KR100393289B1 - 포토레지스트 토출 감시장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (3)
- 스텝핑 모터에 의해 구동되는 토출 펌프로부터 토출되는 포토레지스트 량을 감지하기 위한 PR량 감지센서와; 상기 PR량 감지센서의 출력을 감시하여 상기 토출 펌프로부터 토출되는 포토레지스트 량을 자동으로 제어하는 PR량 콘트롤러를 구비하는 포토레지스트 토출 감시장치에 있어서,상기 PR량 콘트롤러는 상기 토출 펌프의 스텝핑 모터가 동작 한계치에 이르러도 원하는 포토레지스트 토출이 이루어지지 못하면 케미컬 필터의 교체시기로 판단하여 필터 교환시기를 표시할 수 있도록 표시부에 필터 교체신호를 출력하는 PR량 제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 토출 감시장치.
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Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2001-0036699A KR100393289B1 (ko) | 2001-06-26 | 2001-06-26 | 포토레지스트 토출 감시장치 |
US10/178,958 US6712956B2 (en) | 2001-06-26 | 2002-06-25 | Apparatus for monitoring discharge of photoresist |
JP2002186469A JP2003017380A (ja) | 2001-06-26 | 2002-06-26 | フォトレジスト吐出し監視装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2001-0036699A KR100393289B1 (ko) | 2001-06-26 | 2001-06-26 | 포토레지스트 토출 감시장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20020020628A KR20020020628A (ko) | 2002-03-15 |
KR100393289B1 true KR100393289B1 (ko) | 2003-07-31 |
Family
ID=19711354
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2001-0036699A KR100393289B1 (ko) | 2001-06-26 | 2001-06-26 | 포토레지스트 토출 감시장치 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6712956B2 (ko) |
JP (1) | JP2003017380A (ko) |
KR (1) | KR100393289B1 (ko) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100452329B1 (ko) * | 2002-10-04 | 2004-10-12 | 삼성전자주식회사 | 반도체 코팅설비의 포토레지스트 퍼지 제어장치 |
JP4382569B2 (ja) * | 2004-05-07 | 2009-12-16 | 株式会社東芝 | 塗膜形成装置、塗膜形成方法および製造管理装置 |
JP4541069B2 (ja) * | 2004-08-09 | 2010-09-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 薬液供給システム |
KR100702793B1 (ko) * | 2005-12-06 | 2007-04-03 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 포토 레지스트 공급장치 및 포토 레지스트 공급장치의검사방법 |
KR100714278B1 (ko) * | 2005-12-22 | 2007-05-02 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치 제조용 포토설비의 필터 장착 알림 장치 및방법 |
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Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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KR0141059B1 (ko) * | 1993-09-20 | 1998-06-01 | 코사이 아키오 | 액체공급시스템 액체공급방법 |
KR100236270B1 (ko) * | 1996-11-18 | 1999-12-15 | 윤종용 | 감광제 분사 체크기능을 갖는 웨이퍼 스핀코팅 시스템 |
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-
2001
- 2001-06-26 KR KR10-2001-0036699A patent/KR100393289B1/ko active IP Right Grant
-
2002
- 2002-06-25 US US10/178,958 patent/US6712956B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-26 JP JP2002186469A patent/JP2003017380A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20020020628A (ko) | 2002-03-15 |
US20030002026A1 (en) | 2003-01-02 |
JP2003017380A (ja) | 2003-01-17 |
US6712956B2 (en) | 2004-03-30 |
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