JPH06267723A

JPH06267723A - 複合軟磁性材料

Info

Publication number: JPH06267723A
Application number: JP5081234A
Authority: JP
Inventors: Taiji Miyauchi; 泰治宮内; Eiji Moro; 英治茂呂; Masaaki Kanasugi; 将明金杉
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1993-03-16
Filing date: 1993-03-16
Publication date: 1994-09-22

Abstract

(57)【要約】【目的】透磁率が高く、電力損失の少ない複合軟磁性
材料を提供する。【構成】表層に非磁性金属酸化物の層をもつ軟磁性金
属粒子間に高抵抗軟磁性物質の層が介在する複合軟磁性
材料であって、前記軟磁性金属粒子は平均長軸長さを平
均厚さで除したアスペクト比が２以上の偏平状で、その
主面が使用時印加される磁界に対し垂直に配向された前
記軟磁性金属粒子を含まない焼結複合軟磁性材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、特に磁心用の軟磁性材
料として好適に用いられる複合軟磁性材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁心等の軟磁性材料として、センダス
ト、パーマロイ等の金属軟磁性材料やフェライト等の金
属酸化物軟磁性材料が知られている。

【０００３】金属軟磁性材料は、高い飽和磁束密度と高
い透磁率とを有するが、電気抵抗率が低いため、高周波
数領域では渦電流損失が大きい。このため、高周波数領
域での使用が困難である。

【０００４】また、金属酸化物軟磁性材料は、金属軟磁
性材料に比べ電気抵抗率が高いため、高周波数領域にて
渦電流損失が小さい。しかし、金属酸化物軟磁性材料
は、飽和磁束密度が不十分である。

【０００５】このような事情から、金属軟磁性材料およ
び金属酸化物軟磁性材料の両者の欠点を解消した軟磁性
材料として、飽和磁束密度および透磁率が高く、かつ電
気抵抗率が高い複合軟磁性材料が提案されている。

【０００６】例えば、特開昭５３−９１３９７号公報に
は、金属磁性材料の表面に高透磁率金属酸化物の被膜を
形成した高透磁率材料、

【０００７】特開昭５８−１６４７５３号公報には、酸
化物磁性材料の粉末とＦｅ−Ｎｉ系合金からなる金属磁
性材料の粉末とを混合し、成形した複合磁性材料、

【０００８】特開昭６４−１３７０５号公報には、平均
粒径が１〜５μm の軟磁性金属磁性粉体と、軟磁性フェ
ライトとを含み、前記金属磁性粉体の粒子間に軟磁性フ
ェライトが充填された状態とすることにより、前記金属
磁性粉体の粒子を相互に独立させ、かつ前記軟磁性フェ
ライト部分は連続体とするとともに、飽和磁束密度Ｂs
を６．５〜２０kGとした高磁束密度複合磁性材料が、開
示されている。

【０００９】これら各公報に記載されているものを含
め、従来の複合軟磁性材料の焼結方法としては、ホット
プレス焼結法、真空焼結法、雰囲気焼結法等の常圧焼結
法等を使用している。そして、焼結温度は通常９００〜
１２００℃程度であり、焼結時間は通常１時間以上必要
とされる。

【００１０】しかし、高温で１時間以上保持すると、金
属軟磁性材料は、金属酸化物軟磁性材料の酸素によって
酸化され、一方金属酸化物軟磁性材料は、還元されてし
まう。この場合、例えば、還元性雰囲気中にて焼結を行
なっても同様である。このため、金属軟磁性材料および
金属酸化物軟磁性材料それぞれの特徴が失われ、飽和磁
束密度および透磁率が高く、かつ電気抵抗率が高い複合
軟磁性材料が実現できない。

【００１１】そこで、本発明者らは特願平３−１２６８
５０号において軟磁性金属粒子と、高抵抗軟磁性物質と
をプラズマ活性化焼結した複合軟磁性材料を提案してい
る。

【００１２】より詳細には、軟磁性金属粒子に高抵抗の
軟磁性物質を被覆した後、このコート粒子の集合体をプ
ラズマ中におく。この場合、放電によって発生したガス
イオンおよび電子等の荷電粒子は、コート粒子間の接触
部を衝撃して浄化する。また、接触部における物質の蒸
発も作用して、コート粒子表面には強い衝撃圧が加えら
れる。このため、コート粒子の高抵抗軟磁性物質の内部
エネルギーが増加し、活性化する。

【００１３】従って、焼結時間が短縮し、例えば、５分
間程度で十分に焼結することができる。この結果、軟磁
性金属粒子の酸化および高抵抗軟磁性物質の還元をある
程度防止でき、飽和磁束密度および透磁率が比較的高
く、しかも電気抵抗率が高い複合軟磁性材料が実現す
る。しかし、このような方法を用いても、特性的に十分
ではないことから、本発明者らは、特願平３−３３３８
９９号公報等において、軟磁性金属粒子に予め非磁性金
属酸化物を被覆するか、あるいは軟磁性金属粒子のう
ち、例えばＡｌおよび／またはＳｉ等を含有するものを
予め熱処理するなどして軟磁性金属粒子表面に、Ａｌ₂
Ｏ₃ 等の非磁性金属酸化物の拡散層を形成するかし、こ
のような非磁性金属酸化物を表面に有する軟磁性金属粒
子と高抵抗軟磁性物質とを加圧下焼結した複合軟磁性材
料を提案している。

【００１４】このように非磁性金属酸化物を介在させる
ことにより、軟磁性金属粒子と、高抵抗軟磁性物質との
反応抑制層としての役割を果す。したがって金属軟磁性
材料と金属酸化物等の高抵抗軟磁性物質との反応が防止
され、前記ホットプレス焼結法等、焼結時間がプラズマ
活性化焼結法等と比較して長時間を要する方法をも用い
ることができ、これまでより透磁率が高く、さらに電力
損失（コアロス）が小さいなど高特性の複合軟磁性材料
が得られる。

【００１５】しかし、このような方法でも透磁率の点で
未だ十分ではなく、さらに改善が望まれている。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、透磁
率が高く、電力損失の少ない複合軟磁性材料を提供する
ことにある。

【００１７】

【課題を解決するための手段】このような目的は下記
（１）〜（１５）の本発明によって達成される。（１）表層に非磁性金属酸化物の層をもつ軟磁性金属粒
子間に高抵抗軟磁性物質の層が介在する複合軟磁性材料
であって、前記軟磁性金属粒子は偏平状で、その主面が
使用時印加される磁界に対し垂直に配向された前記軟磁
性金属粒子を含まない複合軟磁性材料。（２）前記軟磁性金属粒子の平均長軸長さを平均厚さで
除したアスペクト比が２以上である上記（１）の複合軟
磁性材料。（３）前記軟磁性金属粒子の厚さが１〜１００μm であ
る上記（１）または（２）の複合軟磁性材料。（４）前記軟磁性金属粒子は、高速急冷法により製造さ
れた上記（１）〜（３）のいずれかの複合軟磁性材料。（５）前記軟磁性金属粒子は、アトマイズ法により製造
された上記（１）〜（３）のいずれかの複合軟磁性材
料。（６）前記軟磁性金属粒子は、ボールミル法あるいはア
トリッションミル法により粉砕して製造された上記
（１）〜（３）のいずれかの複合軟磁性材料。（７）前記軟磁性金属粒子は、エッジ部分除去処理を施
されている上記（４）〜（６）のいずれかの複合軟磁性
材料。（８）表層に非磁性金属酸化物の層をもつ前記軟磁性金
属粒子と、前記高抵抗軟磁性物質とを加圧下焼結した上
記（１）〜（７）のいずれかの複合軟磁性材料。（９）前記軟磁性金属粒子を酸素雰囲気中で熱処理し、
この粒子表面に非磁性金属酸化物の拡散層を形成し、こ
の軟磁性金属粒子に前記高抵抗軟磁性物質を被覆し、加
圧下焼結した上記（８）の複合軟磁性材料。（１０）前記非磁性金属酸化物の拡散層の厚さが、３〜
３００nmである上記（９）の複合軟磁性材料。（１１）予め、前記軟磁性金属粒子に、非磁性金属酸化
物を被覆し、この軟磁性金属粒子に前記高抵抗軟磁性物
質を被覆し、加圧下焼結した上記（８）の複合軟磁性材
料。（１２）前記非磁性金属酸化物の被覆の厚さが、０．０
２〜１μm である上記（１１）の複合軟磁性材料。（１３）前記高抵抗軟磁性物質の被覆の厚さが０．０２
〜１０μm である上記（９）〜（１２）のいずれかの複
合軟磁性材料。（１４）前記加圧下焼結がホットプレスまたはプラズマ
活性化焼結である上記（８）〜（１３）のいずれかの複
合軟磁性材料。（１５）前記加圧下焼結ののち、さらに酸素雰囲気中で
熱処理する上記（８）〜（１４）のいずれかの複合軟磁
性材料。

【００１８】

【作用】本発明の複合軟磁性材料は、偏平な形状をもつ
軟磁性金属粒子間に高抵抗軟磁性物質の層が介在する複
合軟磁性材料であって、前記軟磁性金属粒子と前記高抵
抗軟磁性物質の層の界面に非磁性金属酸化物の層が介在
する。従って、各軟磁性金属粒子間は、非磁性金属酸化
物により分離されている。そこで、構成する各軟磁性金
属粒子がそれぞれ独立して、印加された磁界の強さに応
じた反磁界をもつ。そのため、生じる反磁界の強さは、
前記非磁性金属酸化物の層を形成せず、磁気的に接触
し、実質的に一体化している場合と比較して、大きくな
る。

【００１９】このような反磁界は、透磁率の低下や、電
力損失増加の原因となるため、できる限り低下させるこ
とが好ましい。

【００２０】使用時、印加された磁界により前記軟磁性
金属粒子に生じる反磁界の大きさは、例えばその形状に
大きく依存する。すなわち、前記軟磁性金属粒子の形状
が、使用時印加される磁界と平行方向に長いか、垂直方
向と平行方向とで同一（例えば球形）か、あるいは垂直
方向に長いかにより異る。本発明では、前記軟磁性金属
粒子の形状を偏平状とし、さらに、加圧下焼結後の複合
軟磁性材料中で、主面が使用時印加される磁界に対し垂
直に配向された軟磁性金属粒子を含まない。そのため、
生じる反磁界の影響を少なくすることができ、透磁率の
向上や電力損失の低下が実現する。

【００２１】

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成を詳細に説明
する。

【００２２】本発明の複合軟磁性材料は、偏平な形状を
もつ軟磁性金属粒子間に高抵抗軟磁性物質の層が介在す
る複合軟磁性材料であって、前記軟磁性金属粒子と前記
高抵抗軟磁性物質の層の界面に非磁性金属酸化物の層が
介在する。そして、前記偏平な形状を持つ軟磁性金属粒
子は、使用時印加される磁界に対し垂直に配向されたも
のを含まない。

【００２３】前記偏平な形状をもつ軟磁性金属粒子の材
料としては、軟磁性金属であれば特に制限がない。そし
て、金属単体でも合金でもよく、あるいは、これらを併
用してもよい。なお、軟磁性金属とは、バルク状態での
保磁力Ｈc が０．５ Oe 程度以下の金属である。

【００２４】好適に用いられる金属としては、遷移金属
または遷移金属を１種以上含む合金であり、例えば、セ
ンダスト等のＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、スーパーセンダ
スト等のＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｎｉ系合金、ＳＯＦＭＡＸ
等のＦｅ−Ｇａ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ系合金、パー
マロイ、スーパーマロイ等のＦｅ−Ｎｉ系合金、パーメ
ンジュール等のＦｅ−Ｃｏ系合金、ケイ素鉄、Ｆｅ₂
Ｂ、Ｃｏ₃ Ｂ、ＹＦｅ、ＨｆＦｅ₂ 、ＦｅＢｅ₂ 、Ｆｅ
₃ Ｇｅ、Ｆｅ₃ Ｐ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｐ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ
−Ｐ系合金等が挙げられる。以上の中でセンダスト等、
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金等のＤＯ₃ 型結晶構造を有する
合金は、後述の非磁性金属酸化物の介在効果がもっとも
顕著で、Ａｌが酸化されてアルミナとなる反応が抑えら
れる。また、磁気特性も良好なものとなる。

【００２５】そして、上記の軟磁性金属粒子の磁気特性
は、バルク体で測定した値で、飽和磁束密度Ｂs が７〜
１７kG、保磁力Ｈc が０．００２〜０．４ Oe 、直流で
の初透磁率μ_i が１００００〜１０００００であること
が好ましい。

【００２６】このような金属や合金を用いることによ
り、高い飽和磁束密度等の優れた軟磁気特性が得られ
る。

【００２７】本発明では、さらに、このような軟磁性金
属粒子の形状が偏平のものを用いる。

【００２８】この場合、形状が偏平とは厚さと長軸と短
軸とをもつ粒子で、もっとも短い軸長を厚さとし、厚さ
方向に垂直または垂直に近い角度を成す面を主面とし、
主面の長い軸を長軸、短い軸を短軸とする。偏平の形状
をもち、さらに後述するように、使用時印加される磁界
と前記軟磁性金属粒子の主面とが垂直のものを含まない
ように配向する。

【００２９】軟磁性金属粒子の形状を偏平状とすること
により、印加される磁界により各軟磁性金属粒子に生じ
る反磁界の影響を最少にすることができ、透磁率の向上
や電力損失の低下が実現する。

【００３０】本発明で用いる、偏平な形状をもつ軟磁性
金属粒子の大きさを、前記厚さと短軸長さと長軸長さと
から規定すると、平均厚さは１〜１００μm 程度、好ま
しくは５〜４０μm 程度である。平均短軸長さは１〜１
００μm 程度、好ましくは５〜４０μm 程度である。ま
た、平均長軸長さを平均厚さで除した値であるアスペク
ト比は、２以上、好ましくは５〜５０程度である。

【００３１】平均厚さは、薄すぎると、保磁力が大きく
なり、ヒステリシスロスが大となり、電力損失が大きく
なってしまう。また厚すぎると金属粒子内エディカレン
トロスが大きくなり、電力損失が大きくなる。また、平
均短軸長さも同様に短すぎると、保磁力が大きくなり、
ヒステリシスロスが大となり、電力損失が大きくなる。
また、長すぎると金属粒子内エディカレントロスが大き
くなり、電力損失が大きくなるため好ましくない。

【００３２】さらに、アスペクト比は小さすぎると、磁
界を印加した時に生じる反磁界の影響が大きくなり、透
磁率の低下や電力損失の増大をまねく。なお、平均厚
さ、平均短軸長さ、平均長軸長さおよび主面の決定等は
マイクロメーターを用いたり、走査型電子顕微鏡（ＳＥ
Ｍ）により観察したりして測定することができる。

【００３３】このような、本発明の、偏平状の軟磁性金
属粒子は、どのように製造したものであってもよく、例
えば高速急冷法により直接偏平粒子を得る方法、高速急
冷法によって得られた薄帯や粉体を粉砕する方法、アト
マイズ法において、冷却時に衝突板等に衝突させて直接
偏平状粒子を得る方法。さらには、種々の方法で得られ
た粉体等を、例えばジルコニアやアルミナ等の比較的比
重の小さいボールを用いて湿式あるいは乾式のボールミ
ル法で粉砕して偏平化する方法。あるいは前記得られた
粉体等を連続的に処理するために、前記ボールミル法と
同様のボールを用い、アトリッションミル法により偏平
状粒子を得る方法等の各種粉砕方法によって偏平化する
ことができる。

【００３４】本発明では、偏平状の軟磁性金属粒子は、
後述するような、非磁性金属酸化物皮膜と高抵抗軟磁性
物質で被覆された構造を有し、好ましくはこのような構
造の粉末を加圧下焼結する。

【００３５】そのため、前記皮膜等で被覆の後、加圧下
焼結する際、鋭く尖ったエッジ部分をもつと、互いに他
の粉末の皮膜等の被覆層を破壊する恐れがある。皮膜等
の被覆層が破壊されると、軟磁性金属粒子が互いに接触
することになり、電気抵抗が低下したり、透磁率が低下
したり、電力損失が増大する等、特性が悪化する原因と
なる。

【００３６】そこで、偏平状の軟磁性金属粒子に対し、
鋭く尖ったエッジ部分を除去する処理を行なうことが好
ましい。処理方法としては、どのような方法でもよい
が、例えば、振動ボールミル、遊星ボールミル等を用い
る方法、塩酸等の鉱酸を用いてエッチングする方法等が
挙げられる。

【００３７】本発明においては、このようにして得られ
た、鋭く尖ったエッジ部分を除去する処理を施した偏平
状の軟磁性金属粒子を、たとえばＳＥＭにより観察する
と、処理を施す前と比較して、明らかにエッジ部分が除
去されていることがわかる。このようにして得られたエ
ッジ部分を除去する処理を施した偏平状の軟磁性金属粒
子は、予め非磁性金属酸化物で被覆する等により層を形
成することが好ましいことから、次に非磁性金属酸化物
の層を形成する方法について説明する。この形成方法を
適用することにより、軟磁性金属粒子と後述の高抵抗軟
磁性物質との反応が抑えられ、電力損失の増大が防止さ
れる。

【００３８】前記偏平状の軟磁性金属粒子に、非磁性金
属酸化物の層を形成する方法としては、このような偏平
状の粒子に形成可能な方法であれば特に制限がなく、例
えば、拡散コーティング法や、流動層や転動層等による
スプレーコーティング法、無電解メッキ、共沈法、ＭＯ
−ＣＶＤ法、スパッタリング、蒸着等の被覆方法等はい
ずれも使用可能である。また、場合によっては金属アル
コキシド等を用いたゾル−ゲル法等によってもよい。

【００３９】これらの方法のうち、本発明に用いる好ま
しい一例として、軟磁性金属粒子を酸素雰囲気中で熱処
理して粒子表面に非磁性金属酸化物の拡散層を形成す
る、いわゆる拡散コーティング法による場合について以
下に説明する。

【００４０】拡散コーティング法に好適に用いられる金
属としては、前記の金属の中でも、Ａｌおよび／または
Ｓｉ等を含む合金であり、具体的には、センダスト等の
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、スーパーセンダスト等のＦｅ
−Ａｌ−Ｓｉ−Ｎｉ系合金などが挙げられる。

【００４１】そして、なかでも、Ａｌおよび／またはＳ
ｉを１〜２０重量％、さらには２〜１５重量％含むもの
が好ましく、特にＡｌを３〜７％含むものとすることが
好ましい。Ａｌのみ、またはＡｌおよびＳｉを含む合金
では、α−Ａｌ₂ Ｏ₃ を主成分とする拡散層が生成し、
Ｓｉのみを含む合金では、ＳｉＯ₂ を主成分とする拡散
層が生成する。この場合Ａｌおよび／またはＳｉを上記
含有量とすることにより、効果的な拡散層を得ることが
できる。

【００４２】このような金属を用いる拡散コーティング
法では、通常空気中で熱処理を行なう。この時の熱処理
温度は２００〜１０００℃、好ましくは５００〜８００
℃、熱処理時間は、この温度を保持して１分〜５時間、
好ましくは１０分〜６０分とするのがよい。また、用い
る雰囲気は前記空気中でなくても、酸素の全ガスに占め
る割合が１vol%以上の酸素雰囲気中であれば特に制限は
ない。

【００４３】このときの拡散層の厚さは３〜３００nm、
好ましくは１０〜１５０nmとすればよい。拡散コーティ
ング法では、拡散層を薄く形成することが可能であり、
後述の被覆する方法に比べて、薄くても緻密な層の形成
が可能となる。磁気特性の点からは薄い方が好ましい
が、あまり薄すぎると、分離層としての実効がなくなっ
てくる。

【００４４】また、本発明でもちいる拡散層はα−Ａｌ
₂ Ｏ₃ および／またはＳｉＯ₂ 、特にα−Ａｌ₂ Ｏ₃ を
含有するものとすることが好ましく、これらの含有量が
５０重量％以上、通常８０重量％以上であることが好ま
しい。

【００４５】このような拡散層を構成する酸化物は、６
００〜１０００℃での酸化物生成自由エネルギーが−６
００kJ/モル以下のものが好ましく、前記のような合金に
おいて、これを満足するα−Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ の生
成が可能となるからである。

【００４６】拡散層の厚さは、拡散層の酸素ガス分析に
より推定することができ、オージェ分光分析法（ＡＥ
Ｓ）、Ｘ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）、２次イオン質量
分析法（ＳＩＭＳ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）観察
などによって確認することができる。

【００４７】また、拡散層の組成、α−Ａｌ₂ Ｏ₃ 等の
含有量は元素分析によって求めることができ、Ｘ線回折
等によってその組成を同定することができる。

【００４８】また、前記非磁性金属酸化物の層を被覆す
る方法として、たとえば流動層や転動層によるスプレー
コーティング法等も好ましく用いることができる。この
場合、用いる非磁性金属酸化物としては、軟磁性金属粒
子と高抵抗軟磁性物質の反応を抑えることができるもの
ならば種々のものが使用可能であるが、６００〜１００
０℃での酸化物生成自由エネルギーが−６００kJ/モル以
下のものが好ましい。

【００４９】このような非磁性金属酸化物としては、α
−Ａｌ₂ Ｏ₃ 、Ｙ₂ Ｏ₃ 、ＭｇＯ、ＺｒＯ₂ 、ＣａＯ
等、特にα−Ａｌ₂ Ｏ₃ 、Ｙ₂ Ｏ₃ が好ましい。

【００５０】なお、本発明において、非磁性金属酸化物
を構成する金属には、Ｓｉ等の半金属元素を包含するも
のとする。

【００５１】また、このような方法で形成する非磁性金
属酸化物の被覆厚は、０．０２〜１μm とすることが好
ましい。非磁性金属酸化物被覆が薄すぎると、分離層と
しての実効がなくなってくる。また厚すぎると磁気特性
が低下してくる。

【００５２】本発明で用いる、前記拡散層を形成する
か、あるいは非磁性金属酸化物を被覆した軟磁性金属粒
子間に介在する高抵抗軟磁性物質は、高抵抗のもので、
しかも焼結によって軟磁気特性が向上するものであれば
特に制限はない。ここに、高抵抗とは、バルク体で測定
した電気抵抗率ρが１０² Ω・cm 程度以上のことであ
る。なお、ρが１０² Ω・cm 未満では高周波数領域での
渦電流損失が大となる。

【００５３】このような高抵抗軟磁性物質としては、各
種軟磁性フェライトや窒化鉄が好ましい。そして、軟磁
性フェライトとしては、例えば、Ｌｉフェライト、Ｍｎ
−Ｚｎフェライト、Ｍｎ−Ｍｇフェライト、Ｎｉ−Ｚｎ
フェライト、Ｃｕ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｃｕ−Ｚｎ
フェライト、Ｍｎ−Ｍｇ−Ｃｕフェライト、Ｍｇ−Ｚｎ
フェライト等が挙げられる。このうち、高周波数特性が
高い点で、Ｎｉ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｃｕ−Ｚｎフ
ェライト等のＮｉ系フェライトが好ましい。なお、各種
軟磁性フェライトや窒化鉄等の高抵抗軟磁性物質は、通
常１種のみ用いられるが、場合によっては２種以上併用
してもよい。

【００５４】また、用いる高抵抗軟磁性物質原料の平均
粒径は、０．０１〜２μm が好ましい。平均粒径が小さ
くなると製造コストが高くなり、しかも粉体が非常に取
扱いにくく、成形が困難となってくる。平均粒径が大き
くなると金属粒子を被覆する場合、膜厚のコントロール
が困難である。また、磁気特性は、バルク焼結体で測定
した値で、飽和磁束密度Ｂs が２〜６kG、保磁力Ｈc が
０．１〜５ Oe 、周波数１００kHz での初透磁率μ_i が
１０００〜１００００、電気抵抗率ρが１０²〜１０⁷
Ω・cm 特に１０⁵ 〜１０⁷ Ω・cm であることが好まし
い。

【００５５】本発明では、軟磁性金属粒子と高抵抗軟磁
性物質とを非磁性金属酸化物を介在させた状態で加圧下
焼結するが、この高抵抗軟磁性物質を、非磁性金属酸化
物を被覆した軟磁性金属粒子に被覆することが好まし
い。

【００５６】高抵抗軟磁性物質を被覆する方法として
は、本発明で用いる偏平状の粒子に被覆することができ
れば、特に制限はなく、流動層や転動層によるスプレー
コーティング法、無電解メッキ、共沈法、ＭＯ−ＣＶＤ
法等はいずれも使用可能であるが、生産性等の点で流動
層や転動層を用いたスプレーコーティング法を用いるこ
とが好ましい。

【００５７】このようにして形成した軟磁性金属粒子上
の非磁性金属酸化物の表面を被覆する高抵抗軟磁性物質
層の被覆厚さは、通常０．０２〜１０μm 、好ましくは
０．１〜５μm 程度とする。これらの被覆厚さは酸素分
析等により、酸素含有量を測定し、計算で求めるか、ま
たは透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により直接測定するこ
とで得られる。

【００５８】この後、これらコート粒子を用い、加圧下
焼結を行なって、非磁性金属酸化物粒子間ないし表面
に、前記高抵抗軟磁性物質の介在層を形成し、本発明の
複合軟磁性材料を得るが、本発明では、加圧下焼結する
前に、前記偏平状の軟磁性金属粒子の主面が、焼結時の
加圧方向と垂直となるように配向する。このように配向
することで、使用時印加される磁界方向に対し、前記軟
磁性金属粒子の主面が垂直となるような粒子を無くすこ
とができる。

【００５９】配向方法の一例を示すと、後述する加圧下
焼結するために用いる試料容器へのコート粒子の、例え
ば充填速度を１g/sec・cm² 以下とする。すなわち、容器
の低面積１cm² あたり１g/sec 以下の速度でコート粒子
を充填することが好ましい。この速度以下でコート粒子
を充填することで、重力の作用によりほとんどの粉末は
その主面が重力方向と垂直となるように配向する。充填
速度が上記値を越えると、重力の作用によりコート粒子
の主面が重力方向と垂直になる前に他のコート粒子が充
填されるため、コート粒子の配列が乱雑になりやすい。
このとき、さらに例えば容器をバイブレータ等を用い
て、振幅１〜１０mm程度で３回／秒程度、ゆるやかに振
動させる。この程度の振動を加えることで、充填されて
いる試料容器中のコート粒子の配向程度をさらに向上さ
せることができる。振動条件は、振幅および回数を前記
以上の激しい条件に設定するとコート粒子の配列が乱雑
になり、配向不良となりやすい。この後重力方向に加圧
すればよい。

【００６０】このような配向の確認を行なうためには、
後述する方法で焼結体を得た後、これを切断して加圧方
向と平行な断面を得る。そして、この断面の任意の部分
を光学顕微鏡により約４００倍程度の倍率で観察する。
このように、本発明では、主面が印加される磁界に対し
垂直となる粒子が存在しないように配向を行なうが、全
粒子の主面は、印加磁界方向に対し、±３０°以内、よ
り好ましくは±２０°以内に存在することが好ましい。

【００６１】このようにしてコート粒子を配向させたの
ち、加圧下で焼結を行なう。

【００６２】加圧下で焼結する方法としては、具体的に
はプラズマ活性化焼結法、ホットプレス法（ＨＰ）、熱
間静圧プレス法（ＨＩＰ）等によればよい。なかでも、
ホットプレス法、プラズマ活性化焼結法によることが好
ましい。

【００６３】ホットプレス法は、予め非磁性金属酸化物
を拡散コーティングしたり被覆したりした軟磁性金属粉
末に、高抵抗軟磁性物質を被覆したコート粉末を、例え
ばタングステンカーバイト製等の金型容器中で前記の方
法で配向させて充填し、焼結を行なう。圧力２００〜２
５００kg/cm²程度、温度６００〜１２００℃程度の条件
とすればよく、焼結時間は、この温度で１０分〜２時間
保持するもとすればよい。

【００６４】また焼結雰囲気には特に制限はなく、真空
中、空気等の酸素雰囲気、Ａｒ等の不活性ガス、Ｎ₂ ガ
ス等のいずれであってもよい。

【００６５】また、プラズマ活性化焼結では、前記の方
法で容器中配向させて充填したコート粉末の集合体をプ
ラズマ中におき、コート粉末を活性化させた後、焼結を
行なう。

【００６６】この場合、プラズマ発生方式、用いるプラ
ズマ活性化焼結装置等に特に制限はないが、好適例とし
て、図１に示されるプラズマ活性化焼結装置１により説
明する。

【００６７】装置１の型枠４内のパンチ３１、３２間
に、前記の方法で配向させて充填したコート粒子５があ
る。これをパンチ３１、３２にてプレスし、真空中に
て、電極２１、２２間に電流を流してプラズマを発生さ
せた後、通電電流を流して焼結する。なお、プラズマ発
生電流には、通常、パルス幅２０×１０^-3〜９００×１
０^-3秒程度のパルス電流を使用する。

【００６８】より詳細なメカニズムは下記のとおりであ
る。

【００６９】電極２１、２２間に印加したパルス電圧が
所定の値に達すると電極とコート粒子の接触面およびコ
ート粒子相互の接触面は絶縁破壊を起こし放電を行な
う。このときコート粒子は、陰極から飛び出した電子
と、陽極で発生したイオン衝撃とによって表面は十分に
浄化される。また、スパークによる放電衝撃圧力が粒子
に加わる。そして、この放電衝撃圧力は粒子に歪を与
え、原子の拡散速度を助長する。

【００７０】後続の通電電流によるジュール熱は、接触
点を中心に広がり、コート粒子の高抵抗軟磁性物質を塑
性変形しやすくする。特に、接触部の原子は活性化され
移動しやすい状態にあるため、コート粒子に２００〜５
００kg/cm²程度の圧力を加えただけで粒子間隙は接近
し、原子は拡散を始める。

【００７１】また、電界が存在するため、金属イオンは
電気的にも容易に移動する。

【００７２】この結果焼結時間が短縮化し、非磁性金属
酸化物の介在効果がより高まり、軟磁性金属粒子の酸化
および高抵抗軟磁性物質の還元を防止できる。

【００７３】このようなプラズマ活性化焼結における諸
条件は、通常下記のとおりである。

【００７４】プレス圧力：２００〜２５００kg/cm²程度プラズマ発生時間：１〜３分程度プラズマ雰囲気：１０^-3〜１０^-5Torr 焼結時の最高温度：６００〜１２００℃程度最高温度での保持時間：１〜１０分程度通電電流：１５００〜３０００Ａ程度

【００７５】なお、以上の説明は、１例であり、このほ
か、雰囲気としては、Ａｒ等の不活性ガス、酸素分圧を
コントロールしたＮ₂ ガス等でもよく、その他の諸条件
も使用する装置、プラズマ発生方式等により適宜選択さ
れる。また、場合によっては、空気等の酸素雰囲気中で
上記操作を行なってもよい。

【００７６】このように、加圧下焼結することによっ
て、不要な反応を起こすことなく、緻密なものとするこ
とができる。すなわち、フェライト等の高抵抗軟磁性物
質では粒子成長により焼結が進行し、一方、センダスト
等の金属軟磁性材料では塑性変形が生じ、これらにより
充填密度の高い焼結体が得られる。焼結体の相対密度と
しては９５％以上が得られる。

【００７７】また、本発明では、上記のように高抵抗軟
磁性物質の被覆を形成した軟磁性金属粒子を加圧下焼結
することが好ましいが、場合によっては、前記非磁性金
属酸化物を拡散コーティングしたり被覆したりした軟磁
性金属粉末と、高抵抗軟磁性物質との両粒子を混合して
加圧下焼結してもよい。この場合も、偏平な形状をもつ
軟磁性金属粒子は、粒子の主面が、加圧下焼結する金型
容器の底面とほぼ平行となるように前記の方法により配
向させることが必要である。

【００７８】このようにして得られた本発明の複合軟磁
性材料は、前記のように、偏平な形状をもつ軟磁性金属
粒子の間に、非磁性金属酸化物の層と高抵抗軟磁性物質
の層とが介在する構造として形成されている。

【００７９】この場合、高抵抗軟磁性物質の介在層と、
軟磁性金属粒子との体積比は１：９９〜３０：７０程度
であることが好ましい。また、非磁性金属酸化物の介在
層と軟磁性金属粒子との体積比は、被覆法によるとき、
０．１：９９．９〜３０：７０程度、拡散コーティング
法によるとき０．０２：９９．９８〜１：９９程度であ
ることが好ましい。なお、本発明の複合軟磁性材料中に
おける偏平状の軟磁性金属粒子の平均厚さは５〜１００
μm 程度、アスペクト比は２〜５０程度である。

【００８０】なお、介在層構成成分として、高抵抗軟磁
性物質にかえ、非磁性物質のみを用いる場合には、複合
軟磁性材料の透磁率および飽和磁束密度が磁性物質に比
較して低くなってしまうため、本発明のようにすぐれた
磁気特性を得ることができない。

【００８１】この場合、焼結後の介在層が磁性をもって
いることを確認するには、例えば、電子顕微鏡にてスピ
ンを観測したり、あるいはビッター法等により磁区を観
察したりすればよい。

【００８２】本発明の複合軟磁性材料は、下記に示され
る諸特性を有する。

【００８３】飽和磁束密度Ｂs ：５〜１５kG程度保磁力Ｈc ：０．０５〜２ Oe 程度初透磁率μ_i (100kHz)：５０〜５０００程度電気抵抗率ρ：１０² 〜１０⁷ Ω・cm、特に１０⁵ 〜１
０⁷ Ω・cm程度電力損失(0.1mT.100kHz)：３５０〜３０００kW/m³ 程度 (0.1mT.10kHz) ：５〜１００kW/m³ 程度

【００８４】また、本発明では、さらに焼結後、酸素雰
囲気中で熱処理、すなわちアニールすることが好まし
い。

【００８５】酸素雰囲気としては、通常空気とすること
が操作上好ましいが、酸素を１vol%以上含むガスであれ
ば特に制限はない。また、熱処理温度は焼結温度より低
めのものとすればよく、４００〜１０００℃、好ましく
は５００〜８００℃とすればよい。また熱処理時間はこ
の温度で１０分〜５時間、好ましくは１５分〜２時間保
持する条件とすればよい。

【００８６】空気または酸素を１vol%以上含むガス雰囲
気中で４００〜１０００℃、１０分〜５時間保持した。

【００８７】このような熱処理を行なうことにより、軟
磁性金属材料の歪除去とフェライト等の高抵抗軟磁性物
質の酸素欠乏量の補填が行なわれ、さらに特性の向上を
図ることができる。この結果、初透磁率μ_i （１００kH
z ）：５０〜２０００程度、電力損失（０．１mT．１０
０kHz ）：３５０〜２０００kW/m³ 程度、電力損失
（０．１mT．１０kHz ）：５〜１００kW/m³ 程度とする
ことができる。

【００８８】本発明の複合軟磁性材料は、磁心、特に高
周波電源用のコモンモードチョークコイルやトランス等
の高周波用磁心の軟磁性材料として好適であり、このほ
か各種磁気ヘッド、高精細度用ＣＲＴ用磁心等の軟磁性
材料としても用いることができる。

【００８９】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。

【００９０】実施例１組成（重量％）：Ｆｅ₈₅Ｓｉ₁₀Ａｌ₅ の合金を溶湯と
し、片ロール法により急冷薄帯装置を用いて厚さ４０μ
m の薄帯を作成した。この薄帯をジョークラッシャーを
用いて粗粉砕の後、鉄製のボールを用いたボールミル法
により９０分間粉砕を行った。粉砕後の粒子を１４５メ
ッシュおよび２００メッシュのふるいを用いて振動ふる
い機により分級し、ＳＥＭによる測定で、平均長軸長さ
が１１０μm の粒子を得た。なお、得られた粒子の平均
厚さは４０μm 、平均短軸長さは６０μm であった。

【００９１】得られた粒子を２００g 容量１リットルの
ポリエチレン製の容器に入れ、さらに直径４mmのＡｌ₂
Ｏ₃ 製のボールを８００g 加えて遊星ボールミルを用い
て４時間エッジ部分を除く処理を施した。

【００９２】このようにして得られた偏平状軟磁性金属
粒子について、拡散コーティング法により表層に非磁性
金属酸化物層を形成した。用いた拡散コーティング法の
条件は、大気中で、熱処理温度７５０℃、熱処理時間１
時間とした。粒子に形成された非磁性金属酸化物層の層
厚は０．０５８μm であった。

【００９３】次いで、非磁性金属酸化物層をもつ軟磁性
金属酸化物は、流動層コーティング法により、下記に示
した高抵抗軟磁性物質を用いて被覆した。

【００９４】高抵抗軟磁性物質Ｍｎ−Ｚｎフェライト（ＭｎＯ３５モル％、ＺｎＯ１２
モル％で共沈法により作成した）Ｂs ：４kG Ｈc ：０．１Oe μ_i (100kHz)：１００００ ρ：１５Ω・cm 平均粒径：０．０２μm

【００９５】この場合、Ｂs 測定はＶＳＭ、Ｈc 測定は
Ｂ−Ｈトレーサー、μ_i 測定はＬＣＲメーターを用いて
焼結後に行なった。そして、ρ測定は四探針法にて行な
った。

【００９６】次いで、トルエン溶媒とバインダーと分散
剤とを含む前記組成のフェライト溶液を用い、流動層に
よるスプレーコーティングを行い、コート粒子を得た。

【００９７】得られたコート粒子のフェライト厚さは
０．７０μm で、軟磁性金属：金属酸化物：高抵抗軟磁
性物質の重量比は、９４．５：０．３：５．２であっ
た。

【００９８】次に得られたコート粒子をホットプレス焼
結した。用いた条件は焼結温度８００℃、保持時間３０
分、圧力２t/cm² 、焼結雰囲気はＡｒフローである。

【００９９】得られた試料の表面の磁区構造を観察した
ところ、介在層のうち、高抵抗軟磁性物質の層は磁性を
有していることが確認された。また、焼結体の相対密度
は９５％以上であった。なお、焼結体は、外径１６mm×
内径６mm×厚さ４mmのトロイド体とした。

【０１００】次いで、得られた焼結体は７５０℃で３０
分大気中で熱処理（アニール）し、試料１を得た。

【０１０１】得られた試料に対し、Ｂs 、Ｈc 、μ_i お
よびコアロス（０．１mT・１００kHz ）を測定した。測
定方法は前記と同様に行った。結果は表１に示されると
おりである。

【０１０２】

【表１】

【０１０３】実施例２実施例１で用いたふるいのメッシュサイズを変えて平均
長軸長さ１５０μm の粒子を得た。平均短軸長さは６０
μm 、平均厚さは４０μm であった。他の条件は実施例
１と同じとした。拡散コーティング法により粒子に形成
された非磁性金属酸化物層の層厚は０．０５８μm であ
った。また、得られたコート粒子のフェライト厚さは
０．７０μm で、軟磁性金属：金属酸化物：高抵抗軟磁
性物質の重量比は、９４．７：０．３：５．０であっ
た。

【０１０４】さらに、得られた試料の表面の磁区構造を
観察したところ、介在層のうち、高抵抗軟磁性物質の層
は磁性を有していることが確認された。また、焼結体の
相対密度は９５％以上であった。

【０１０５】アニール後に得られた試料を試料２とし、
各特性の測定結果等は表１に示した。

【０１０６】実施例３作成した薄帯の厚さを２０μm としたほかは、実施例１
と同様に処理した。平均長軸長さは１１０μm 、平均短
軸長さは６０μm 、平均厚さは２０μm であった。拡散
コーティング法により粒子に形成された非磁性金属酸化
物層の層厚は０．０５４μm であった。また、得られた
コート粒子のフェライト厚さは０．７０μm で、軟磁性
金属：金属酸化物：高抵抗軟磁性物質の重量比は、９
１．９：０．４：７．７であった。

【０１０７】さらに、得られた試料の表面の磁区構造を
観察したところ、介在層のうち、高抵抗軟磁性物質の層
は磁性を有していることが確認された。また、焼結体の
相対密度は９５％以上であった。

【０１０８】アニール後に得られた試料を試料３とし、
各特性の測定結果等は表１に示した。

【０１０９】実施例４実施例１と同じ組成の合金をジョークラッシャーにて粗
粉砕し、５mm径のジルコニア製のボールを用いるボール
ミル法にて粉砕して平均長軸長さ５０μm 、平均短軸長
さ３０μm 、厚さ１０μm の粒子を得た。得られた粒子
を実施例１と同様にエッジ部分を除く処理を施した。次
いで、処理温度７００℃、熱処理時間３０分として拡散
コーティング法により膜厚０．０２０μm の非磁性金属
酸化物層を形成した。その他は実施例１と同様に処理
し、得られたコート粒子のフェライト厚さは０．３０μ
m で、軟磁性金属：金属酸化物：高抵抗軟磁性物質の重
量比は、９３．４：０．３：６．３であった。

【０１１０】さらに、得られた試料の表面の磁区構造を
観察したところ、介在層のうち、高抵抗軟磁性物質の層
は磁性を有していることが確認された。また、焼結体の
相対密度は９５％以上であった。

【０１１１】アニール後に得られた試料を試料４とし、
各特性の測定結果等は表１に示した。

【０１１２】実施例５実施例１で得たコート粒子を用い、焼結方法としてホッ
トプレス焼結を行う代りに、図１に示されるプラズマ活
性化焼結装置１を用いてプラズマ活性化焼結を行なっ
た。プラズマ発生方式および焼結条件は下記のとおりで
ある。

【０１１３】プラズマ発生方式：パルス幅３０msecのパ
ルス電流プレス圧力：２０００kg/cm² プラズマ発生時間：１分プラズマ雰囲気：１０^-3Torr 焼結時の最高温度：７００℃ 最高温度での保持時間：１分電流：２０００Ａ焼結雰囲気：５×１０^-5Torr

【０１１４】得られた試料の表面の磁区構造を観察した
ところ、介在層のうち、高抵抗軟磁性物質の層は磁性を
有していることが確認された。また、焼結体の相対密度
は９５％以上であった。

【０１１５】アニール後に得られた試料を試料５とし、
各特性の測定結果等は表１に示した。

【０１１６】実施例６拡散コーティング法による代わりに、α−アルミナを用
い、流動層によるスプレーコーティング法で非磁性金属
酸化物の被覆層を形成した他は、実施例１と同様に処理
した。形成された非磁性金属酸化物の層厚は０．２μm
であった。また、得られたコート粒子のフェライト厚さ
は０．７０μm で、軟磁性金属：金属酸化物：高抵抗軟
磁性物質の重量比は、９３．６：１．１：５．３であっ
た。

【０１１７】さらに、得られた試料の表面の磁区構造を
観察したところ、介在層のうち、高抵抗軟磁性物質の層
は磁性を有していることが確認された。また、焼結体の
相対密度は９５％以上であった。

【０１１８】アニール後に得られた試料を試料６とし、
各特性の測定結果等は表１に示した。

【０１１９】比較例１下記の球形の軟磁性金属粒子を用意し、実施例１に記述
した拡散コーティング法による非磁性金属酸化物層の形
成以後の処理を、実施例１と同様に行った。

【０１２０】球形軟磁性金属粒子組成（重量％）：Ｆｅ₈₅Ｓｉ₁₀Ａｌ₅ Ｂs ：１１kG Ｈc ：０．１ Oe μ_i （直流）：３００００平均粒径：６１μm

【０１２１】なお、前記のＢs 、Ｈｃおよびμ_i は、そ
れぞれ、バルク体で測定した値である。また、上記球形
軟磁性金属粒子の平均粒径は、レーザ散乱法により求め
た。

【０１２２】拡散コーティング法により粒子に形成され
た非磁性金属酸化物層の層厚は０．０５６μm であっ
た。また、得られたコート粒子のフェライト厚さは０．
７０μm で、軟磁性金属：金属酸化物：高抵抗軟磁性物
質の重量比は、９４．６：０．３：５．１であった。

【０１２３】さらに、得られた試料の表面の磁区構造を
観察したところ、介在層のうち、高抵抗軟磁性物質の層
は磁性を有していることが確認された。また、焼結体の
相対密度は９５％以上であった。

【０１２４】アニール後に得られた試料を試料７とし、
各特性の測定結果等は表１に示した。

【０１２５】比較例２平均粒径８７μm の球形軟磁性金属粒子を用いた他は比
較例１と同じ処理を行った。拡散コーティング法により
粒子に形成された非磁性金属酸化物層の層厚は０．０５
５μm であった。また、得られたコート粒子のフェライ
ト厚さは０．７０μm で、軟磁性金属：金属酸化物：高
抵抗軟磁性物質の重量比は、９６．２：０．２：３．６
であった。

【０１２６】さらに、得られた試料の表面の磁区構造を
観察したところ、介在層のうち、高抵抗軟磁性物質の層
は磁性を有していることが確認された。また、焼結体の
相対密度は９５％以上であった。

【０１２７】アニール後に得られた試料を試料８とし、
各特性の測定結果等は表１に示した。

【０１２８】比較例３エッジ部分を除く処理を省略した他は実施例１と同じ処
理を行った。得られた粒子サイズおよびコート粒子の軟
磁性金属：金属酸化物：高抵抗軟磁性物質の重量比は実
施例１と同じであった。

【０１２９】さらに、得られた試料の表面の磁区構造を
観察したところ、介在層のうち、高抵抗軟磁性物質の層
は磁性を有していることが確認された。また、焼結体の
相対密度は９５％以上であった。

【０１３０】アニール後に得られた試料を試料９とし、
各特性の測定結果等は表１に示した。

【０１３１】試料１〜９について、焼結時の加圧方向と
平行な断面の任意の部分を前記方法により観察したとこ
ろ、試料１〜６および試料９は、使用時印加される磁界
と垂直に配向した軟磁性金属粒子は存在せず、全粒子の
主面は印加磁界方向に対し、±２０°以内に配向してい
た。

【０１３２】表１に示される結果から、本発明の効果が
明らかである。すなわち、アスペクト比が本発明の範囲
外では、μ_i が低く、アスペクト比の高いものほどμ_i
も高い。一般に、μ_i は用いた軟磁性金属粒子の体積に
より変化し、その体積が大きくなるとμ_i も高くなる。
試料Ｎｏ．８は、試料Ｎｏ．１と比較して体積は大きい
が、μ_i が低く、その上コアロスも高い。また、エッジ
部分を除く処理を施さない試料Ｎｏ．９では、コアロス
が高く、μ_i も他の条件が等しい試料Ｎｏ．１より悪化
している。

【０１３３】

【発明の効果】本発明の複合軟磁性材料は、軟磁性金属
粒子と、高抵抗軟磁性物質の間に非磁性金属酸化物を介
在させたもので、前記軟磁性金属粒子は偏平状である。
そして、加圧下焼結後の複合軟磁性材料中では、その主
面が、使用時印加される磁界により発生する磁束と垂直
に配向された前記偏平状の軟磁性金属粒子を含まない。
そのため、軟磁性金属の特徴である高飽和磁束密度、高
抵抗軟磁性物質の特徴である高電気抵抗率を有するのみ
でなく、各軟磁性金属の粒子に生ずる反磁界の強さが小
さくなり、透磁率が高く、電力損失の少ない軟磁性材料
を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の複合軟磁性材料の製造に用いるプラズ
マ活性化焼結装置の１例を示す断面図である。

【符号の説明】

１プラズマ活性化焼結装置２１、２２電極３１、３２パンチ４型枠５コート粒子

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表層に非磁性金属酸化物の層をもつ軟磁
性金属粒子間に高抵抗軟磁性物質の層が介在する複合軟
磁性材料であって、前記軟磁性金属粒子は偏平状で、そ
の主面が使用時印加される磁界に対し垂直に配向された
前記軟磁性金属粒子を含まない複合軟磁性材料。
【請求項２】前記軟磁性金属粒子の平均長軸長さを平
均厚さで除したアスペクト比が２以上である請求項１の
複合軟磁性材料。
【請求項３】前記軟磁性金属粒子の厚さが１〜１００
μm である請求項１または２の複合軟磁性材料。
【請求項４】前記軟磁性金属粒子は、高速急冷法によ
り製造された請求項１〜３のいずれかの複合軟磁性材
料。
【請求項５】前記軟磁性金属粒子は、アトマイズ法に
より製造された請求項１〜３のいずれかの複合軟磁性材
料。
【請求項６】前記軟磁性金属粒子は、ボールミル法あ
るいはアトリッションミル法により粉砕して製造された
請求項１〜３のいずれかの複合軟磁性材料。
【請求項７】前記軟磁性金属粒子は、エッジ部分除去
処理を施されている請求項４〜６のいずれかの複合軟磁
性材料。
【請求項８】表層に非磁性金属酸化物の層をもつ前記
軟磁性金属粒子と、前記高抵抗軟磁性物質とを加圧下焼
結した請求項１〜７のいずれかの複合軟磁性材料。
【請求項９】前記軟磁性金属粒子を酸素雰囲気中で熱
処理し、この粒子表面に非磁性金属酸化物の拡散層を形
成し、この軟磁性金属粒子に前記高抵抗軟磁性物質を被
覆し、加圧下焼結した請求項８の複合軟磁性材料。
【請求項１０】前記非磁性金属酸化物の拡散層の厚さ
が、３〜３００nmである請求項９の複合軟磁性材料。
【請求項１１】予め、前記軟磁性金属粒子に、非磁性
金属酸化物を被覆し、この軟磁性金属粒子に前記高抵抗
軟磁性物質を被覆し、加圧下焼結した請求項８の複合軟
磁性材料。
【請求項１２】前記非磁性金属酸化物の被覆の厚さ
が、０．０２〜１μmである請求項１１の複合軟磁性材
料。
【請求項１３】前記高抵抗軟磁性物質の被覆の厚さが
０．０２〜１０μmである請求項９〜１２のいずれかの
複合軟磁性材料。
【請求項１４】前記加圧下焼結がホットプレスまたは
プラズマ活性化焼結である請求項８〜１３のいずれかの
複合軟磁性材料。
【請求項１５】前記加圧下焼結ののち、さらに酸素雰
囲気中で熱処理する請求項８〜１４のいずれかの複合軟
磁性材料。