JP2003017380A - フォトレジスト吐出し監視装置 - Google Patents
フォトレジスト吐出し監視装置Info
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- JP2003017380A JP2003017380A JP2002186469A JP2002186469A JP2003017380A JP 2003017380 A JP2003017380 A JP 2003017380A JP 2002186469 A JP2002186469 A JP 2002186469A JP 2002186469 A JP2002186469 A JP 2002186469A JP 2003017380 A JP2003017380 A JP 2003017380A
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- photoresist
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- discharged
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
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- Power Engineering (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 吐出しポンプにより吐き出されるフォトレジ
スト吐出し量を監視することにより、これをもとに吐出
しポンプを制御して一定なフォトレジストの吐出しがな
されるようにすると共に吐出しポンプによる工程不良を
防止することができるフォトレジスト吐出し監視装置を
提供するにある。 【解決手段】 ステッピングモータにより駆動されるポ
ンプでフォトレジスト貯蔵容器に貯蔵されたフォトレジ
ストが吐き出されるように構成された装置において、前
記吐出しポンプから吐き出されるフォトレジスト量を感
知するためのPR量感知センサーと、前記PR量感知センサ
ーの出力を監視して前記吐出しポンプから吐き出される
フォトレジスト量を自動に制御し、前記ステッピングモ
ーターが動作限界値に至るとケミカルフィルターの交換
時期として判断してフィルター交替信号を表示するPR量
コントローラーと、を備える。
スト吐出し量を監視することにより、これをもとに吐出
しポンプを制御して一定なフォトレジストの吐出しがな
されるようにすると共に吐出しポンプによる工程不良を
防止することができるフォトレジスト吐出し監視装置を
提供するにある。 【解決手段】 ステッピングモータにより駆動されるポ
ンプでフォトレジスト貯蔵容器に貯蔵されたフォトレジ
ストが吐き出されるように構成された装置において、前
記吐出しポンプから吐き出されるフォトレジスト量を感
知するためのPR量感知センサーと、前記PR量感知センサ
ーの出力を監視して前記吐出しポンプから吐き出される
フォトレジスト量を自動に制御し、前記ステッピングモ
ーターが動作限界値に至るとケミカルフィルターの交換
時期として判断してフィルター交替信号を表示するPR量
コントローラーと、を備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術の分野】本発明は、フォトレジスト
吐出し監視装置に係るもので、特に吐出しポンプにより
吐き出されるフォトレジスト吐出し量を監視することに
より、これをもとに吐出しポンプを制御して一定なフォ
トレジストの吐出しがなされるようにすると共に吐出し
ポンプによる工程不良を防止することができるフォトレ
ジスト吐出し監視装置に関する。
吐出し監視装置に係るもので、特に吐出しポンプにより
吐き出されるフォトレジスト吐出し量を監視することに
より、これをもとに吐出しポンプを制御して一定なフォ
トレジストの吐出しがなされるようにすると共に吐出し
ポンプによる工程不良を防止することができるフォトレ
ジスト吐出し監視装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造プロセスにおけるフォトレジ
スト処理工程では、半導体ウェハなどの被処理基板の表
面にフォトレジストを塗布してレジスト膜を形成し、所
定パターンに露光してから現像液で現像処理している。
この中でフォトレジストの塗布は、図３に示すように、
スピナ（Spinner）制御装置からのポンピング信号に従
い動作する吐出しポンプ３によりフォトレジストの貯蔵
されたフォトレジスト貯蔵容器１からフォトレジストが
吐き出され、このとき、ケミカルフィルター２を通じて
フォトレジスト中の不純物が除去されて吐き出されるよ
うになっており、吐出しポンプ３により吐き出されるフ
ォトレジストは遮断（Cut-off）/吸引（Suck-back）バ
ルブ４及びノズル５を通じてウェハ６に塗布されるよう
になっている。
スト処理工程では、半導体ウェハなどの被処理基板の表
面にフォトレジストを塗布してレジスト膜を形成し、所
定パターンに露光してから現像液で現像処理している。
この中でフォトレジストの塗布は、図３に示すように、
スピナ（Spinner）制御装置からのポンピング信号に従
い動作する吐出しポンプ３によりフォトレジストの貯蔵
されたフォトレジスト貯蔵容器１からフォトレジストが
吐き出され、このとき、ケミカルフィルター２を通じて
フォトレジスト中の不純物が除去されて吐き出されるよ
うになっており、吐出しポンプ３により吐き出されるフ
ォトレジストは遮断（Cut-off）/吸引（Suck-back）バ
ルブ４及びノズル５を通じてウェハ６に塗布されるよう
になっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来技術による
と、前記吐出しポンプ３によるフォトレジストの吐出し
のときに、通常ステッピングモーターを用いてフォトレ
ジストを一定に吐出し、仮に設備の誤動作及びケミカル
フィルター２の寿命が尽きフィルターが塞がってフィル
ターリングができない場合、フォトレジストがよく塗布
されなくてウェハの不良が発生するという問題点があっ
た。そこで、本発明の目的は、吐出しポンプにより吐き
出されるフォトレジスト吐出し量を監視し、これをもと
に吐出しポンプを制御することにより、一定なフォトレ
ジストの吐出しがなされるようにしたフォトレジスト吐
出し監視装置を提供することにある。本発明の他の目的
は、ケミカルフィルターの寿命により吐き出されるフォ
トレジスト量の不足の際にフィルター交換時期を表示す
ることにより、吐出しポンプによる工程不良を防止する
ことができるフォトレジスト吐出し監視装置を提供する
ことにある。
と、前記吐出しポンプ３によるフォトレジストの吐出し
のときに、通常ステッピングモーターを用いてフォトレ
ジストを一定に吐出し、仮に設備の誤動作及びケミカル
フィルター２の寿命が尽きフィルターが塞がってフィル
ターリングができない場合、フォトレジストがよく塗布
されなくてウェハの不良が発生するという問題点があっ
た。そこで、本発明の目的は、吐出しポンプにより吐き
出されるフォトレジスト吐出し量を監視し、これをもと
に吐出しポンプを制御することにより、一定なフォトレ
ジストの吐出しがなされるようにしたフォトレジスト吐
出し監視装置を提供することにある。本発明の他の目的
は、ケミカルフィルターの寿命により吐き出されるフォ
トレジスト量の不足の際にフィルター交換時期を表示す
ることにより、吐出しポンプによる工程不良を防止する
ことができるフォトレジスト吐出し監視装置を提供する
ことにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るため請求項１の発明は、ステッピングモーターにより
駆動される吐出しポンプによりフォトレジスト貯蔵容器
に貯蔵されたフォトレジストが吐き出されるように構成
された装置において、前記吐出しポンプから吐き出され
るフォトレジスト量を感知するためのPR（photoresist
／フォトレジストの略語、以下同じ）量感知センサー
と、前記PR量感知センサーの出力を監視して前記吐出し
ポンプから吐き出されるフォトレジスト量を自動に制御
し、前記ステッピングモーターが動作限界値に至るとケ
ミカルフィルターの交換時期として判断してフィルター
交替信号を表示するPR量コントローラーと、を備えるこ
とを特徴とする。
るため請求項１の発明は、ステッピングモーターにより
駆動される吐出しポンプによりフォトレジスト貯蔵容器
に貯蔵されたフォトレジストが吐き出されるように構成
された装置において、前記吐出しポンプから吐き出され
るフォトレジスト量を感知するためのPR（photoresist
／フォトレジストの略語、以下同じ）量感知センサー
と、前記PR量感知センサーの出力を監視して前記吐出し
ポンプから吐き出されるフォトレジスト量を自動に制御
し、前記ステッピングモーターが動作限界値に至るとケ
ミカルフィルターの交換時期として判断してフィルター
交替信号を表示するPR量コントローラーと、を備えるこ
とを特徴とする。
【０００５】又、請求項２の発明は、前記PR量感知セン
サーは前記吐出しポンプから吐き出されるフォトレジス
ト量に従い所定のパルスを出力するセンサーであること
を特徴とする。
サーは前記吐出しポンプから吐き出されるフォトレジス
ト量に従い所定のパルスを出力するセンサーであること
を特徴とする。
【０００６】更に、請求項３の発明は、前記PR量コント
ローラーは前記PR量感知センサーから入力される所定の
パルスで前記吐出しポンプから吐き出されるフォトレジ
スト量を算出するPR量算出部と、前記PR量算出部の算出
値をもとに前記吐出しポンプにポンピング制御信号を送
って吐出しポンプのステッピングモーターの駆動を制御
して吐き出されるフォトレジスト量を自動に制御し、吐
出しポンプのステッピングモーターが動作限界値に至る
とケミカルフィルターの交替時期として判断してフィル
ター交替信号を出力するPR量制御部と、前記PR量制御部
からのフィルター交替信号及び各種信号を表示する表示
部と、を備える。
ローラーは前記PR量感知センサーから入力される所定の
パルスで前記吐出しポンプから吐き出されるフォトレジ
スト量を算出するPR量算出部と、前記PR量算出部の算出
値をもとに前記吐出しポンプにポンピング制御信号を送
って吐出しポンプのステッピングモーターの駆動を制御
して吐き出されるフォトレジスト量を自動に制御し、吐
出しポンプのステッピングモーターが動作限界値に至る
とケミカルフィルターの交替時期として判断してフィル
ター交替信号を出力するPR量制御部と、前記PR量制御部
からのフィルター交替信号及び各種信号を表示する表示
部と、を備える。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を用いて詳しく説明する。図１は本発明によるフォ
トレジスト吐出し監視装置の全体的な構成図で、図３の
ような一般のフォトレジスト塗布装置に、吐出しポンプ
３から吐き出されるフォトレジスト量を感知するための
PR量感知センサー10、及び前記PR量感知センサー10の出
力を監視して前記吐出しポンプ３から吐き出されるフォ
トレジスト量を自動に制御するためのポンピング制御信
号を前記吐出しポンプ３に提供し、ポンピング制御信号
に従い動作する吐出しポンプ３のステッピングモーター
が動作限界値に至るとケミカルフィルター２の交替時期
として判断してケミカルフィルター２の交替信号を表示
するPR量コントローラー20がさらに具備されたもので、
従来と同一の部分に対しては同一符号を使用している。
図面を用いて詳しく説明する。図１は本発明によるフォ
トレジスト吐出し監視装置の全体的な構成図で、図３の
ような一般のフォトレジスト塗布装置に、吐出しポンプ
３から吐き出されるフォトレジスト量を感知するための
PR量感知センサー10、及び前記PR量感知センサー10の出
力を監視して前記吐出しポンプ３から吐き出されるフォ
トレジスト量を自動に制御するためのポンピング制御信
号を前記吐出しポンプ３に提供し、ポンピング制御信号
に従い動作する吐出しポンプ３のステッピングモーター
が動作限界値に至るとケミカルフィルター２の交替時期
として判断してケミカルフィルター２の交替信号を表示
するPR量コントローラー20がさらに具備されたもので、
従来と同一の部分に対しては同一符号を使用している。
【０００８】前記PR量感知センサー10は、吐出しポンプ
３から吐き出されるフォトレジスト量に従い所定のパル
スを出力するセンサーである。前記PR量コントローラー
20は、図２に示すように、PR量算出部21、PR量制御部2
2、及び表示部23からなり、前記PR量算出部21は、前記P
R量感知センサー10から入力される所定のパルスで吐出
しポンプ３から吐き出されるフォトレジスト量を算出
し、PR量制御部22は、前記PR量算出部21の算出値をもと
に前記吐出しポンプ３にポンピング制御信号を送って吐
出しポンプ３のステッピングモーターの駆動を制御して
吐き出されるフォトレジスト量を自動に制御し、吐出し
ポンプ３のステッピングモーターが動作限界値に至ると
ケミカルフィルター２の交替時期として判断して表示部
23にケミカルフィルター２の交替信号を出力し、表示部
23は、PR量制御部22からの各種表示信号を表示する。
３から吐き出されるフォトレジスト量に従い所定のパル
スを出力するセンサーである。前記PR量コントローラー
20は、図２に示すように、PR量算出部21、PR量制御部2
2、及び表示部23からなり、前記PR量算出部21は、前記P
R量感知センサー10から入力される所定のパルスで吐出
しポンプ３から吐き出されるフォトレジスト量を算出
し、PR量制御部22は、前記PR量算出部21の算出値をもと
に前記吐出しポンプ３にポンピング制御信号を送って吐
出しポンプ３のステッピングモーターの駆動を制御して
吐き出されるフォトレジスト量を自動に制御し、吐出し
ポンプ３のステッピングモーターが動作限界値に至ると
ケミカルフィルター２の交替時期として判断して表示部
23にケミカルフィルター２の交替信号を出力し、表示部
23は、PR量制御部22からの各種表示信号を表示する。
【０００９】このように構成された本発明において吐出
しポンプ3は、図示されていないスピナ制御装置から提
供される本ピング信号に従いフォトレジスト貯蔵容器１
に貯蔵されたフォトレジストを吐き出す。このとき、前
記スピナ制御装置はPR量コントローラー20に吐出し実行
信号を送って吐出しの開始を知らせる。前記吐出しポン
プ３がフォトレジストを吐き出すと、PR量感知センサー
10は吐き出されるフォトレジスト量に従い該当パルスを
出力する。前記PR量感知センサー10から出力されるパル
スは、PR量算出部21に入力され、PR量算出部21は入力さ
れるパルスによるフォトレジスト吐出し量を算出してPR
量制御部22に入力する。PR量制御部22は、PR量算出部２
１から入力された値をもとに吐出しポンプ３を駆動する
ステッピングモーターの駆動を自動に制御して吐出しが
一定に行われるようにする。
しポンプ3は、図示されていないスピナ制御装置から提
供される本ピング信号に従いフォトレジスト貯蔵容器１
に貯蔵されたフォトレジストを吐き出す。このとき、前
記スピナ制御装置はPR量コントローラー20に吐出し実行
信号を送って吐出しの開始を知らせる。前記吐出しポン
プ３がフォトレジストを吐き出すと、PR量感知センサー
10は吐き出されるフォトレジスト量に従い該当パルスを
出力する。前記PR量感知センサー10から出力されるパル
スは、PR量算出部21に入力され、PR量算出部21は入力さ
れるパルスによるフォトレジスト吐出し量を算出してPR
量制御部22に入力する。PR量制御部22は、PR量算出部２
１から入力された値をもとに吐出しポンプ３を駆動する
ステッピングモーターの駆動を自動に制御して吐出しが
一定に行われるようにする。
【００１０】即ち、前記PR量制御部22には前記吐出しポ
ンプ３を駆動するステッピングモーターの駆動値が決め
られていて、前記PR量算出部21から入力された所定単位
時間の間のフォトレジスト吐出し量が決められた値より
も小さい場合、ステッピングモーターの駆動をより速く
なるようにして吐出しポンプ３から吐き出されるフォト
レジスト量が多くなるようにし、前記PR量算出部21から
入力された所定単位時間の間のフォトレジスト吐出し量
が決められた値よりも大きい場合、ステッピングモータ
ーの駆動を遅くなるようにして吐き出しポンプ３から吐
き出されるフォトレジスト量が少なくなるようにして、
恒常一定なフォトレジストが吐き出されるようにする。
ンプ３を駆動するステッピングモーターの駆動値が決め
られていて、前記PR量算出部21から入力された所定単位
時間の間のフォトレジスト吐出し量が決められた値より
も小さい場合、ステッピングモーターの駆動をより速く
なるようにして吐出しポンプ３から吐き出されるフォト
レジスト量が多くなるようにし、前記PR量算出部21から
入力された所定単位時間の間のフォトレジスト吐出し量
が決められた値よりも大きい場合、ステッピングモータ
ーの駆動を遅くなるようにして吐き出しポンプ３から吐
き出されるフォトレジスト量が少なくなるようにして、
恒常一定なフォトレジストが吐き出されるようにする。
【００１１】仮に、前記PR量制御部22内に決められたス
テッピングモーターの最大駆動値（動作限界値）だけの
ステッピングモーターを駆動したが、吐き出されるフォ
トレジスト量が少ない場合にはケミカルフィルター２の
交替時期として判断する。それで、PR量制御部22は表示
部23にフィルター交換時期を知らせる交替信号を出力し
て、表示部23の該当メッセージが表示されるようにす
る。このとき、PR量制御部22はスピナ制御装置にもフィ
ルター交換時期を知らせる交替信号及びそのほかのエラ
ー信号を送る。
テッピングモーターの最大駆動値（動作限界値）だけの
ステッピングモーターを駆動したが、吐き出されるフォ
トレジスト量が少ない場合にはケミカルフィルター２の
交替時期として判断する。それで、PR量制御部22は表示
部23にフィルター交換時期を知らせる交替信号を出力し
て、表示部23の該当メッセージが表示されるようにす
る。このとき、PR量制御部22はスピナ制御装置にもフィ
ルター交換時期を知らせる交替信号及びそのほかのエラ
ー信号を送る。
【００１２】また、前記PR量制御部22は、前記PR量算出
部21から入力されたフォトレジスト吐出し量をもとに前
記表示部23に所定単位時間ごとにフォトレジスト吐出し
量表示信号を送って、所定単位時間ごとに吐き出される
フォトレジスト量を表示し、従って、吐き出されるフォ
トレジスト量のモニターリングをすることができる。
部21から入力されたフォトレジスト吐出し量をもとに前
記表示部23に所定単位時間ごとにフォトレジスト吐出し
量表示信号を送って、所定単位時間ごとに吐き出される
フォトレジスト量を表示し、従って、吐き出されるフォ
トレジスト量のモニターリングをすることができる。
【００１３】又、前記PR量制御部22に前記フォトレジス
ト貯蔵容器１に収容されたフォトレジストの総量値を貯
蔵すると、吐き出しポンプ３を通じて吐き出されるフォ
トレジスト量の監視が可能なので、フォトレジスト貯蔵
容器１に残されたフォトレジストの残量をわかることが
できる。本発明は上述の実施例により限定されず、当業
者により多様な変形及び変更ができるし、これは添付の
請求項で定義される本発明の趣旨と範囲に含まれる。
ト貯蔵容器１に収容されたフォトレジストの総量値を貯
蔵すると、吐き出しポンプ３を通じて吐き出されるフォ
トレジスト量の監視が可能なので、フォトレジスト貯蔵
容器１に残されたフォトレジストの残量をわかることが
できる。本発明は上述の実施例により限定されず、当業
者により多様な変形及び変更ができるし、これは添付の
請求項で定義される本発明の趣旨と範囲に含まれる。
【００１４】
【発明の効果】以上、説明したように本発明は、吐出し
ポンプを通じて吐き出されるフォトレジスト量を監視す
ることにより、これをもとに一定なフォトレジストの吐
出しができる。又、吐出しポンプを駆動するステッピン
グモーターの決められた駆動値に従いケミカルフィルタ
ーの交替時期を判断してこれを表示することができる。
更に、吐き出されるフォトレジストのモニターリングが
可能なので、工程不良の原因追跡ができ、加えて所定単
位時間当たりに吐き出されるフォトレジスト量がわかる
ことによりフォトレジスト残量及び吐き出すべき残余フ
ォトレジストの残余吐出し時間がわかることができると
いう効果がある。
ポンプを通じて吐き出されるフォトレジスト量を監視す
ることにより、これをもとに一定なフォトレジストの吐
出しができる。又、吐出しポンプを駆動するステッピン
グモーターの決められた駆動値に従いケミカルフィルタ
ーの交替時期を判断してこれを表示することができる。
更に、吐き出されるフォトレジストのモニターリングが
可能なので、工程不良の原因追跡ができ、加えて所定単
位時間当たりに吐き出されるフォトレジスト量がわかる
ことによりフォトレジスト残量及び吐き出すべき残余フ
ォトレジストの残余吐出し時間がわかることができると
いう効果がある。
【図１】本発明によるフォトレジスト吐出し監視装置の
全体的な構成図である。
全体的な構成図である。
【図２】図１のPR量コントローラーの詳細構成図であ
る。
る。
【図３】一般のフォトレジスト塗布装置の概略構成図で
ある。
ある。
１：フォトレジスト貯蔵容器
２：ケミカルフィルター
３：吐出しポンプ
４：遮断/吸引バルブ
５：ノズル
６：ウェハ
１０：PR量感知センサー
２０：PR量コントローラー
２１：PR量算出部
２２：PR量制御部
２３：表示部
Claims (3)
- 【請求項１】 ステッピングモータにより駆動される吐
出しポンプでフォトレジスト貯蔵容器に貯蔵されたフォ
トレジストが吐き出されるように構成された装置におい
て、 前記吐出しポンプから吐き出されるフォトレジスト量を
感知するためのPR量感知センサーと、 前記PR量感知センサーの出力を監視して前記吐出しポン
プから吐き出されるフォトレジスト量を自動に制御し、
前記ステッピングモーターが動作限界値に至ると、ケミ
カルフィルターの交換時期として判断してフィルター交
替信号を表示するPR量コントローラーと、を備えること
を特徴とするフォトレジスト吐出し監視装置。 - 【請求項２】 前記PR量感知センサーは、前記吐出しポ
ンプから吐き出されるフォトレジスト量に従い所定のパ
ルスを出力するセンサーであることを特徴とする請求項
１に記載のフォトレジスト吐出し監視装置。 - 【請求項３】 前記PR量コントローラーは、前記PR量感
知センサーから入力される所定のパルスで前記吐出しポ
ンプから吐き出されるフォトレジスト量を算出するPR量
算出部と、 前記PR量算出部の算出値をもとに前記吐出しポンプにポ
ンピング制御信号を送って吐出しポンプのステッピング
モーターの駆動を制御して吐き出されるフォトレジスト
量を自動に制御し、吐出しポンプのステッピングモータ
が動作限界値に至るとケミカルフィルターの交替時期と
して判断してフィルター交替信号を出力するPR量制御部
と、 前記PR量制御部からのフィルター交替信号及び各種信号
を表示する表示部と、から構成されることを特徴とする
請求項１に記載のフォトレジスト吐出し監視装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2001-0036699A KR100393289B1 (ko) | 2001-06-26 | 2001-06-26 | 포토레지스트 토출 감시장치 |
| KR2001-036699 | 2001-06-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003017380A true JP2003017380A (ja) | 2003-01-17 |
Family
ID=19711354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002186469A Pending JP2003017380A (ja) | 2001-06-26 | 2002-06-26 | フォトレジスト吐出し監視装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6712956B2 (ja) |
| JP (1) | JP2003017380A (ja) |
| KR (1) | KR100393289B1 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100452329B1 (ko) * | 2002-10-04 | 2004-10-12 | 삼성전자주식회사 | 반도체 코팅설비의 포토레지스트 퍼지 제어장치 |
| JP4382569B2 (ja) * | 2004-05-07 | 2009-12-16 | 株式会社東芝 | 塗膜形成装置、塗膜形成方法および製造管理装置 |
| JP4541069B2 (ja) * | 2004-08-09 | 2010-09-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 薬液供給システム |
| KR100702793B1 (ko) * | 2005-12-06 | 2007-04-03 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 포토 레지스트 공급장치 및 포토 레지스트 공급장치의검사방법 |
| KR100714278B1 (ko) * | 2005-12-22 | 2007-05-02 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치 제조용 포토설비의 필터 장착 알림 장치 및방법 |
| US8580117B2 (en) * | 2007-03-20 | 2013-11-12 | Taiwan Semiconductor Manufactuing Company, Ltd. | System and method for replacing resist filter to reduce resist filter-induced wafer defects |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4660586A (en) * | 1984-12-21 | 1987-04-28 | Aluminum Company Of America | Liquid level control |
| US5527161A (en) * | 1992-02-13 | 1996-06-18 | Cybor Corporation | Filtering and dispensing system |
| KR0141059B1 (ko) * | 1993-09-20 | 1998-06-01 | 코사이 아키오 | 액체공급시스템 액체공급방법 |
| KR100236270B1 (ko) * | 1996-11-18 | 1999-12-15 | 윤종용 | 감광제 분사 체크기능을 갖는 웨이퍼 스핀코팅 시스템 |
| AU3211900A (en) * | 1999-01-20 | 2000-08-07 | Mykrolis Corporation | Flow controller |
| KR100507617B1 (ko) * | 2000-12-28 | 2005-08-10 | 씨앤지하이테크 주식회사 | 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시방법 및 그 공급감시와 공급제어용 유량계측시스템 |
| US6554579B2 (en) * | 2001-03-29 | 2003-04-29 | Integrated Designs, L.P. | Liquid dispensing system with enhanced filter |
-
2001
- 2001-06-26 KR KR10-2001-0036699A patent/KR100393289B1/ko active IP Right Grant
-
2002
- 2002-06-25 US US10/178,958 patent/US6712956B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-26 JP JP2002186469A patent/JP2003017380A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20020020628A (ko) | 2002-03-15 |
| US20030002026A1 (en) | 2003-01-02 |
| US6712956B2 (en) | 2004-03-30 |
| KR100393289B1 (ko) | 2003-07-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A02 | Decision of refusal |
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