JPH06267921A - 洗浄装置 - Google Patents

洗浄装置

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JPH06267921A
JPH06267921A JP5353493A JP5353493A JPH06267921A JP H06267921 A JPH06267921 A JP H06267921A JP 5353493 A JP5353493 A JP 5353493A JP 5353493 A JP5353493 A JP 5353493A JP H06267921 A JPH06267921 A JP H06267921A
Authority
JP
Japan
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cleaning
foreign matter
detecting
atmosphere
unit
Prior art date
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Pending
Application number
JP5353493A
Other languages
English (en)
Inventor
Haruo Kato
治夫 加藤
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 洗浄槽内の異物および洗浄装置内で浮遊する
異物を管理する。 【構成】 洗浄装置1に、洗浄槽3内の異物を検出する
液中異物検出部5と、液中異物検出部5で検出された検
出情報に基づいて洗浄槽3内の異物を監視する計算機7
と、洗浄装置1の洗浄ドラフト2内の雰囲気中における
異物を検出する雰囲気中異物検出部10と、雰囲気中異
物検出部10で検出された検出情報に基づいて洗浄ドラ
フト2内の異物を監視する計算機7とを設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄装置技術に関し、
特に、半導体ウエハを洗浄するための洗浄装置に適用し
て有効な技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体集積回路装置においては、
素子集積度の向上とともに、素子の微細化が進められて
いる。そして、素子の微細化に伴い、微細な異物であっ
ても半導体集積回路装置の信頼性や歩留り低下の原因と
なるので、半導体ウエハの洗浄処理における清浄度の向
上が要求されている。
【0003】従来の洗浄装置においては、洗浄槽内の薬
液または純水等が、洗浄装置に設置されたポンプ等によ
って循環されるようになっている。その薬液中または純
水中における異物は、その薬液または純水等の循環経路
に設置されたフィルタによって除去されるようになって
いる。
【0004】また、特開昭62−190440号公報に
は、洗浄槽内の薬液または純水中の異物や無機イオンを
検出するための手段を洗浄装置に設けた技術について説
明されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
技術においては、以下の問題があることを本発明者は見
い出した。
【0006】すなわち、従来は、洗浄槽中の異物を計測
する技術について考慮されているが、洗浄装置内に浮遊
する異物について充分な考慮がなされていないという問
題があった。このため、洗浄装置内に浮遊する異物の量
が分からないという問題があった。また、洗浄槽から洗
浄処理後の半導体ウエハを取り出した際に、洗浄装置内
に浮遊する異物が半導体ウエハに付着してしまう問題が
あった。さらに、洗浄装置内に浮遊する異物が洗浄槽内
に入ってしまう問題があった。
【0007】本発明は上記課題に着目してなされたもの
であり、その目的は、洗浄槽内の異物および洗浄装置内
で浮遊する異物を管理することのできる技術を提供する
ことにある。
【0008】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、明細書の記述および添付図面から明らかにな
るであろう。
【0009】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0010】すなわち、請求項1記載の発明は、装置本
体に所定基板を洗浄するための洗浄槽を有する洗浄装置
であって、前記洗浄槽内の異物を検出する第1検出部
と、前記第1検出部で検出された検出情報に基づいて異
物の量を計測する第1異物計測部と、前記装置本体内の
雰囲気中における異物を検出する第2検出部と、前記第
2検出部で検出された検出情報に基づいて異物の量を計
測する第2異物計測部とを備えた洗浄装置構造とするも
のである。
【0011】請求項2記載の発明は、前記第1異物監視
部または前記第2異物監視部で測定された異物量が所定
値を越えた場合に、その異物に対処するための装置動作
を制御するための制御部を設けた洗浄装置構造とするも
のである。
【0012】
【作用】上記した請求項1記載の発明によれば、洗浄槽
中の異物の状態のみならず、洗浄装置内に浮遊する異物
の状態をも把握することができるので、洗浄処理中にお
ける全体的な異物の管理を行うことが可能となる。
【0013】上記した請求項2記載の発明によれば、例
えば異物量が所定値を越えた場合、洗浄液を自動的に交
換したり、洗浄装置内の空気を自動的に吸引したり、洗
浄処理自体を一時的に停止させたり、警報を鳴らして次
に続く洗浄処理の中止を知らせたりすることができる。
【0014】
【実施例1】図1は本発明の一実施例である洗浄装置の
構成を説明するための説明図である。
【0015】図1に示す本実施例1の洗浄装置1は、例
えば所定基板である半導体ウエハ(図示せず)を複数枚
同時に洗浄することが可能なバッチ式の洗浄装置であ
る。
【0016】洗浄ドラフト2内には、洗浄槽3が設置さ
れている。洗浄槽3には、薬液または純水等のような洗
浄液が注入されている。洗浄槽3内の洗浄液は、図示し
ないポンプ等によって循環されるようになっている。洗
浄液中の異物は、洗浄液の循環経路に設置されたフィル
タによって除去されるようになっている。
【0017】そして、本実施例1の洗浄装置1において
は、洗浄液吸引チューブ4がその先端を洗浄槽3内の洗
浄液に浸漬させた状態で設置されている。洗浄液吸引チ
ューブ4は、1本でも良いし、複数本でも良い。複数本
の場合は、分散して配置することが好ましい。洗浄槽3
内における各箇所の異物の状態を検出できるようになる
からである。
【0018】洗浄液吸引チューブ4は、液中異物検出部
(第1検出部)5と機械的に接続されている。洗浄槽3
内の洗浄液は、吸引ポンプ6aによって吸引されて、洗
浄液吸引チューブ4を通じて液中異物検出部5に導かれ
るようになっている。
【0019】液中異物検出部5においては、洗浄液中の
異物の量や大きさ等を、例えば光散乱方式により検出し
た後、検出された異物に関するデータを計算機(第1異
物監視部、第2異物監視部、制御部)7に伝送するよう
になっている。
【0020】計算機7においては、液中異物検出部5で
検出された異物に関するデータに基づいて洗浄液中の異
物を管理するとともに、その異物に関するデータを加工
した後、液中異物モニタ8に伝送するようになってい
る。液中異物モニタ8においては、計算機7から伝送さ
れた異物に関するデータを目視できるように表示するよ
うになっている。
【0021】一方、本実施例1の洗浄装置1において
は、雰囲気吸引チューブ9がその先端部を洗浄ドラフト
2内に挿入させた状態で設置されている。雰囲気吸引チ
ューブ9は、1本でも良いし、複数本でも良い。複数本
の場合は、分散して配置することが好ましい。洗浄ドラ
フト2内における各箇所の異物の状態を検出できるよう
になるからである。
【0022】雰囲気吸引チューブ9の他端は、雰囲気中
異物検出部(第2検出部)10と機械的に接続されてい
る。洗浄ドラフト2内の空気は、吸引ポンプ6bによっ
て吸引されて、雰囲気吸引チューブ9を通じて雰囲気中
異物検出部10に導かれるようになっている。
【0023】雰囲気中異物検出部10においては、雰囲
気中の異物の量や大きさ等を、例えば光散乱方式によっ
て検出した後、検出された異物に関するデータを計算機
(制御部)7に伝送するようになっている。
【0024】計算機7においては、雰囲気中異物検出部
10で検出された異物に関するデータに基づいて洗浄ド
ラフト2中の異物を管理するとともに、その異物に関す
るデータを加工した後、雰囲気中異物モニタ11に伝送
するようになっている。雰囲気中異物モニタ11におい
ては、計算機7から伝送された異物に関するデータを目
視できるように表示するようになっている。
【0025】また、本実施例1の洗浄装置1において
は、計算機7にアラーム発信機12が接続されている。
計算機7は、液中異物検出部5または雰囲気中異物検出
部10で検出された異物の量が、予め設定されている異
物の量を越えたと判断した場合、アラーム発信機12に
アラームを鳴らすための信号を伝送するようになってい
る。そして、次に続く洗浄処理の中止を作業者に対して
促すようになっている。
【0026】このように、本実施例1によれば、以下の
効果を得ることが可能となる。
【0027】(1).洗浄装置1の洗浄槽3中の異物の状態
のみならず、洗浄ドラフト2内に浮遊する異物の状態を
も把握することができるので、洗浄処理中における全体
的な異物の管理を行うことが可能となる。
【0028】(2).洗浄装置1の洗浄槽3内または洗浄ド
ラフト2内における異物の量が所定値を越えた場合、ア
ラームを鳴らして次に続く洗浄処理の中止を作業者に知
らせることが可能となる。
【0029】(3).上記(1),(2) により、洗浄処理工程中
に半導体ウエハに付着する異物の数を低減することがで
きるので、半導体集積回路装置の信頼性および歩留まり
を向上させることが可能となる。
【0030】
【実施例2】図2は本発明の他の実施例である洗浄装置
の構成を説明するための説明図である。
【0031】本実施例2においては、計算機7が雰囲気
吸引制御部13および洗浄液供給制御部14と電気的に
接続されている。
【0032】雰囲気吸引制御部13は、洗浄ドラフト2
内の空気を吸引するためのポンプ(図示せず)の吸引動
作を制御するための制御部である。計算機7は、洗浄ド
ラフト2内の雰囲気中の異物量が予め設定された所定値
を越えたと判断した場合、洗浄ドラフト2内の空気を吸
引させるための制御信号を雰囲気吸引制御部13に伝送
するようになっている。
【0033】雰囲気吸引制御部13は、計算機7から伝
送された制御信号に基づいて洗浄ドラフト2内の空気を
自動的に吸引することにより、洗浄ドラフト2内の雰囲
気を清浄化するようになっている。
【0034】洗浄液供給制御部14は、洗浄槽3内の洗
浄液を循環させるための機構の動作を制御するための制
御部である。計算機7は、洗浄槽3内の洗浄液中の異物
量が予め設定された所定値を越えたと判断した場合、洗
浄槽3内の洗浄液を交換させるための制御信号を洗浄液
供給制御部14に伝送するようになっている。
【0035】洗浄液供給制御部14は、計算機7から伝
送された制御信号に基づいて洗浄槽3内の洗浄液を自動
的に交換することにより、洗浄槽3内の洗浄液を清浄化
するようになっている。
【0036】このように、本実施例2においては、前記
実施例1で得られた効果(1),(3) の他に、次の効果を得
ることが可能となる。
【0037】すなわち、洗浄装置1の洗浄槽3内または
洗浄ドラフト2内における異物の量が所定値を越えた場
合、洗浄槽3内の洗浄液を自動的に交換したり、洗浄装
置1内の空気を自動的に吸引したりすることができるの
で、半導体ウエハに対する洗浄処理を、常に清浄な状態
で行うことが可能となる。
【0038】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
1,2に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しな
い範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0039】例えば前記実施例1,2においては、複数
枚の半導体ウエハを洗浄するための洗浄装置に本発明を
適用した場合について説明したが、これに限定されるも
のではなく、例えば1枚の半導体ウエハを洗浄する枚葉
式の洗浄装置に本発明を適用することも可能である。
【0040】また、前記実施例1においては、洗浄槽ま
たは洗浄ドラフト内の異物量が所定値以上となった場合
にアラームを鳴らすことにより洗浄処理の中止を作業者
に促す場合について説明した。また、前記実施例2にお
いては、洗浄槽または洗浄ドラフト内の異物量が所定値
以上となった場合に、洗浄ドラフト内の空気を自動的に
吸引したり、洗浄槽内の洗浄液を自動的に交換したりす
る場合について説明した。ただし、これに限定されるも
のではなく種々変更可能であり、例えば洗浄槽または洗
浄ドラフト内の異物量が所定値以上となった場合に、洗
浄装置内に半導体ウエハを搬入するための機構部の動作
を停止することにより、次に続く半導体ウエハを洗浄ド
ラフト内に搬入するのを停止させることも可能である。
【0041】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野である半導体
ウエハを洗浄する洗浄装置に適用した場合について説明
したが、これに限定されず種々適用可能であり、例えば
光ディスクや液晶ディスプレイ用の基板を洗浄する洗浄
装置等のような他の洗浄装置に適用することも可能であ
る。
【0042】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
【0043】(1).請求項1記載の発明によれば、洗浄槽
中の異物の状態のみならず、洗浄装置内に浮遊する異物
の状態も把握することができるので、洗浄処理中におけ
る全体的な異物の管理を行うことが可能となる。これに
より、洗浄処理工程中に所定基板に付着する異物の数を
低減することが可能となる。
【0044】(2).請求項2記載の発明によれば、例えば
異物量が所定値を越えた場合、洗浄液を自動的に交換し
たり、洗浄装置内の空気を自動的に吸引したり、洗浄処
理自体を一時的に停止させたり、警報を鳴らして次に続
く洗浄処理の中止を知らせたりすることができる。これ
により、洗浄処理工程中に所定基板に付着する異物の数
を低減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である洗浄装置の構成を説明
するための説明図である。
【図2】本発明の他の実施例である洗浄装置の構成を説
明するための説明図である。
【符号の説明】
1 洗浄装置 2 洗浄ドラフト 3 洗浄槽 4 洗浄液吸引チューブ 5 液中異物検出部(第1検出部) 6a,6b ポンプ 7 計算機(第1異物監視部、第2異物監視部、制御
部) 8 液中異物モニタ 9 雰囲気吸引チューブ 10 雰囲気中異物検出部(第2検出部) 11 雰囲気中異物モニタ 12 アラーム発信機 13 雰囲気吸引制御部 14 洗浄液供給制御部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 装置本体に所定基板を洗浄するための洗
    浄槽を有する洗浄装置であって、前記洗浄槽内の異物を
    検出する第1検出部と、前記第1検出部で検出された検
    出情報に基づいて洗浄槽内の異物を監視する第1異物監
    視部と、前記装置本体内の雰囲気中における異物を検出
    する第2検出部と、前記第2検出部で検出された検出情
    報に基づいて装置本体内の異物を監視する第2異物監視
    部とを備えたことを特徴とする洗浄装置。
  2. 【請求項2】 前記第1異物監視部または前記第2異物
    監視部で測定された異物量が所定値を越えた場合に、そ
    の異物に対処するための装置動作を制御するための制御
    部を設けたことを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。
  3. 【請求項3】 前記第1検出部および前記第2検出部は
    光散乱方式により異物を検出する手段であることを特徴
    とする請求項1または2記載の洗浄装置。
JP5353493A 1993-03-15 1993-03-15 洗浄装置 Pending JPH06267921A (ja)

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JP5353493A JPH06267921A (ja) 1993-03-15 1993-03-15 洗浄装置

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JP5353493A JPH06267921A (ja) 1993-03-15 1993-03-15 洗浄装置

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JP5353493A Pending JPH06267921A (ja) 1993-03-15 1993-03-15 洗浄装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022237577A1 (zh) * 2021-05-13 2022-11-17 北京北方华创微电子装备有限公司 颗粒物清洁度检测方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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