３４】試験装置を図１に、排ガス及び吸着剤の温
度パターンを図２に示す。吸着したＨＣはＦＩＤ計で検
出する。なお、脱離温度１５０℃に設定した場合、ＨＣ
を除き、その他のガスはそのまゝ供給させた。上記ガス
組成にて吸着温度と脱離温度を交互に繰り返しながら平
衡になった時のＨＣの吸着量及び脱離量を下記表Ｃに示
す。
度パターンを図２に示す。吸着したＨＣはＦＩＤ計で検
出する。なお、脱離温度１５０℃に設定した場合、ＨＣ
を除き、その他のガスはそのまゝ供給させた。上記ガス
組成にて吸着温度と脱離温度を交互に繰り返しながら平
衡になった時のＨＣの吸着量及び脱離量を下記表Ｃに示
す。
【００３５】
【表５】
【００３６】
【表６】
【００３７】
【表７】
【００３８】この結果より、本発明のハニカム吸着剤１
〜４５を用いることにより、５０℃において相当量のＨ
Ｃを吸着し、１５０℃において吸着したＨＣが燃焼除去
されるためＨＣは排出されず、繰り返し実施しても安定
な吸着挙動を示すことがわかった。一方、活性炭（ハニ
カム吸着剤４６）はある程度５０℃で吸着するものの１
５０℃においては吸着したＨＣがそのまま脱離し、Ａｇ
を担持したγ−Ａｌ2 Ｏ3（ハニカム吸着剤４７）は５
０℃においてもほとんど炭化水素を吸着しない。ことが
わかった。
〜４５を用いることにより、５０℃において相当量のＨ
Ｃを吸着し、１５０℃において吸着したＨＣが燃焼除去
されるためＨＣは排出されず、繰り返し実施しても安定
な吸着挙動を示すことがわかった。一方、活性炭（ハニ
カム吸着剤４６）はある程度５０℃で吸着するものの１
５０℃においては吸着したＨＣがそのまま脱離し、Ａｇ
を担持したγ−Ａｌ2 Ｏ3（ハニカム吸着剤４７）は５
０℃においてもほとんど炭化水素を吸着しない。ことが
わかった。
【００３９】（実験例２）実験例１の類似の試験とし
て、ハニカム吸着剤１を図３のように設置し、中間部を
切り抜き、該切り抜き部後方に切り換え弁を設けた。ガ
ス組成は実験例１と同様であるが、吸着温度５０℃はＧ
ＨＳＶ：３０，０００ｈ-1、脱離温度１５０℃はＧＨＳ
Ｖ：１００，０００ｈ-1において実施した。前述した図
１の試験装置方法ではＧＨＳＶ：１００，０００ｈ-1の
脱離条件では圧力損失が大となる不具合点が生じるが、
図３のように中間部をそのまま通過させることにより、
脱離条件の時は全く圧力損失がかからない。脱離条件の
時はハニカム吸着剤１の中へは殆んどガスは流れない
が、吸着したＨＣは１５０℃で十分燃焼除去され、生成
したＨ2 Ｏ，ＣＯ2 は自己拡散によりパージされるの
で、再生も安定にできることがわかった。
て、ハニカム吸着剤１を図３のように設置し、中間部を
切り抜き、該切り抜き部後方に切り換え弁を設けた。ガ
ス組成は実験例１と同様であるが、吸着温度５０℃はＧ
ＨＳＶ：３０，０００ｈ-1、脱離温度１５０℃はＧＨＳ
Ｖ：１００，０００ｈ-1において実施した。前述した図
１の試験装置方法ではＧＨＳＶ：１００，０００ｈ-1の
脱離条件では圧力損失が大となる不具合点が生じるが、
図３のように中間部をそのまま通過させることにより、
脱離条件の時は全く圧力損失がかからない。脱離条件の
時はハニカム吸着剤１の中へは殆んどガスは流れない
が、吸着したＨＣは１５０℃で十分燃焼除去され、生成
したＨ2 Ｏ，ＣＯ2 は自己拡散によりパージされるの
で、再生も安定にできることがわかった。
【００４０】
【発明の効果】本発明により、ＨＣを低温域で吸着除去
し、高温域では吸着ＨＣが速かに燃焼除去されるＨＣの
吸着剤が提供され、該吸着剤を使用することによって排
ガス中のＨＣが有効に除去できるようになり、その効果
は工業的に顕著なものである。
し、高温域では吸着ＨＣが速かに燃焼除去されるＨＣの
吸着剤が提供され、該吸着剤を使用することによって排
ガス中のＨＣが有効に除去できるようになり、その効果
は工業的に顕著なものである。
【図１】本発明の炭化水素吸着剤の吸着試験装置の説明
図。
図。
【図２】本発明の炭化水素吸着剤の試験における温度変
化のパターンを示す図。
化のパターンを示す図。
【図３】本発明の炭化水素吸着剤の一使用態様の説明
図。
図。
Claims (6)
- 【請求項１】 銀を担持してなる分子篩構造をもつ結晶
性シリケートよりなり、かつ分子篩構造をもつ結晶性シ
リケートが脱水された状態において酸化物のモル比で表
わして、 （１±０．６）Ｒ2 Ｏ・〔ａＭ2 Ｏ3 ・ｂＡｌ2 Ｏ3 ・
ｃＭｅＯ〕・ｙＳｉＯ2 （上記式中、Ｒはアルカリ金属イオン及び／又は水素イ
オン、ＭはVIII族金属、希土類金属、チタン、バナジウ
ム、クロム、ニオブ、アンチモン及びガリウムからなる
群から選ばれた１種以上の金属、Ｍｅはアルカリ土類金
属、ａ≧０，ｂ≧０，ｃ≧０，ａ＋ｂ＝１，ｙ／ｃ＞１
２，ｙ＞１２）の化学式を有し、かつ本文で詳記する表
Ａに示されるＸ線回折パターンを有する結晶性シリケー
トであることを特徴とする炭化水素の吸着剤。 - 【請求項２】 分子篩構造をもつ結晶性シリケートが予
め合成した結晶性シリケートを母結晶とし、その外表面
に母結晶と同一の結晶構造を有するＳｉとＯよりなる結
晶性シリケートを成長してなり、かつ本文で詳記する表
Ａに示されるＸ線パターンを有する層状複合結晶性シリ
ケートであることを特徴とする請求項１記載の炭化水素
の吸着剤。 - 【請求項３】 分子篩構造をもつ結晶性シリケートがＹ
型ゼオライト、モルデナイト、Ｌ型ゼオライト、クリノ
プチロライト、Ａ型ゼオライト、フェリエライト、ＺＳ
Ｍ−５型ゼオライトであることを特徴とする請求項１記
載の炭化水素の吸着剤。 - 【請求項４】 請求項１〜３いずれかの銀を担持してな
る分子篩構造をもつ結晶性シリケートに、さらにコバル
ト、ニッケル、クロム、鉄、マンガン、イリジウム、
金、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム及びバナ
ジウムからなる群から選ばれた１種以上の金属を担持し
てなることを特徴とする炭化水素の吸着剤。 - 【請求項５】 内燃機関などの起動時における排ガス中
の炭化水素を除去するにあたり、低温時の排ガスを請求
項１〜４いずれかの炭化水素の吸着剤と接触させて該排
ガス中の炭化水素を吸着除去させ、その後該吸着剤を高
温条件にして吸着炭化水素を燃焼除去すると共に、吸着
剤を再生することを特徴とする炭化水素の吸着除去方
法。 - 【請求項６】 炭化水素の吸着剤の内部を切り抜き、切
り抜き箇所に切り換え弁を設置し、低温時の排ガス中の
炭化水素を吸着剤に吸着させる場合は該切り換え弁を閉
めて排ガスと吸着剤を接触させて吸着剤に炭化水素を吸
着させ、吸着炭化水素を燃焼除去する場合は切り換え弁
を開けて高温排ガスを切り抜き箇所を通してパージさせ
て吸着剤を高温条件にすることを特徴とする請求項５記
載の炭化水素の吸着除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05102188A JP3137497B2 (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 炭化水素の吸着剤及び吸着除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05102188A JP3137497B2 (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 炭化水素の吸着剤及び吸着除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06312132A true JPH06312132A (ja) | 1994-11-08 |
| JP3137497B2 JP3137497B2 (ja) | 2001-02-19 |
Family
ID=14320695
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05102188A Expired - Lifetime JP3137497B2 (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 炭化水素の吸着剤及び吸着除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3137497B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2302824A (en) * | 1995-06-29 | 1997-02-05 | Inst Francais Du Petrole | Adsorbents for use in processes for purifying gases |
| WO1998055223A1 (fr) * | 1997-06-03 | 1998-12-10 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Adsorbant hc thermoresistant |
| WO1998055222A1 (fr) * | 1997-06-03 | 1998-12-10 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Adsorbant hc thermoresistant |
| US6042797A (en) * | 1997-07-02 | 2000-03-28 | Tosoh Corporation | Adsorbent for ethylene, method for adsorbing and removing ethylene and method for purifying an exhaust gas |
| US6074973A (en) * | 1998-03-20 | 2000-06-13 | Engelhard Corporation | Catalyzed hydrocarbon trap material and method of making the same |
| EP0914864A3 (en) * | 1997-10-28 | 2000-07-12 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Hydrocarbon-Adsorbent |
| JP2001259363A (ja) * | 2000-03-21 | 2001-09-25 | Meidensha Corp | 排ガス処理方法及びその装置 |
| JPWO2006054718A1 (ja) * | 2004-11-19 | 2008-08-07 | 武則 正田 | ゼオライト含有組成物、ならびにこれを用いた多孔質焼成体および建材 |
| CN115477311A (zh) * | 2022-09-27 | 2022-12-16 | 洛阳建龙微纳新材料股份有限公司 | 一种Ag/M-MSX分子筛脱氢剂及其制备方法和应用 |
-
1993
- 1993-04-28 JP JP05102188A patent/JP3137497B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6309616B1 (en) | 1977-11-26 | 2001-10-30 | Tosoh Corporation | Method for adsorbing and removing ethylene and method for purifying an exhaust gas |
| GB2302824B (en) * | 1995-06-29 | 1999-09-15 | Inst Francais Du Petrole | Adsorbents for use in processes for purifying atmospheres polluted with ethylene |
| GB2302824A (en) * | 1995-06-29 | 1997-02-05 | Inst Francais Du Petrole | Adsorbents for use in processes for purifying gases |
| US6096674A (en) * | 1997-06-03 | 2000-08-01 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Heat-resistant HC adsorbent |
| WO1998055223A1 (fr) * | 1997-06-03 | 1998-12-10 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Adsorbant hc thermoresistant |
| WO1998055222A1 (fr) * | 1997-06-03 | 1998-12-10 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Adsorbant hc thermoresistant |
| US6602815B1 (en) | 1997-06-03 | 2003-08-05 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Exhaust system comprising a heat-resistant HC adsorbent |
| US6042797A (en) * | 1997-07-02 | 2000-03-28 | Tosoh Corporation | Adsorbent for ethylene, method for adsorbing and removing ethylene and method for purifying an exhaust gas |
| US6103208A (en) * | 1997-07-02 | 2000-08-15 | Tosoh Corporation | Adsorbent for ethylene, method for adsorbing and removing ethylene and method for purifying an exhaust gas |
| US6147023A (en) * | 1997-10-28 | 2000-11-14 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Hydrocarbon-adsorbent |
| EP0914864A3 (en) * | 1997-10-28 | 2000-07-12 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Hydrocarbon-Adsorbent |
| US6074973A (en) * | 1998-03-20 | 2000-06-13 | Engelhard Corporation | Catalyzed hydrocarbon trap material and method of making the same |
| JP2001259363A (ja) * | 2000-03-21 | 2001-09-25 | Meidensha Corp | 排ガス処理方法及びその装置 |
| JPWO2006054718A1 (ja) * | 2004-11-19 | 2008-08-07 | 武則 正田 | ゼオライト含有組成物、ならびにこれを用いた多孔質焼成体および建材 |
| CN115477311A (zh) * | 2022-09-27 | 2022-12-16 | 洛阳建龙微纳新材料股份有限公司 | 一种Ag/M-MSX分子筛脱氢剂及其制备方法和应用 |
| CN115477311B (zh) * | 2022-09-27 | 2023-12-01 | 洛阳建龙微纳新材料股份有限公司 | 一种Ag/M-MSX分子筛脱氢剂及其制备方法和应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3137497B2 (ja) | 2001-02-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6042797A (en) | Adsorbent for ethylene, method for adsorbing and removing ethylene and method for purifying an exhaust gas | |
| US5676912A (en) | Process for exhaust gas NOx, CO, and hydrocarbon removal | |
| JP2018513773A (ja) | 受動的ＮＯｘ吸着剤 | |
| JPH05168939A (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
| KR20150121074A (ko) | NOx 트랩 조성물 | |
| KR20180105230A (ko) | 알칼리 금속을 본질적으로 함유하지 않는 Fe-AEI 제올라이트 재료를 포함하는 촉매의 존재하에 배출 가스로부터 아산화질소를 제거하는 방법 | |
| JP3137497B2 (ja) | 炭化水素の吸着剤及び吸着除去方法 | |
| EP0888808B1 (en) | Adsorbent for a hydrocarbon, and exhaust gas-purifying catalyst | |
| JP3207577B2 (ja) | 炭化水素の吸着剤及び吸着浄化方法 | |
| JPH11104493A (ja) | 排気ガス浄化用触媒及び使用方法 | |
| JPH0483516A (ja) | 窒素酸化物の除去方法 | |
| JP2001120952A (ja) | 窒素酸化物の吸着および脱着方法 | |
| JP3157555B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
| JP3197090B2 (ja) | 炭化水素の吸着剤及び吸着浄化方法 | |
| JPH0899033A (ja) | 炭化水素吸着剤 | |
| JP3975557B2 (ja) | エチレン吸着除去方法 | |
| JP3510908B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JPH09225265A (ja) | 排気ガス浄化装置 | |
| JPH07328448A (ja) | 排気ガス浄化触媒および排気ガス浄化装置 | |
| JP2005500152A (ja) | ラメラ構造を用いて窒素酸化物を除去するための物質 | |
| JPH0824655A (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
| JP7460753B2 (ja) | 炭化水素吸着材 | |
| JPH0889809A (ja) | 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 | |
| JPH08257407A (ja) | 内燃機関の排気ガス浄化用触媒 | |
| WO2022025185A1 (ja) | 炭化水素吸着材、排ガス浄化触媒及び排ガス浄化システム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20001031 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071208 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081208 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091208 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091208 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101208 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101208 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111208 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111208 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121208 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131208 Year of fee payment: 13 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |