KR20020083296A - 스핀코팅장치의 포토레지스트 용액 공급장치 및 방법 - Google Patents

스핀코팅장치의 포토레지스트 용액 공급장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 스핀코팅장치의 포토레지스트 용액 공급장치 및 방법에 관한 것으로서, 특히 본 발명의 방법은 포토레지스트 용액을 운반하기 위한 운반용기와, 상기 운반용기의 포토레지스트 용액이 저장되는 중간탱크와, 상기 중간탱크의 포토레지스트 용액을 펌핑하기 위한 펌프와, 상기 펌프를 통해 펌핑된 포토레지스트 용액 내의 불순물을 필터링하기 위한 필터와, 상기 필터를 통하여 제공된 포토레지스트 용액이 노즐을 통해 토출되는 것을 개폐하기 위한 서크밸브와, 상기 필터와 서크밸브 사이의 배관에 설치되어 공급되는 포토 레지스트 용액의 유량을 검출하기 위한 유량계측기와, 상기 유량계측기로부터 제공되는 유량계측신호에 응답하여 포토레지스트 용액의 공급을 제어하는 제어부를 포함한다. 따라서, 본 발명에서는 포토레지스트 용액의 공급이상시 이를 검출하여 장비 동작을 인터록시킴으로써 웨이퍼 불량을 방비할 수 있다.

Description

스핀코팅장치의 포토레지스트 용액 공급장치 및 방법{Apparatus and method for supplying photoresist solution of spin coating apparatus}
본 발명은 스핀코팅장치의 포토레지스트 용액 공급장치 및 방법에 관한 것으로서, 특히 스핀코팅장치에서 포토레지스트 용액 공급 이상을 유량계로 검출하여장치의 동작을 인터록시킴으로써 설비 불합리로 인한 공정 불량을 방지할 수 있는 장치 및 방법에 관한 것이다.
반도체 웨이퍼상에 집적회로를 형성함에 있어서, 집적회로의 회로요소에 대응하는 패턴은 사진식각공정에 의해 이루어진다.
사진식각공정은 1차적으로 웨이퍼 상에 포토레지스트막을 입히고, 입혀진 포토레지스층을 회로패턴이 형성된 마스크를 통하여 노광하고 현상하여 포토레지스트 패턴을 형성한다. 이어서, 형성된 포토레지스트 패턴을 식각마스크로 사용하여 노출된 하부막을 건식 도는 습식방법으로 식각함으로써 원하는 패턴을 형성하게 된다.
이와 같은 사진식각공정시 가장 먼저 포토레지스트를 웨이퍼 표면상에 코팅하는 작업이 요구된다.
통상적으로 포토레지스트막은 스핀코팅장비에서 수행된다. 스핀코팅장비는 웨이퍼를 소정 회전수로 회전시키면서 웨이퍼의 중심 부근에 포토레지스트 용액을 떨어뜨리고, 웨이퍼 상에 떨어진 포토레지스트 용액은 원심력에 의해 주변으로 균일하게 퍼지면서 웨이퍼 표면을 코팅하게 된다.
따라서, 스핀코팅장비에서 포토레지스트 용액이 원할하게 공급되지 않으면 코팅불량, 패턴 불량 등의 공정에러의 발생으로 웨이퍼가 쓸모 없게 된다.
스핀코팅장비에 공급되는 포토레지스트 용액은 포토레지스트 운반용기로부터 중간탱크에 저장되고 중간탱크에 저장된 포토레지스트 용액은 펌프에 의해 펌핑되어 필터를 통하여 서크(suck)밸브를 거쳐서 노즐을 통해 공급되게 된다.
그러므로, 이와 같은 공급과정에서 포토레지스트용액의 비정상적인 공급은 중간탱크로부터 용액을 펌핑하는 펌프의 이상, 필터 이상, 공급관 막힘 등으로 발생하게 된다.
따라서, 포토레지스트 용액의 원할한 공급상태의 체크가 요구되고 있다.
더구나, 종래에는 펌프나 밸브 이상에 의한 인터록 기능은 있었지만, 공급 유량 이상에 의한 인터록 기능이 없었다.
따라서, 펌프나 서크 밸브는 정상이나 필터나 공급관 이상으로 인한 공급유량 이상에 의한 포토레지스트 용액의 공급장치 이상시에 스핀코팅장비의 인터록 기능이 없어서 작업자가 작업을 정지시키기 전에는 웨이퍼 상의 코팅불량 작업이 그대로 진행되므로 재작업 및 리젝트되는 웨이퍼로 인하여 생산성이 저하되는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 이와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 필터와 서크밸브 사이의 공급관에 유량계를 구비시켜 정상동작시 공급되는 포토레지스트 용액의 토출량, 토출시간 등을 측정함으로써, 이상 발생시에 장비의 동작을 인터록시킬 수 있는 스핀코팅장치의 포토레지스트 용액의 공급장치 및 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은 유량계의 검출신호를 분석하여 필터의 교체시기를 산출하고, 산출된 교체시점에서 이를 표시함으로써 장치의 유지보수를 용이하게 할 수 있는 스핀코팅장치의 포토레지스트 용액의 공급장치 및 방법을 제공하는 데 있다.
도 1은 본 발명에 의한 스핀코팅장치의 포토레지스트 용액 공급장치의 구성을 나타낸 도면.
도 2는 본 발명에 의한 스핀코팅장치의 동작을 설명하기 위한 플로챠트.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10 : 운반용기12 : 센서
14 : 중간탱크16 : 펌프
18 : 필터20 : 서크밸브
22 : 노즐30 : 스핀코팅장비
32 : 회전척34 : 모터
40 : 유량계50 : 제어부
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 장치는 포토레지스트 용액을 운반하기 위한 운반용기와, 상기 운반용기의 포토레지스트 용액이 저장되는 중간탱크와, 상기 중간탱크의 포토레지스트 용액을 펌핑하기 위한 펌프와, 상기 펌프를 통해 펌핑된 포토레지스트 용액 내의 불순물을 필터링하기 위한 필터와, 상기 필터를 통하여 제공된 포토레지스트 용액이 노즐을 통해 토출되는 것을 개폐하기 위한 서크밸브와, 상기 필터와 서크밸브 사이의 배관에 설치되어 공급되는 포토 레지스트 용액의 유량을 검출하기 위한 유량계측기와, 상기 유량계측기로부터 제공되는 유량계측신호에 응답하여 포토레지스트 용액의 공급을 제어하는 제어부를 구비한 것을 특징으로 한다.
본 발명에서 제어부는 상기 유량계측신호에 응답하여 포토레지스트 용액의 토출량 및 토출시간을 설정하는 것을 바람직하다.
또한, 제어부는 상기 유량계측신호에 응답하여 상기 필터의 사용기한을 설정하고 교체시기를 예고하는 기능을 더 구비하는 것이 바람직하다.
제어부는 상기 유량계측신호에 응답하여 포토레지스트 용액의 공급시 이상발생여부를 체크하여 이상 발생시 인터락을 수행한다.
본 발명의 방법은 운반용기로부터 포토레지스트 용액을 중간탱크에 저장하는 단계와, 상기 중간탱크의 포토레지스트 용액을 펌프를 통해 토출 노즐로 펌핑하는 단계와, 상기 펌프를 통해 펌핑된 포토레지스트 용액 내의 불순물을 필터링하는 단계와, 상기 필터를 통하여 제공된 포토레지스트 용액을 서크밸브를 개방하여 노즐을 통해 토출하는 단계와, 상기 토출되는 포토레지스트 용액의 유량을 유량 계측기로 계측하는 단계와, 상기 유량계측기로부터 제공되는 유량계측신호에 응답하여 이상 검출시에는 인터락(interlock)을 수행하는 단계를 구비한 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도 1은 본 발명에 의한 스핀코팅장치의 포토레지스트 용액 공급장치의 구성을 나타낸다. 도 1를 참조하면, 포토레지스트 용액은 운반용기(10)로부터 중간탱크(14)에 저장되게 된다. 이 때, 중간탱크(12)에 저장되는 포토레지스트 용액의 공급은 센서(12)에 의해 제어부(50)에서 검출된다.
중간탱크(14)에는 드레인관(14a)이 설치되어 내부에 남겨진 용액을 배출한다. 중간탱크(14)에 저장된 포토레지스트 용액은 펌프(16)를 통하여 필터(18)에 제공되고 필터(18)에서는 용액을 필터링하여 서크밸브(20)를 통해 노즐(22)로 공급된다. 필터(18)에도 드레인관(18a)이 설치되어 불순물이 포함된 찌거기 용액을 배출한다.
펌프(16)는 제어부(50)에 연결되어 제어부(50)의 제어 알고리즘에 의해 구동된다.
본 발명에서는 필터(40)와 서크밸브(20) 사이의 공급관에 유량계(40)를 설치한다. 유량계(40)는 공급관을 통하여 토출되는 포토레지스트 용액의 토출량을 검출하고 검출된 신호를 제어부(50)에 제공한다. 서크밸브(20)는 제어부(50)의 제어알고리즘에 의해 계폐동작이 제어된다.
스핀코팅장비(30)는 회전척(32)을 회전모터(34)로 회전 구동하여 회전척(32)에 흡착된 웨이퍼(W)를 소정 회전수로 회전시킨다. 노즐(22)은 웨이퍼(W)의 중심부상단에 대응하는 위치에 고정되어 웨이퍼(W) 상에 포토레지스트 용액을 떨어뜨린다. 따라서, 웨이퍼에 떨어진 용액은 원심력에 의해 웨이퍼(W)의 표면을 따라 중심부로부터 가장자리로 펴져나가면서 전체 표면을 균일한 두께로 코팅하게 된다.
도 2는 본 발명에 의한 스핀코팅장비의 동작을 설명하기 위한 플로챠트를 나타낸다.
도 2를 참조하면, 먼저, 운반용기(10)로부터 포토레지스트 용액을 중간탱크(14)에 저장한다. 스핀코팅장비(30)에 웨이퍼(W)를 로딩하면 회전척(32) 상에 웨이퍼(W)가 흡착 고정된다.
한편, 제어부(50)에서는 시스템을 초기화하고(S1) 포토 레지스트 용액의 토출량 및 토출시간을 설정하게 된다(S2). 제어부(50)에서 회전모터(34)를 구동하여 회전척(32)을 소정 회전속도로 회전시킨다(S3).
제어부(50)에서는 서크밸브(20)를 개방하고(S4), 펌프(16)를 구동하여 중간탱크(14)의 포토레지스트 용액을 펌핑하기 시작한다(S5). 펌핑된 포토레지스트 용액은 필터(18), 유량계(40) 및 서크밸브(20)를 거쳐서 노즐(22)에 공급되어 웨이퍼(W) 상에 공급되게 된다.
유량계(40)에서는 통과되는 포토레지스트 용액의 토출량을 검출하고 검출된 검출신호를 제어부(50)에 제공한다(S6).
제어부(S7)에서는 설정된 토출시간을 체크하고(S7), 유량계(40)로부터 수신된 검출신호를 분석하여 토출 이상을 체크한다(S8).
S8단계에서 제어부(50)는 토출 이상이 발견되면, 예컨대 펌프나 필터 이상 등으로 단위 시간당 토출량의 변화가 감지될 경우에는 즉, 적정 포토레지스트 용액의 공급이 이루어지지 않아서 코팅불량이 발생될 경우에는 서크밸브(20)를 차단하고, 펌프(16) 동작을 정지시키며, 회전모터(34)의 동작을 정지시키는 인터록 동작을 수행한다(S9).
따라서, 이상 발생시에는 그 이상의 작업 진행이 이루어지지 않고 일시 정지되며 작업자에게 알람 등을 발생하게 된다.
상기 S8 단계에서 이상 발생이 검출되지 않을 경우에는 S7단계의 토출시간을 체크하고 설정된 토출시간이 되었을 경우에는 서크밸브(20)를 차단하고, 펌프(16) 동작을 정지시키고 회전모터(34)의 동작을 정지시킨다(S10).
한편, 제어부(50)에서는 유량계(40)로부터 제공된 검출신호를 분석하여 필터(18)의 교체시간을 산출하고, 필터(18)의 교체시간이 검출되면, 이를 알람으로 발생하여 작업자에게 필터의 교체시점을 알려줄 수도 있다.
비록 본 발명의 구성요소들이 특정한 실시예와 관련되어 기술되었지만 본 발명은 수많은 다른 방법으로도 구현될 수 있다. 결론적으로, 설명하는 과정에서 묘사된 특정한 실시예는 절대로 한정적으로 해석되기를 의도한 것이 아니라는 것이다. 본 실시예의 구체적인 부분에 대한 참조는 본 발명의 필수 구성요소라고 간주되는 특징만을 기술하고 있는 청구범위의 보호영역을 한정하려는 의도가 아니다.
상술한 바와 같이, 본 발명에서는 포토레지스트 용액의 공급상태를 유량계로 검출하여 공급 이상시 장비의 동작을 인터록시킬 수 있으므로, 이상 발생으로 인한 불량 웨이퍼의 발생을 차단시킬 수 있고, 필터의 교체시점을 산출할 수 있으므로, 장비의 유지보수가 용이하다.

Claims (8)

  1. 포토레지스트 용액을 운반하기 위한 운반용기;
    상기 운반용기의 포토레지스트 용액이 저장되는 중간탱크;
    상기 중간탱크의 포토레지스트 용액을 펌핑하기 위한 펌프;
    상기 펌프를 통해 펌핑된 포토레지스트 용액 내의 불순물을 필터링하기 위한 필터;
    상기 필터를 통하여 제공된 포토레지스트 용액이 노즐을 통해 토출되는 것을 개폐하기 위한 서크밸브;
    상기 필터와 서크밸브 사이의 배관에 설치되어 공급되는 포토 레지스트 용액의 유량을 검출하기 위한 유량계측기; 및
    상기 유량계측기로부터 제공되는 유량계측신호에 응답하여 포토레지스트 용액의 공급을 제어하는 제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 스핀코팅장치의 포토레지스트 용액 공급장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제어부는
    상기 유량계측신호에 응답하여 포토레지스트 용액의 토출량을 설정하는 것을 특징으로 하는 스핀코팅장치의 포토레지스트 용액 공급장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 제어부는
    상기 유량계측신호에 응답하여 포토레지스트 용액의 토출시간을 설정하는 것을 특징으로 하는 스핀코팅장치의 포토레지스트 용액 공급장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 제어부는
    상기 유량계측신호에 응답하여 상기 필터의 사용기한을 설정하고 교체시기를 예고하는 것을 특징으로 하는 스핀코팅장치의 포토레지스트 용액 공급장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 제어부는
    상기 유량계측신호에 응답하여 포토레지스트 용액의 공급시 이상발생여부를 체크하여 이상 발생시 인터락을 수행하는 것을 특징으로 하는 스핀코팅장치의 포토레지스트 용액 공급장치.
  6. 운반용기로부터 포토레지스트 용액을 중간탱크에 저장하는 단계;
    상기 중간탱크의 포토레지스트 용액을 펌프를 통해 토출 노즐로 펌핑하는 단계;
    상기 펌프를 통해 펌핑된 포토레지스트 용액 내의 불순물을 필터링하는 단계;
    상기 필터를 통하여 제공된 포토레지스트 용액을 서크밸브를 개방하여 노즐을 통해 토출하는 단계;
    상기 토출되는 포토레지스트 용액의 유량을 유량 계측기로 계측하는 단계;및
    상기 유량계측기로부터 제공되는 유량계측신호에 응답하여 이상 검출시에는 인터락을 수행하는 단계를 구비한 것을 특징으로 하는 스핀코팅장치의 포토레지스트 용액 공급방법.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 방법은 유량계의 검출신호를 분석하여 필터의 교체시기를 산출하고 이 교체시기를 표시하는 기능을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 스핀코팅장치의 포토레지스트 용액 공급방법.
  8. 웨이퍼를 회전시키면서 상기 웨이퍼 상에 포토레지스트 용액을 떨어뜨려서 포토레지스트 용액을 코팅하는 스핀코팅장치에 있어서,
    상기 포토레지스트 용액의 공급관에 설치되어 용액의 토출량을 측정하기 위한 유량계; 및
    상기 유량계로부터 제공되는 유량계측신호에 응답하여 포토레지스트 용액의 토출량 및 토출시간을 제어하고, 이상 발생시에는 상기 스핀코팅장치의 동작을 인터록시키는 제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 스핀코팅장치의 포토레지스트 용액 공급장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100625323B1 (ko) * 2005-08-23 2006-09-15 세메스 주식회사 급변하는 공정에서 실시간으로 인터락 제어를 위한 반도체제조 설비 및 그 방법
KR100702793B1 (ko) * 2005-12-06 2007-04-03 동부일렉트로닉스 주식회사 포토 레지스트 공급장치 및 포토 레지스트 공급장치의검사방법
CN108598026A (zh) * 2018-06-27 2018-09-28 武汉华星光电技术有限公司 显示面板蚀刻装置、制程单元及其流量控制方法
CN111090220A (zh) * 2018-10-23 2020-05-01 长鑫存储技术有限公司 供给系统

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100625323B1 (ko) * 2005-08-23 2006-09-15 세메스 주식회사 급변하는 공정에서 실시간으로 인터락 제어를 위한 반도체제조 설비 및 그 방법
KR100702793B1 (ko) * 2005-12-06 2007-04-03 동부일렉트로닉스 주식회사 포토 레지스트 공급장치 및 포토 레지스트 공급장치의검사방법
CN108598026A (zh) * 2018-06-27 2018-09-28 武汉华星光电技术有限公司 显示面板蚀刻装置、制程单元及其流量控制方法
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