JPH06281432A - 微小角度調整装置 - Google Patents

微小角度調整装置

Info

Publication number
JPH06281432A
JPH06281432A JP9244293A JP9244293A JPH06281432A JP H06281432 A JPH06281432 A JP H06281432A JP 9244293 A JP9244293 A JP 9244293A JP 9244293 A JP9244293 A JP 9244293A JP H06281432 A JPH06281432 A JP H06281432A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
angle
reflected
angle adjusting
adjusting device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9244293A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiyuki Nagoshi
利之 名越
Kikuo Shirowachi
菊雄 白輪地
Seiji Nishizawa
誠治 西澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jasco Corp
Original Assignee
Jasco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jasco Corp filed Critical Jasco Corp
Priority to JP9244293A priority Critical patent/JPH06281432A/ja
Publication of JPH06281432A publication Critical patent/JPH06281432A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 対象物12の表面に略垂直に光を照射する光
照射手段30と、前記光照射手段30よりの照射光と略
同一の光路上へ反射する反射光との干渉光を検出する光
検出手段34と、前記光検出手段34の光検出強度が最
大となるように前記対象物12の表面角度を調整する角
度調整手段36と、を備えたことを特徴とする微小角度
調整装置。 【効果】 本発明にかかる微小角度調整装置によれば、
簡易な構成で正確な微小角度調整を行うことが可能とな
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は微小角度調整装置、特に
対象物の角度検出機構の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体素子検査装置などの分野に
おいて被加工物ないし被測定物の微小な角度調整が要求
される。すなわち、半導体素子の検査においては、該半
導体素子に光を照射し、その反射光より半導体素子の材
質あるいは加工精度などの情報を得ており、測定光を一
定角度で半導体素子に入射させ、かつ一定角度での反射
光を採取する必要があるため、該半導体素子の設置角度
を出来るだけ厳密に調整する必要がある。従来におい
て、このような微小角度調整は、対象物からの反射測定
光の出力を見ながら行うものであった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の微小角度調整方法では、対象物の厚さにバラつきの
あるものについては、該対象物を交換するごとに角度調
整を行わなければならない。このため、角度調整に要す
る時間及び労力が多大となってしまう。本発明は前記従
来技術の課題に鑑がみなされたものであり、その目的は
対象物の設置角度を、その厚さに影響されることなく正
確に調整することのできる微小角度調整装置を提供する
ことにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明にかかる微小角度調整装置は、光照射手段と、
光検出手段と、角度調整手段を備える。そして、前記光
照射手段は対象物に略垂直に光を照射する。また、光検
出手段は、前記対象物よりの反射光路を、前記照射光の
光路に一致させた光軸を有する反射光を受光する。ま
た、前記角度調整手段は、受光手段の出力に基づき、対
象物の光照射面角度を調整可能としている。
【0005】
【作用】本発明にかかる微小角度調整装置は前述した手
段を有するので、光照射手段より照射された光が、対象
物に反射され、その反射光が光検出手段により検出され
る。ここで、対象物の光照射面に対し、照射光の光軸が
垂直とならない場合には、その反射光のうち、前記受光
手段により検出される光強度が減少する。従って、光検
出手段による受光強度が最大となるように、前記対象物
の光照射面角度を調整することにより、照射光の光軸に
対し対象物の光照射面を垂直とすることができる。
【0006】
【実施例】以下、図面に基づき本発明の好適な実施例を
説明する。図1には、本発明の一実施例にかかる微小角
度調整装置が赤外分光光度計に適用された例が示されて
いる。すなわち、同図において、サンプルステージ10
上には半導体素子などの対象物12が載置・固定されて
いる。
【0007】そして、赤外光源14からの入射測定光は
16aは、反射鏡18により反射されて前記対象物12
上に照射され、さらに該対象物12による反射測定光1
6bは、反射鏡20により反射されて測定光受光器22
により検出されている。そして、該測定光受光器22の
検出結果より、所定のデータ処理を介して対象物12の
所望データを得ている。
【0008】本実施例にかかる微小角度調整装置は、光
照射手段としてのレーザー光源30と、ビームスプリッ
タ32と、光検出手段34と、角度調整手段36とより
構成される。そして、光照射手段30より出射したレー
ザー光は、ビームスプリッタ32を介して対象物12の
被測定面上に投射される。
【0009】対象物12表面で反射されたレーザー光
は、再度ビームスプリッタ32にいたり、該ビームスプ
リッタ32により図中左方向に反射されて光検出手段3
4に入射される。該光検出手段34の電気信号出力は、
データ処理ユニット38に入力され、該データ処理ユニ
ット38は角度調整手段36に角度調整指示を与える。
【0010】ここで、角度調整手段36は、サンプルス
テージ10の裏面中央を回動自在に支持する回動支持部
40と、サンプルステージ10裏面の図中左端部に配置
された駆動部42と、サンプルステージ10の裏面の図
中右端部に配置された弾性支持部44とを含む。そし
て、前記コンピュータ38からの指示が駆動部42に与
えられ、該駆動部42はパルスモータの回動ないしピエ
ゾ素子への電圧印加によって、基板46とサンプルステ
ージ10の図中左端部における間隔を調整する。
【0011】この結果、サンプルステージ10は回動支
持部40を中心として時計周り方向に回動し、対象物1
2の表面角度を調整する。一方、駆動部42を調整し、
該駆動部42に於けるサンプルステージ10と基盤46
の間隙を小さくすると、サンプルステージ10は弾性支
持部44の押圧作用により回動支持部40を中心として
半時計方向に回動することとなる。
【0012】以上のように、データ処理ユニット38は
駆動部42を駆動制御し、一定の走査範囲で光検出手段
34による光検出強度が最大となる角度にサンプルステ
ージ10の傾きを調整する。なお、同様の構成により、
サンプルステージ10を図面と直交する方向に角度調整
することも可能である。
【0013】また、本実施例においては、図1において
ビームスプリッタ32の右側に可動鏡50を配置し、該
可動鏡50の位置を可動鏡走査部52により矢印I方向
に移動可能としている。この結果、光照射手段30から
出射されたレーザー光の一部はビームスプリッタ32に
より可動鏡50方向に反射され、該可動鏡50からの反
射光と対象物12からの反射光とがそれぞれビームスプ
リッタ32の半透膜面上で干渉して、その干渉縞強度が
光検出手段34によって検出される。
【0014】従って、可動鏡50を駆動することによ
り、データ処理ユニット38は光検出手段34により検
出された干渉縞強度の変化から対象物12の上下位置を
検出することができる。そして、基板46と、該基板4
6の下部に配置されたベース54との間隙を変更可能な
上下位置調整手段56を設置し、前記データ処理ユニッ
ト38から対象物12の上下位置情報を該上下位置調整
手段56に与えることにより、対象物12の上下位置を
も正確に調整することができる。
【0015】以上説明したように本実施例にかかる微小
角度調整装置によれば、簡易に対象物12の被測定面の
角度調整及び上下位置調整を行うことができる。なお、
本実施例においては角度調整手段36による角度調整を
データ処理ユニット38により行うこととしたが、これ
に限られるものではなく、例えばディスプレイ上に光検
出手段34の出力を表示し、手動でサンプルステージ1
0の角度調整を行うようにしても良い。
【0016】
【発明の効果】以上説明したように本発明にかかる微小
角度調整装置によれば、光照射手段から出射される照射
光と対象物からの反射光との干渉縞強度を測定し、該干
渉縞強度が最大となる角度に対象物の設置角を調整する
こととしたので、簡易な構成で正確な微小角度調整を行
うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例にかかる微小角度調整装置
が適用された赤外分光光度計の概略構成の説明図であ
る。
【符号の説明】
30 光照射手段 34 光検出手段 36 角度調整手段

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 対象物の表面に略垂直に光を照射する光
    照射手段と、 前記光照射手段よりの照射光と同一の光路上へ反射させ
    た反射光との干渉光を検出する光検出手段と、 前記光検出手段の光検出強度が最大となるように前記対
    象物の表面角度を調整する角度調整手段と、 を備えたことを特徴とする微小角度調整装置。
JP9244293A 1993-03-25 1993-03-25 微小角度調整装置 Pending JPH06281432A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9244293A JPH06281432A (ja) 1993-03-25 1993-03-25 微小角度調整装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9244293A JPH06281432A (ja) 1993-03-25 1993-03-25 微小角度調整装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06281432A true JPH06281432A (ja) 1994-10-07

Family

ID=14054536

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9244293A Pending JPH06281432A (ja) 1993-03-25 1993-03-25 微小角度調整装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06281432A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014196401A1 (ja) * 2013-06-07 2014-12-11 東京エレクトロン株式会社 測定対象物の厚さ計測方法
WO2015022851A1 (ja) * 2013-08-15 2015-02-19 富士通株式会社 光干渉法を用いた計測装置及び光干渉法を用いた計測方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014196401A1 (ja) * 2013-06-07 2014-12-11 東京エレクトロン株式会社 測定対象物の厚さ計測方法
JP2014238341A (ja) * 2013-06-07 2014-12-18 東京エレクトロン株式会社 測定対象物の厚さ計測方法
WO2015022851A1 (ja) * 2013-08-15 2015-02-19 富士通株式会社 光干渉法を用いた計測装置及び光干渉法を用いた計測方法
JPWO2015022851A1 (ja) * 2013-08-15 2017-03-02 富士通株式会社 光干渉法を用いた計測装置及び光干渉法を用いた計測方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6473179B1 (en) Birefringence measurement system
US6268914B1 (en) Calibration Process For Birefringence Measurement System
JP2002116133A (ja) 散乱式粒子径分布測定装置
EP0249800A3 (en) Apparatus for illuminating components of transparent material used in the inspection for defects
JP2002116133A5 (ja)
US6697157B2 (en) Birefringence measurement
KR100406108B1 (ko) 고공간해상도엘립소메트리장치
JPH05322804A (ja) X線反射プロファイル測定方法及び装置
JPH06281432A (ja) 微小角度調整装置
JPH05332918A (ja) クロマトスキャナ
JP2891780B2 (ja) エネルギ線の照射角設定方法
JPH07190735A (ja) 光学式測定装置およびその測定方法
JP2002098624A (ja) 散乱式粒子径分布測定装置
JPH0323883B2 (ja)
WO1999042796A1 (en) Birefringence measurement system
JP2006105748A (ja) ビーム入射を伴う分析方法
JPH06249788A (ja) 異物検査装置
JPS625646Y2 (ja)
JPH10185845A (ja) 全反射蛍光x線分析における入射角設定方法および装置
JP2006177842A (ja) カット面検査装置、及びカット面検査方法
JPH0720094A (ja) 超音波振動測定装置
JP2000009636A (ja) エリプソメトリ装置
JPH03276049A (ja) 光学式表面検査機の光学ヘッド
JPH02218906A (ja) 光ディスク・スタンパ検査装置
JPH03277932A (ja) 応力測定法