KR20060057706A - 필터 하우징 제어장치 및 제어방법 - Google Patents

필터 하우징 제어장치 및 제어방법 Download PDF

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KR20060057706A
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이종화
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Abstract

포토레지스트를 필터링하기 위한 필터가 내장되며, 상기 포토레지스트를 공급하기 위한 공급라인, 상기 포토레지스트를 배출하기 위한 디스펜스라인 및 내부의 기포를 배출하기 위한 드레인라인이 연결되어진 필터 하우징을 제어하기 위한 필터 하우징 제어장치가 개시된다. 그러한 필터 하우징 제어장치는 상기 포토레지스트의 배출량이 일정하게 되도록 하기 위하여, 상기 기포에 의한 압력의 변화에 따라 상기 필터 하우징 내부의 압력을 조절하는 것을 특징으로 한다. 그리하여, 본 발명은 필터 하우징 제어장치를 제공함으로써, 기포에 기인한 노즐에서의 포토레지스트 분사량의 저하 또는 불안정으로 반도체 웨이퍼의 코팅 불량이 발생하는 문제를 감소 또는 최소화하여, 반도체 메모리 장치의 수율이 증가되도록 하는 효과를 갖는다.
포토레지스트, 필터, 필터 하우징, 기포, 드레인라인

Description

필터 하우징 제어장치 및 제어방법{Apparatus for controlling filter housing and method for controlling filter housing}
도 1은 종래의 필터 하우징을 개략적으로 나타낸 단면도.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 필터 하우징 제어장치를 갖는 필터 하우징을 개략적으로 나타낸 단면도.
도 3은 도2에서의 필터 하우징 제어장치를 별도로 나타낸 블럭도.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 필터 하우징 제어방법을 나타낸 흐름도.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
102 : 필터 하우징 104 : 필터
106 : 필터 하우징내벽 108 : 공급라인
110 : 펌프부 111 : 드레인라인
112 : 디스펜스라인 114 : 기포
116 : 압력 체크 센서부 118 : 덮개
120 : 펌프제어부 122 : 기준값 설정부
124 : 비교부 126 : 펌프 제어신호 발생부
본 발명은 반도체 웨이퍼의 표면에 포토레지스트를 도포하는 코팅 장비에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 코팅 장비에서의 필터 하우징에 관한 것이다.
일반적으로, 웨이퍼 상에 임의의 패턴을 형성하기 위한 방법으로는 포토리소그래피(photolithography) 공정이 이용되고 있다. 이 방법은 식각 대상물 상에 포토레지스트(photo resist, PR)를 코팅한 후, 래티클(reticle)또는 마스크(mask)를 사용하여 코팅된 포토레지스트의 소정 부분을 노광하고, 이어서 노광된 부분 또는 노광되지 않은 부분을 현상 용액으로 제거하여 패턴 형성용 마스크를 형성한 후, 이러한 마스크로 식각 대상물을 식각하여 소정의 패턴을 형성하는 방법이다.
상기한 포토레지스트를 코팅하기 위한 코팅(coating) 장비는, 코팅된 반도체 웨이퍼(wafer)를 공정 흐름에 따라 필요한 때에 순차적으로 1개씩 분리하여 이송하는 센더 인덱스(sender Index), 상기 센더 인덱스의 동작에 따라 이송되어 온 반도체 웨이퍼의 표면에 묻은 물기를 HMDS가스에 의해 제거하여 포토레지스트의 흡착력을 향상시키는 흡착 유니트(adhension unit), 상기 HMDS가스에 의해 물기가 제거된 반도체 웨이퍼를 냉각시키는 냉각 플레이트(chill plate), 포토레지스트를 반도체 웨이퍼의 표면에 코팅하는 코팅 유니트(coating unit), 반도체 웨이퍼를 가열하여 표면에 코팅된 포토레지스트를 경화시키는 열판(hot plate) 및 포토레지스트가 코팅된 반도체 웨이퍼를 카세트(cassette) 내에 차례로 수납하는 리시브 인덱스 (receive index)를 포함하고 있다.
따라서, 포토레지스트를 코팅하기 위한 반도체 웨이퍼가 가득 채워진 카세트를 센더 인덱스에 로딩시킨 상태에서 스타트 스위치 버튼을 누르면 이송수단이 카세트내에 담겨져 있던 반도체 웨이퍼를 공정의 흐름에 따라 요구되는 시기에 한번에 1개씩 분리하여 흡착 유니트로 이송시킨다.
이러한 동작에 의해 1개의 반도체 웨이퍼가 흡착 유니트의 열판의 상면으로 이송되어 오면 반도체 웨이퍼를 진공에 의해 흡착하고 상기 열판의 외측으로 설치되어 하강하였던 컵이 상승하게 된다.
이러한 상태에서 상기 흡착 유니트에 HMDS가스가 채워져 공정을 진행하면 반도체 웨이퍼의 표면에 묻어 있던 물기가 완전히 건조되므로 상승하였던 컵이 하강되고, 반도체 웨이퍼는 다음 공정인 냉각 플레이트로 이송되어 냉각된다.
이와 같이 하여 반도체 웨이퍼가 초기 상태로 냉각되면, 반송 수단에 의해 코팅 유니트 측으로 이송되어 회전 척(spin chuck)에 흡착 고정된다.
상기 회전 척이 회전하는 상태에서 노즐(12)을 통해 포토레지스트가 분사되면 분사된 포토레지스트가 원심력에 의해 반도체 웨이퍼의 방사상으로 퍼지게 되므로 반도체 웨이퍼의 표면에 포토레지스트가 골고루 코팅된다.
이에 따라 반도체 웨이퍼의 표면에 포토레지스트가 코팅되고 나면, 상기 반도체 웨이퍼는 이송 수단에 의해 열판이 설치된 부위로 이송되어 일정 온도로 가열되므로 웨이퍼의 표면에 코팅된 포토레지스트가 경화된다.
이와 같이 하여 코팅된 포토레지스트가 경화되고 나면 반도체 웨이퍼는 리시 브 인덱스에 얹혀져 있던 카세트 내에 차례로 수납되므로써, 반도체 웨이퍼 상에 포토레지스트가 코팅되는 공정이 완료된다. 이와 같은 코팅 공정에서 반도체 웨이퍼의 표면에 포토레지스트를 코팅하는 코팅 유니트에 대해 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.
코팅 유니트는 대개, 반도체 웨이퍼의 표면에 코팅하고자 하는 포토레지스트가 담겨진 용기, 용기 내의 포토레지스트를 저장하는 버퍼 탱크(buffer tank), 용기 및 버퍼 탱크내의 포토레지스트를 펌핑하는 펌프, 상기 펌프의 동작으로 이송되는 포토레지스트 내에 함유된 불순물을 여과하는 필터 하우징, 회전하는 반도체 웨이퍼의 표면에 여과된 포토레지스트를 분사시키는 노즐, 필터 하우징과 노즐 사이에 설치된 뉴메틱 밸브(pneumatic valve) 및 공정을 진행할 반도체 웨이퍼를 진공으로 흡착함과 동시에 고속으로 회전시키는 회전 척을 포함하고 있다. 여기서 상기와 같은 각 구성 부분 간의 상호 연결은 관로에 의해 이루어져 있다.
공정이 진행되는 반도체 웨이퍼의 표면이 흡착 유니트와 냉각 플레이트에 의해 물기 및 습기가 완전히 제거된 상태에서 회전 척으로 이송되어 오면 반도체 웨이퍼는 회전 척에 진공 흡착된다.
그 후, 회전 척이 회전하는 상태에서 펌프의 동작으로 필터 하우징을 통과하여 불순물이 제거된 포토레지스트가 노즐을 통해 반도체 웨이퍼의 상면으로 분사되면 포토레지스트는 반도체 웨이퍼의 표면에 균일하게 코팅된다.
한편, 상기와 같은 펌프의 펌핑력에 의해 상기 포토레지스트가 필터 하우징으로 유입되는 과정에서 상기 펌프의 동작에 따른 압력 변화로 인해 상기 포토레지 스트 내에는 기포가 생성된다. 또한, 상기와 같이 포토레지스트 내에 기포가 함유되는 현상은 펌프의 구동에 따른 발생 뿐만 아니라 용기의 교체시나 각 관로의 연결부 기밀 저하 등 여러 가지의 요인으로 인해 포토레지스트가 유동하는 과정에서 공기와 접촉하게 되므로 결국, 상기 포토레지스트 내에는 기포가 생성됨과 함께 상기와 같이 생성된 기포는 포토레지스트 내에 함유된 상태로 상기 포토레지스트와 함께 유동하게 된다.
이에 따라 기포를 제거한 상태에서 포토레지스트를 코팅하여야만 반도체 웨이퍼에서 생산되는 반도체 메모리 장치의 수율(yield)을 향상시킬 수 있으므로 기포를 제거하기 위해 또 다른 장치가 필요로 하게 되는데, 이같은 장치로서는 일반적으로 포토레지스트내의 이물질을 제거하기 위해 구성된 필터하우징이 이용된다.
이하에서는 상기 필터 하우징에 대하여 도 1을 참조하여 좀더 구체적으로 살펴본다.
도 1은 종래의 필터 하우징을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 1을 참조하면, 필터 하우징(2)의 내부에는 상기 필터 하우징 내로 공급되는 포토레지스트 내에 혼합된 불순물을 걸러 주도록 하기 위한 벨로우즈(bellows) 형태의 필터(4)가 내장되어 있고, 상기 필터 하우징(2)의 상측에는 내부를 밀폐시키는 덮개(18)가 결합되어 있다. 여기서, 상기 덮개(18)의 저면과 상기 필터(14)의 상부면 사이에는 일정 간격의 틈새가 형성되어 있다. 그리고, 상기 덮개(18)에는 포토레지스트가 유입되는 공급라인(8), 필터링된 포토레지스트를 노즐측으로 배출시키는 디스펜스라인(12) 및 상기 포토레지스트 내에 함유되어 있는 기포를 배출시 키기 위한 드레인라인(10)이 연결되어 있다.
상기와 같은 필터 하우징(2)은 회전 척에 포토레지스트를 코팅하기 위해 반도체 웨이퍼를 흡착시킨 상태에서 버퍼 탱크(미도시)와 상기 필터 하우징(2) 사이에 설치된 펌프(미도시)를 구동시키게 된다. 이에 따라 상기 버퍼 탱크 내에 저장되어 있던 포토레지스트는 상기 펌프의 펌핑력에 의해 상기 공급 라인(8)을 통해 상기 필터 하우징(2) 내로 유입된 다음, 불순물 및 기포(14)가 제거된 상태로 상기 디스펜스 라인(12)을 거쳐 노즐(미도시)에 의하여 상기 반도체 웨이퍼에 코팅되게 된다. 여기서, 펌핑 과정 및 관로 내를 이동하는 과정에서 발생하여 포토레지스트 액에 함유된 기포는 저압측인 상기 드레인라인(10) 부근으로 모이게 되며, 펌핑압에 의해 일부 포토레지스트와 함께 드레인되어 드레인통(미도시)에 담겨지게 된다.
여기서, 상기 기포(14)는 상기 필터 하우징(2)의 필터 내부로 유입되지 못하게 되어, 상기 필터 하우징의 외부인 필터 하우징내벽(6)과 상기 필터 사이에 축적되게 된다. 그리하여, 상기 기포(14)에 기인하여 상기 필터 하우징(2) 내부의 압력 변화가 초래된다. 그리고, 이러한 압력 변화로 인하여 상기 디스펜스 라인(12)으로 배출되는 포토레지스트의 양 또는 배출 속도가 저하되는 현상을 초래하며, 결국에는 상기 노즐에 의하여 분사되는 포토레지스트의 분사량 또는 분사 속도의 불안정을 초래하게 된다. 결과적으로, 상기 디스펜스 라인(12)으로 배출되는 포토레지스트의 양의 저하 또는 불균일로 인하여 코팅 불량이 생기게 되고, 이는 반도체 메모리 장치의 수율 저하를 초래하는 직접적인 원인이 된다.
따라서, 본 발명의 목적은 상기한 기포가 필터 하우징에 축적됨으로 인하여 디스펜스 라인으로 배출되는 포토레지스트의 양이 저하되는 문제를 감소시키기 위한 필터 하우징 제어장치 및 제어방법을 제공함에 있다.
본 발명의 다른 목적은 디스펜스 라인으로 배출되는 포토레지스트의 양 또는 배출 속도의 저하 문제를 감소시켜, 노즐에 의하여 분사되는 포토레지스트의 분사량 또는 분사 속도를 안정하게 하기 위한 필터 하우징 제어장치 및 제어방법을 제공함에 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 기포에 기인한 노즐에서의 포토레지스트 분사량의 저하 또는 불안정으로 반도체 웨이퍼의 코팅 불량이 발생하는 문제를 감소 또는 최소화하여, 반도체 메모리 장치의 수율이 증가되도록 하기 위한 필터 하우징 제어장치 및 제어방법을 제공함에 있다.
상기의 목적들을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예적 구체화에 따라 포토레지스트를 필터링하기 위한 필터가 내장되며 상기 포토레지스트를 공급하기 위한 공급라인과 상기 포토레지스트를 배출하기 위한 디스펜스라인과 내부의 기포를 배출하기 위한 드레인라인이 연결되어진 필터 하우징을 제어하기 위한 필터 하우징 제어장치는, 상기 포토레지스트의 배출량이 일정하게 되도록 하기 위하여, 상기 기포에 의한 압력의 변화에 따라 상기 기포를 상기 드레인라인을 통하여 배출시켜 상기 필터 하우징 내부의 압력을 조절하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 필터 하우징 제어장치는 상기 기포를 배출하여 상기 필터 하우 징 내부의 압력을 조절하기 위하여 상기 드레인라인 상에 설치되는 펌프부를 가질 수 있다.
또한, 상기 필터 하우징 제어장치는, 상기 필터 하우징의 내부에 장착되어지며 상기 기포에 의한 압력을 감지하기 위한 압력체크 센서부를 가질 수 있다.
또한, 상기 필터 하우징 제어장치는, 상기 디스펜스라인으로 배출되는 상기 포토레지스트의 양이 일정하게 유지되는 경우의 상기 기포에 의한 압력인 기준값과 상기 압력체크 센서부로부터 감지된 압력인 측정값을 비교하여 상기 펌프부를 제어하기 위한 제1 제어신호 및 제2 제어신호를 생성하는 펌프제어부를 가질 수 있다.
또한, 상기 펌프제어부는 상기 기준값을 설정하기 위한 기준값 설정부와, 상기 기준값과 상기 측정값을 비교하기 위한 비교부를 가질 수 있다.
또한, 상기 제1 제어신호는 상기 측정값이 상기 기준값 이상인 경우에 생성되는 신호로서, 상기 펌프부가 작동하여 상기 기포가 디스펜스라인으로 배출되도록 하기 위한 신호인 것이 바람직하며, 상기 제2 제어신호는 상기 측정값이 상기 기준값 미만인 경우에 생성되는 신호로서, 상기 펌프부에 의한 상기 기포의 배출이 중지되도록 하기 위한 신호인 것이 바람직하다.
또한, 상기 펌프제어부는 상기 제1 제어신호 및 상기 제2 제어신호를 생성하기 위한 펌프제어신호 발생부를 가질 수 있다.
상기의 목적들을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예적 구체화에 따라 포토레지스트를 필터링하기 위한 필터가 내장되며 상기 포토레지스트를 공급하기 위한 공급라인과 상기 포토레지스트를 배출하기 위한 디스펜스라인과 내부의 기포를 배출 하기 위한 드레인라인이 연결되어진 필터 하우징을 제어하기 위한 필터 하우징 제어방법은, 상기 필터 하우징의 내부의 상기 기포에 의한 압력을 감지하는 단계; 상기 디스펜스라인으로 배출되는 상기 포토레지스트의 양이 일정하게 유지되는 경우의 상기 기포에 의한 압력인 기준값과 상기 압력체크 센서부로부터 감지된 압력인 측정값을 비교하여 판단하는 단계; 및 상기 기준값과 상기 측정값의 비교 결과, 이상상태인 경우에는 상기 기포를 배출하여 압력을 조절하고, 상기 이상상태가 아니라면 상기 기포의 배출이 중단되는 단계를 갖는 것을 특징으로 한다.
이하 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다양한 실시예에서의 설명들은 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가지는 자에게 본 발명의 보다 철저한 이해를 돕기 위한 의도 이외에는 다른 의도없이 예를 들어 도시되고 한정된 것에 불과하므로, 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 사용되어서는 아니 될 것이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 필터 하우징 제어장치를 갖는 필터 하우징을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 2를 참조하면, 필터 하우징(102), 필터(104), 필터 하우징내벽(106), 공급라인(108), 펌프부(110), 드레인라인(111), 디스펜스라인(112), 기포(114), 압력 체크 센서부(116) 및 덮개(118)가 도시되어져 있다.
즉, 상기 필터 하우징(102)의 내부에는 상기 필터 하우징(102) 내로 공급되 는 포토레지스트 내에 혼합된 불순물을 걸러 주도록 하기 위한 벨로우즈(bellows) 형태의 필터(104)가 내장되어 있고, 상기 필터 하우징(102)의 상측에는 내부를 밀폐시키는 덮개(118)가 결합되어 있다.
상기 덮개(118)의 저면과 상기 필터(104)의 상부면 사이에는 일정 간격의 틈새가 형성되어 있다.
상기 공급라인(108)은 포토레지스트가 유입되는 라인이며, 상기 디스펜스라인(112)은 상기 필터(104)에 의하여 필터링된 포토레지스트를 노즐(미도시) 측으로 배출시키기 위한 라인이며, 상기 드레인라인(111)은 상기 포토레지스트 내에 함유되어 있는 기포를 배출시키기 위한 라인이다.
그리고, 상기 덮개(118)에는 상기 공급라인(108), 상기 디스펜스라인(112) 및 상기 드레인라인(111)이 연결되어져 있다.
상기와 같은 필터 하우징(102)은 상기 포토레지스트를 코팅하기 위해, 회전 척(미도시)에 반도체 웨이퍼를 흡착시킨 상태에서, 버퍼 탱크(미도시)와 상기 필터 하우징(102) 사이에 설치된 공급펌프(미도시)를 구동시키게 된다. 이에 따라 상기 버퍼 탱크 내에 저장되어 있던 포토레지스트는 상기 공급펌프의 펌핑력에 의해 상기 공급 라인(108)을 통해 상기 필터 하우징(102) 내로 유입된 다음, 불순물 및 기포(114)가 제거된 상태로 상기 디스펜스 라인(112)을 거쳐 노즐(미도시)에 의하여 상기 반도체 웨이퍼에 코팅되게 된다.
여기서, 펌핑 과정 및 관로 내를 이동하는 과정에서 발생하여 포토레지스트 액에 함유된 기포는 저압측인 상기 드레인라인(111) 부근으로 모이게 되며, 펌핑압 에 의해 일부 포토레지스트와 함께 드레인되어 드레인통(미도시)에 담겨지게 된다. 즉, 상기 펌핑 과정 및 관로 내를 이동하는 과정에서 발생된 기포는 상기 필터 하우징(102) 내부로 유입될 때에는 그 크기가 미세하나, 상기 공급라인(108)에 의한 계속적인 포토레지스트의 공급이 수행되어지는 경우에는 상기 포토레지스트액과 함께 유입되는 기포(114)는 점차 성장하게 된다. 그러나, 이 경우 상기 필터(104)의 특성상, 상기 기포(114)는 상기 필터(104)를 통과하지 않게 되고 상기 필터 하우징내벽(106)과 상기 필터(104)사이에서 성장하여 상승하게 된다. 이와 같은 문제로 인하여 상기 필터 하우징(102) 내부의 압력이 고압에서 저압으로 변화를 보이게 되며 결국에는 상기 디스펜스라인(112)으로 배출되는 포토레지스트의 양의 차이를 발생시키게 된다. 일반적으로, 포토리소그래피 공정에서는 예를 들어, 약 3CC 이하로 디스펜스를 하게 되는데, 상기와 같은 저압으로의 변화가 발생하는 경우에는 약 1CC 이하까지 배출되는 포토레지스트의 량이 저하되는 현상이 발생하게 된다.
따라서, 이를 방지하고자 본 발명은 상기 포토레지스트의 배출량이 일정하게 되도록 하기 위하여, 상기 기포(114)에 의한 압력의 변화에 따라 상기 기포(114)를 상기 드레인라인(111)을 통하여 배출시켜 상기 필터 하우징(102) 내부의 압력을 조절하고자 하는 것이다.
상기 기포(114)가 성장하여 상승함에 따라 상기 압력 체크 센서부(116)에서 상기 기포(114)에 의한 압력의 변화를 감지 할 수 있게 되는데, 이에 대한 설명은 도 3을 함께 참조하여 이하에서 보다 상세히 설명한다.
도 3은 도2에서의 필터 하우징 제어장치를 별도로 나타낸 블록도이다.
도 3에는 필터 하우징 제어장치의 구성을 상세히 나타내고 있는데, 이러한 필터 하우징 제어장치는 압력체크 센서부(116), 펌프 제어부(120) 및 펌프부(110)를 포함하고 있다. 상기 펌프 제어부(120)는 기준값 설정부(122), 비교부(124) 및 펌프 제어신호 발생부(126)을 포함하고 있다.
상기 압력체크 센서부(116)는 상기 필터 하우징(102)의 내부에 장착되어지며 상기 기포(114)에 의한 압력을 감지하기 위한 부분이다.
상기 펌프부(110)는 상기 드레인라인(111) 상에 설치되며 상기 기포(114)를 배출하여 상기 필터 하우징(102) 내부의 압력을 조절하기 위한 부분이다.
상기 펌프제어부(120)는 상기 디스펜스라인(112)으로 배출되는 상기 포토레지스트의 양이 일정하게 유지되는 경우의 상기 기포(114)에 의한 압력인 기준값과 상기 압력체크 센서부로부터 감지된 압력인 측정값을 비교하여 상기 펌프부를 제어하기 위한 제1 제어신호 및 제2 제어신호를 생성하는 부분이다. 여기서, 상기 펌프제어부(120)는 도 3에서 보여지는 바와 같이, 상기 기준값을 설정하기 위한 기준값 설정부(122), 상기 기준값과 상기 측정값을 비교하기 위한 비교부(124) 및 상기 제1 제어신호 및 상기 제2 제어신호를 생성하기 위한 펌프 제어신호 발생부(126)을 별도로 가질 수도 있다. 또한, 상기 제1 제어신호는 상기 측정값이 상기 기준값 이상인 경우에 생성되는 신호로서, 상기 펌프부가 작동하여 상기 기포가 디스펜스라인으로 배출되도록 하기 위한 신호이며, 상기 제2 제어신호는 상기 측정값이 상기 기준값 미만인 경우에 생성되는 신호로서, 상기 펌프부(110)에 의한 상기 기포(114)의 배출이 중지되도록 하기 위한 신호이다.
즉, 상기 기포(114)가 성장하여 상기 압력체크 센서부(116)에서 감지되는 압력이 변화가 생기게 되고, 이러한 압력의 변화가 상기 디스펜스라인(112)으로 배출되는 포토레지스트량의 변화(엄밀하게는 동일한 값을 지칭하는 것이 아니므로 변화의 허용범위 이내라고 하는 것이 옳겠으나 표현의 편의상 '변화의 허용범위'를 '변화'로 함.)를 보이는 경우에는 상기 펌프제어부(120)에 의하여 상기 펌프부(110)가 작동하게 하는 상기 제1 제어신호가 발생하게 된다. 계속적인 펌프부(110)의 작동에 의한 펌핑이 이루어지고, 이러한 펌핑이 이루어지는 동안에도 상기 압력체크 센서부(116)는 계속 작동하여 상기 기포(114)에 의한 압력을 감지하게 된다. 그 결과, 상기 압력이 기준값 미만으로 떨어진 경우에는 더 이상 상기 펌프부(110)에 의한 펌핑은 필요하지 않으므로 상기 펌프부(110)의 작동을 중지시키기 위한 상기 제2 제어신호가 상기 펌프제어부(120)에 의하여 발생하게 된다.
결국, 상기와 같이하여 필터 하우징(102)내를 유동하게 되는 포토레지스트중 기포 및 불순물이 제거된 포토레지스트는 디스펜스라인(102)을 통해 배출된 후 노즐(미도시)을 통해 반도체 웨이퍼(미도시)의 중심 부분으로 분사됨으로써 반도체 웨이퍼 표면에 코팅된다.
상술한 바와 같은 과정을 통하여, 상기 기포(114)로 인하여 상기 디스펜스라인(102)으로 배출되는 포토레지스트액이 감소되어 코팅 불량이 발생하는 문제를 해결할 수 있게 된다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 필터 하우징 제어방법을 나타낸 흐름도이다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 필터 하우징 제어방법은 포토레지스트를 필터링하기 위한 필터가 내장되며 상기 포토레지스트를 공급하기 위한 공급라인, 상기 포토레지스트를 배출하기 위한 디스펜스라인 및 내부의 기포를 배출하기 위한 드레인라인이 연결되어진 필터 하우징을 제어하기 위한 필터 하우징 제어방법으로서, 상기 필터 하우징의 내부의 상기 기포에 의한 압력을 감지하는 단계(S10), 상기 디스펜스라인으로 배출되는 상기 포토레지스트의 양이 일정하게 유지되는 경우의 상기 기포에 의한 압력인 기준값과 상기 압력체크 센서부로부터 감지된 압력인 측정값을 비교하여 판단하는 단계(S12) 및 상기 기준값과 상기 측정값의 비교 결과, 이상상태인 경우에는 상기 기포를 배출하여 압력을 조절하고(S14), 상기 이상상태가 아니라면 상기 기포의 배출이 중단되는 단계(S16)를 갖는다.
본 발명의 실시예에 따른 필터 하우징 제어장치 및 제어방법은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기본 원리를 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 설계되고, 응용될 수 있음은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가지는 자에게는 자명한 사실이라 할 것이다.
상술한 바와 같이 본 발명은 필터 하우징 제어장치 및 제어방법을 제공함으로써, 기포가 필터 하우징에 축적됨으로 인하여 디스펜스 라인으로 배출되는 포토레지스트의 양이 저하되는 문제를 감소시키는 효과를 갖는다.
또한, 본 발명은 필터 하우징 제어장치 및 제어방법을 제공함으로써, 디스펜 스 라인으로 배출되는 포토레지스트의 양 또는 배출 속도의 저하 문제를 감소시켜, 노즐에 의하여 분사되는 포토레지스트의 분사량 또는 분사 속도를 안정하게 하는 효과를 갖는다.
또한, 본 발명은 필터 하우징 제어장치 및 제어방법을 제공함으로써, 기포에 기인한 노즐에서의 포토레지스트 분사량의 저하 또는 불안정으로 반도체 웨이퍼의 코팅 불량이 발생하는 문제를 감소 또는 최소화하여, 반도체 메모리 장치의 수율이 증가되도록 하는 효과를 갖는다.

Claims (9)

  1. 포토레지스트를 필터링하기 위한 필터가 내장되며, 상기 포토레지스트를 공급하기 위한 공급라인, 상기 포토레지스트를 배출하기 위한 디스펜스라인 및 내부의 기포를 배출하기 위한 드레인라인이 연결되어진 필터 하우징을 제어하기 위한 필터 하우징 제어장치에 있어서:
    상기 포토레지스트의 배출량이 일정하게 되도록 하기 위하여, 상기 기포에 의한 압력의 변화에 따라 상기 기포를 상기 드레인라인을 통하여 배출시켜 상기 필터 하우징 내부의 압력을 조절하는 것을 특징으로 하는 필터 하우징 제어장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 필터 하우징 제어장치는, 상기 드레인라인 상에 설치되며 상기 기포를 배출하여 상기 필터 하우징 내부의 압력을 조절하기 위한 펌프부를 갖는 것을 특징으로 하는 필터 하우징 제어장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 필터 하우징 제어장치는, 상기 필터 하우징의 내부에 장착되어지며 상기 기포에 의한 압력을 감지하기 위한 압력체크 센서부를 갖는 것을 특징으로 하는 필터 하우징 제어장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 필터 하우징 제어장치는, 상기 디스펜스라인으로 배출되는 상기 포토레지스트의 양이 일정하게 유지되는 경우의 상기 기포에 의한 압력인 기준값과 상기 압력체크 센서부로부터 감지된 압력인 측정값을 비교하여 상기 펌프부를 제어하기 위한 제1 제어신호 및 제2 제어신호를 생성하는 펌프제어부를 갖는 것을 특징으로 하는 필터 하우징 제어장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 펌프제어부는 상기 기준값을 설정하기 위한 기준값 설정부와, 상기 기준값과 상기 측정값을 비교하기 위한 비교부를 갖는 것을 특징으로 하는 필터 하우징 제어장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 제1 제어신호는 상기 측정값이 상기 기준값 이상인 경우에 생성되는 신호로서, 상기 펌프부가 작동하여 상기 기포가 디스펜스라인으로 배출되도록 하기 위한 신호인 것을 특징으로 하는 필터 하우징 제어장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제2 제어신호는 상기 측정값이 상기 기준값 미만인 경우에 생성되는 신호로서, 상기 펌프부에 의한 상기 기포의 배출이 중지되도록 하기 위한 신호인 것을 특징으로 하는 필터 하우징 제어장치.
  8. 제4항에 있어서,
    상기 펌프제어부는 상기 제1 제어신호 및 상기 제2 제어신호를 생성하기 위한 펌프제어신호 발생부를 갖는 것을 특징으로 하는 필터 하우징 제어장치.
  9. 포토레지스트를 필터링하기 위한 필터가 내장되며, 상기 포토레지스트를 공급하기 위한 공급라인, 상기 포토레지스트를 배출하기 위한 디스펜스라인 및 내부의 기포를 배출하기 위한 드레인라인이 연결되어진 필터 하우징을 제어하기 위한 필터 하우징 제어방법에 있어서:
    상기 필터 하우징의 내부의 상기 기포에 의한 압력을 감지하는 단계;
    상기 디스펜스라인으로 배출되는 상기 포토레지스트의 양이 일정하게 유지되 는 경우의 상기 기포에 의한 압력인 기준값과 상기 압력체크 센서부로부터 감지된 압력인 측정값을 비교하여 판단하는 단계; 및
    상기 기준값과 상기 측정값의 비교 결과, 이상상태인 경우에는 상기 기포를 배출하여 압력을 조절하고, 상기 이상상태가 아니라면 상기 기포의 배출이 중단되는 단계를 갖는 것을 특징으로 하는 필터 하우징 제어방법.
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