JPH0630348B2 - ウエ−ハ支持具 - Google Patents
ウエ−ハ支持具Info
- Publication number
- JPH0630348B2 JPH0630348B2 JP62066567A JP6656787A JPH0630348B2 JP H0630348 B2 JPH0630348 B2 JP H0630348B2 JP 62066567 A JP62066567 A JP 62066567A JP 6656787 A JP6656787 A JP 6656787A JP H0630348 B2 JPH0630348 B2 JP H0630348B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- groove
- rods
- wafer support
- wafers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はウェーハ支持具に関し、特に半導体製造工程に
使用されるウェーハの熱処理及び高温雰囲気中での減圧
ＣＶＤの際複数のウェーハを支持するウェーハを支持具
に関する。
使用されるウェーハの熱処理及び高温雰囲気中での減圧
ＣＶＤの際複数のウェーハを支持するウェーハを支持具
に関する。
〔従来の技術〕 従来、この種のウェーハ支持具は、第４図に示すよう
に、複数のウェーハ１をほぼ平行に支持するべく刻まれ
た溝３を有する２本の平行棒２を有している。
に、複数のウェーハ１をほぼ平行に支持するべく刻まれ
た溝３を有する２本の平行棒２を有している。
第５図は第４図のウェーハ支持具の断面図である。
第５図に示すように、ウェーハ１は棒２の溝３に挿入さ
れ自重により支持される。
れ自重により支持される。
上述した従来のウェーハ支持具は、平行な棒に刻まれた
溝にウェーハを挿入してウェーハを支持する構造となっ
ているので、ウェーハの外線と接する溝の側面には熱処
理中の反応ガスの廻り込みが少く、例えば、減圧ＣＶＤ
装置等においては窒化ケイ素，多結晶ケイ素，二酸化ケ
イ素等のＣＶＤ成膜工程中に、溝に接するウェーハ表面
へのガスの廻り込み又は反応後のガス交換がウェーハ表
面の他の部位に比べ確率的に少なくなり、その結果成膜
された上記のケイ化物の膜厚が他の部位に比べ薄くなる
ことは一般に周知されている。
溝にウェーハを挿入してウェーハを支持する構造となっ
ているので、ウェーハの外線と接する溝の側面には熱処
理中の反応ガスの廻り込みが少く、例えば、減圧ＣＶＤ
装置等においては窒化ケイ素，多結晶ケイ素，二酸化ケ
イ素等のＣＶＤ成膜工程中に、溝に接するウェーハ表面
へのガスの廻り込み又は反応後のガス交換がウェーハ表
面の他の部位に比べ確率的に少なくなり、その結果成膜
された上記のケイ化物の膜厚が他の部位に比べ薄くなる
ことは一般に周知されている。
従って、従来のウェーハ支持具では、半導体装置の製造
工程中でウェーハの溝の側面に接する部分を使用した半
導体装置の品質低下ひいては歩留り低下を引起すという
欠点がある。
工程中でウェーハの溝の側面に接する部分を使用した半
導体装置の品質低下ひいては歩留り低下を引起すという
欠点がある。
本発明のウェーハ支持具は、少くとも２本の平行な棒
と、該棒に複数のウェーハをほぼ平行に支持すべくそれ
ぞれの前記棒に設けられた底面がそれぞれの前記ウェー
ハの中心とそれぞれの前記棒との中心を結ぶそれぞれの
直線とほぼ直交する複数の溝と、それぞれの前記溝の底
面に設けられた前記直線を中心とする複数の貫通穴とを
含んで構成される。
と、該棒に複数のウェーハをほぼ平行に支持すべくそれ
ぞれの前記棒に設けられた底面がそれぞれの前記ウェー
ハの中心とそれぞれの前記棒との中心を結ぶそれぞれの
直線とほぼ直交する複数の溝と、それぞれの前記溝の底
面に設けられた前記直線を中心とする複数の貫通穴とを
含んで構成される。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の第１の実施例の斜視図、第２図は第１
図の実施例の断面図である。
図の実施例の断面図である。
第１図及び第２図に示すように、２本の平行な棒２ａ，
２ｂと、棒２ａ，２ｂに複数のウェーハ１を支持すべく
棒２ａ，２ｂに設けられた複数の溝３と、それぞれの溝
３に設けられた貫通穴４とを含む。
２ｂと、棒２ａ，２ｂに複数のウェーハ１を支持すべく
棒２ａ，２ｂに設けられた複数の溝３と、それぞれの溝
３に設けられた貫通穴４とを含む。
溝３は、ウェーハ１の中心０とウェーハ１の外周と棒２
ａ，２ｂの外周とが接する点Ａ１，Ａ２を結ぶ直線と直
交する面を底面とし、複数のウェーハ１を溝３に挿入し
てほぼ平行に支持するように棒２ａ，２ｂに設けられ
る。
ａ，２ｂの外周とが接する点Ａ１，Ａ２を結ぶ直線と直
交する面を底面とし、複数のウェーハ１を溝３に挿入し
てほぼ平行に支持するように棒２ａ，２ｂに設けられ
る。
又、貫通穴４はそれぞれの溝３の底面にそれぞれのウェ
ーハ１に対応する直線ＯＡ１，ＯＡ２を中心として棒２
ａ，２ｂに設けられる。
ーハ１に対応する直線ＯＡ１，ＯＡ２を中心として棒２
ａ，２ｂに設けられる。
このように構成することにより、貫通穴４からも反応ガ
スが廻り込みかつガス交換が貫通穴４を通して行われ
る。
スが廻り込みかつガス交換が貫通穴４を通して行われ
る。
第３図は本発明の第２の実施例の断面図である。
第３図に示すように、第２の実施例では棒２ｃ，２ｄに
設けられた貫通穴４ａの形状が溝３の底面部においてテ
ーパ５を有している。これにより、第１の実施例に比べ
てよりガスの廻り込み及びガスの交換が容易になる利点
がある。
設けられた貫通穴４ａの形状が溝３の底面部においてテ
ーパ５を有している。これにより、第１の実施例に比べ
てよりガスの廻り込み及びガスの交換が容易になる利点
がある。
以上説明したように本発明のウェーハ支持具は、ウェー
ハを挿入して支持する溝の底面に貫通穴を設けることに
より、ウェーハを積載して熱処理及び減圧ＣＶＤ炉中に
挿入して処理する場合、貫通穴から反応ガスが廻り込
み、かつ、ガス交換も貫通穴を通して行われるので、溝
の底面に接するウェーハ上の成長膜厚を他のウェーハ表
面の成長膜厚と均一にできるので、半導体装置の品質を
向上し製造の歩留りを向上できるという効果がある。
ハを挿入して支持する溝の底面に貫通穴を設けることに
より、ウェーハを積載して熱処理及び減圧ＣＶＤ炉中に
挿入して処理する場合、貫通穴から反応ガスが廻り込
み、かつ、ガス交換も貫通穴を通して行われるので、溝
の底面に接するウェーハ上の成長膜厚を他のウェーハ表
面の成長膜厚と均一にできるので、半導体装置の品質を
向上し製造の歩留りを向上できるという効果がある。
第１図は本発明の第１の実施例の斜視図、第２図は第１
図の実施例の断面図、第３図は本発明の第２の実施例の
断面図、第４図は従来のウェーハ支持具の一例の斜視
図、第５図は第４図のウェーハ支持具の断面図である。 １……ウェーハ、２，２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ……棒、
３……溝、４，４ａ……貫通穴、５……テーパ。
図の実施例の断面図、第３図は本発明の第２の実施例の
断面図、第４図は従来のウェーハ支持具の一例の斜視
図、第５図は第４図のウェーハ支持具の断面図である。 １……ウェーハ、２，２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ……棒、
３……溝、４，４ａ……貫通穴、５……テーパ。
Claims (1)
- 【請求項１】少くとも２本の平行な棒と、該棒に複数の
ウェーハをほぼ平行に支持すべくそれぞれの前記棒に設
けられた底面がそれぞれの前記ウェーハの中心とそれぞ
れの前記棒との中心を結ぶそれぞれの直線とほぼ直交す
る複数の溝と、それぞれの前記溝の底面に設けられた前
記直線を中心とする複数の貫通穴とを含むことを特徴と
するウェーハ支持具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62066567A JPH0630348B2 (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | ウエ−ハ支持具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62066567A JPH0630348B2 (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | ウエ−ハ支持具 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63229813A JPS63229813A (ja) | 1988-09-26 |
| JPH0630348B2 true JPH0630348B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
ID=13319660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62066567A Expired - Lifetime JPH0630348B2 (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | ウエ−ハ支持具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0630348B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100226489B1 (ko) * | 1996-12-28 | 1999-10-15 | 김영환 | 웨이퍼 지지 및 이송 기구 |
-
1987
- 1987-03-19 JP JP62066567A patent/JPH0630348B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63229813A (ja) | 1988-09-26 |
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