JPH06256362A - tert−ブトキシテキシルジアルコキシシラン化合物 - Google Patents
tert−ブトキシテキシルジアルコキシシラン化合物Info
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- JPH06256362A JPH06256362A JP4964093A JP4964093A JPH06256362A JP H06256362 A JPH06256362 A JP H06256362A JP 4964093 A JP4964093 A JP 4964093A JP 4964093 A JP4964093 A JP 4964093A JP H06256362 A JPH06256362 A JP H06256362A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】高重合活性、高立体規則性重合触媒成分、シラ
ンカップリング剤、樹脂改質剤として有用なシラン化合
物を提供する。 【構成】 【化7】 上記化学式で示される目的物質tert−ブトキシテキ
シルジアルコキシシラン化合物をプロピレン重合に用い
ることにより、より高い立体規則性を有するポリプロピ
レンがより高い重合活性のもとで得られる。
ンカップリング剤、樹脂改質剤として有用なシラン化合
物を提供する。 【構成】 【化7】 上記化学式で示される目的物質tert−ブトキシテキ
シルジアルコキシシラン化合物をプロピレン重合に用い
ることにより、より高い立体規則性を有するポリプロピ
レンがより高い重合活性のもとで得られる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、触媒成分、シランカッ
プリング剤、樹脂改質剤などに有用な新規シラン化合物
に関するものである。
プリング剤、樹脂改質剤などに有用な新規シラン化合物
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】プロピレン重合を行なう際に、触媒成分
としてtert−ブトキシ−tert−ブチルジメトキ
シシランやtert−ブトキシシクロヘキシルジメトキ
シシランのようなtert−ブトキシ基と嵩高いアルキ
ル基を有するジアルコキシシラン化合物が使用されてい
る。高い立体規則性を有するポリプロピレンを得るた
め、また高い重合活性を付与するためにtert−ブト
キシ基とより嵩高いアルキル基を有するジアルコキシシ
ラン化合物の開発が望まれていた。さらにtert−ブ
トキシ基を有するジアルコキシシラン化合物は、シラン
カップリング剤や樹脂改質剤として有用であり、改良さ
れたtert−ブトキシジアルコキシシラン化合物の出
現が望まれていた。
としてtert−ブトキシ−tert−ブチルジメトキ
シシランやtert−ブトキシシクロヘキシルジメトキ
シシランのようなtert−ブトキシ基と嵩高いアルキ
ル基を有するジアルコキシシラン化合物が使用されてい
る。高い立体規則性を有するポリプロピレンを得るた
め、また高い重合活性を付与するためにtert−ブト
キシ基とより嵩高いアルキル基を有するジアルコキシシ
ラン化合物の開発が望まれていた。さらにtert−ブ
トキシ基を有するジアルコキシシラン化合物は、シラン
カップリング剤や樹脂改質剤として有用であり、改良さ
れたtert−ブトキシジアルコキシシラン化合物の出
現が望まれていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の課題を
解決するためなされたもので、高活性、高立体規則性重
合触媒成分、シランカップリング剤、樹脂改質剤として
有用な新規化合物であり、tert−ブトキシ基と嵩高
いアルキル基を有するジアルコキシシラン化合物を提供
することを目的とする。
解決するためなされたもので、高活性、高立体規則性重
合触媒成分、シランカップリング剤、樹脂改質剤として
有用な新規化合物であり、tert−ブトキシ基と嵩高
いアルキル基を有するジアルコキシシラン化合物を提供
することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めの本発明のシラン化合物は、下記化学式 [I]で表わ
されるtert−ブトキシテキシルジアルコキシシラン
である。
めの本発明のシラン化合物は、下記化学式 [I]で表わ
されるtert−ブトキシテキシルジアルコキシシラン
である。
【0005】
【化2】
【0006】式中のRはメチル基あるいはエチル基であ
る。化学式 [I]のシラン化合物は、下記反応式[II]お
よび反応式[III] に示す順の2段階反応で合成される。
る。化学式 [I]のシラン化合物は、下記反応式[II]お
よび反応式[III] に示す順の2段階反応で合成される。
【0007】
【化3】
【0008】反応式[II]において、Xはハロゲン原子を
表わし、特にClまたはBrが好ましい。この合成方法
は、特開平4−66588号公報に記載された公知の合
成方法である。テキシルトリハロシランとtert−ブ
チルアルコールとを反応させtert−ブトキシテキシ
ルジハロシランを生成させる。この際、反応系に脱ハロ
ゲン化水素剤を共存させておくのが好ましい。脱ハロゲ
ン化水素剤としては、例えばトリエチルアミン、トリブ
チルアミン等の第三級アミン、ピリジン、キノリン、イ
ミダゾールの窒素含有複素環化合物があげられる。
表わし、特にClまたはBrが好ましい。この合成方法
は、特開平4−66588号公報に記載された公知の合
成方法である。テキシルトリハロシランとtert−ブ
チルアルコールとを反応させtert−ブトキシテキシ
ルジハロシランを生成させる。この際、反応系に脱ハロ
ゲン化水素剤を共存させておくのが好ましい。脱ハロゲ
ン化水素剤としては、例えばトリエチルアミン、トリブ
チルアミン等の第三級アミン、ピリジン、キノリン、イ
ミダゾールの窒素含有複素環化合物があげられる。
【0009】始発物質の投入量の比率は、テキシルトリ
ハロシラン1モル当たり、tert−ブチルアルコール
を1〜10倍モルが好ましい。脱ハロゲン化水素剤の量
はテキシルトリハロシランの1〜10倍モルを用いる。
反応温度は0〜150℃が好ましく(さらに好ましくは
30〜100℃)、反応時間は1〜20時間が好ましい
(さらに好ましくは2〜10時間)。またここで使用さ
れているtert−ブチルアルコールの代わりに、ナト
リウム−tert−ブトキシドやカリウム−tert−
ブトキシドなどの金属tert−ブトキシドを使用する
ことも可能である。この場合には脱ハロゲン化水素剤を
使用する必要はない。
ハロシラン1モル当たり、tert−ブチルアルコール
を1〜10倍モルが好ましい。脱ハロゲン化水素剤の量
はテキシルトリハロシランの1〜10倍モルを用いる。
反応温度は0〜150℃が好ましく(さらに好ましくは
30〜100℃)、反応時間は1〜20時間が好ましい
(さらに好ましくは2〜10時間)。またここで使用さ
れているtert−ブチルアルコールの代わりに、ナト
リウム−tert−ブトキシドやカリウム−tert−
ブトキシドなどの金属tert−ブトキシドを使用する
ことも可能である。この場合には脱ハロゲン化水素剤を
使用する必要はない。
【0010】前記反応式[II]で示す反応により得られた
tert−ブトキシテキシルジハロシランにメタノール
またはエタノールを反応させると、下記反応式[III] で
示すように目的物質であるtert−ブトキシテキシル
ジアルコキシシラン(化学式[I])が得られる。
tert−ブトキシテキシルジハロシランにメタノール
またはエタノールを反応させると、下記反応式[III] で
示すように目的物質であるtert−ブトキシテキシル
ジアルコキシシラン(化学式[I])が得られる。
【0011】
【化4】
【0012】反応式[III] で表わされる反応の際に必要
により用いられる脱ハロゲン化水素剤は、通常反応式[I
I]で示す反応で用いられる化合物と同一物が用いられる
が、異なっていてもよい。メタノールあるいはエタノー
ルの量は、tert−ブトキシテキシルジハロシラン1
モルにつき2〜10倍モルが好ましい。脱ハロゲン化水
素剤の量はtert−ブトキシテキシルジハロシランの
2〜10倍モルを用いる。反応温度は0〜200℃が好
ましく(さらに好ましくは30〜150℃)、反応温度
は1〜20時間が好ましい(さらに好ましくは2〜10
時間)。またここで使用されているメタノールあるいは
エタノールの代わりに、ナトリウムメトキシド、カリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキ
シドなどの金属メトキシド、金属エトキシドを使用する
ことも可能である。この場合には、脱ハロゲン化水素剤
を使用する必要はない。
により用いられる脱ハロゲン化水素剤は、通常反応式[I
I]で示す反応で用いられる化合物と同一物が用いられる
が、異なっていてもよい。メタノールあるいはエタノー
ルの量は、tert−ブトキシテキシルジハロシラン1
モルにつき2〜10倍モルが好ましい。脱ハロゲン化水
素剤の量はtert−ブトキシテキシルジハロシランの
2〜10倍モルを用いる。反応温度は0〜200℃が好
ましく(さらに好ましくは30〜150℃)、反応温度
は1〜20時間が好ましい(さらに好ましくは2〜10
時間)。またここで使用されているメタノールあるいは
エタノールの代わりに、ナトリウムメトキシド、カリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキ
シドなどの金属メトキシド、金属エトキシドを使用する
ことも可能である。この場合には、脱ハロゲン化水素剤
を使用する必要はない。
【0013】前記反応式[II]および反応式[III] の反応
は、通常非プロトン性溶媒中で行なうことが好ましい
が、溶媒を用いないで行なうこともできる。非プロトン
性溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、n−ヘキサン、シクロヘキサンの炭化水素系溶媒、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
エーテル系溶媒さらにはジメチルホルムアミド、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミドのアミド系溶媒があげら
れる。
は、通常非プロトン性溶媒中で行なうことが好ましい
が、溶媒を用いないで行なうこともできる。非プロトン
性溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ン、n−ヘキサン、シクロヘキサンの炭化水素系溶媒、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
エーテル系溶媒さらにはジメチルホルムアミド、ヘキサ
メチルホスホリックトリアミドのアミド系溶媒があげら
れる。
【0014】
【作用】tert−ブトキシ基とより嵩高いアルキル基
を有する新規なジアルコキシシラン化合物を合成し、本
物質をプロピレン重合に用いることによってより高い重
合活性のもとで高立体規則性を有するポリプロピレンを
得ることができる。
を有する新規なジアルコキシシラン化合物を合成し、本
物質をプロピレン重合に用いることによってより高い重
合活性のもとで高立体規則性を有するポリプロピレンを
得ることができる。
【0015】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明する。尚、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。 実施例1 撹拌機、還流冷却器、温度計および滴下ロートを備えた
500mlガラスフラスコの反応器にカリウム−ter
t−ブトキシド23.6g(0.21mol)およびト
ルエン200mlを仕込む。そこに滴下ロートよりテキ
シルトリクロロシラン43.9g(0.2mol)を40
〜50℃にて1時間かけて滴下し、50℃にて1時間熟成
した。この反応液へ滴下ロートよりナトリウムメトキシ
ド23.8g(0.4mol)の20%メタノール溶液を4
0〜50℃にて1時間かけて滴下し、50℃にて1時間
熟成した。生成した沈殿を濾過により除去し、盧液を蒸
留することにより56〜57℃/2.5mmHgの沸点
を有する化合物40.7gを得た。収率は82%であっ
た。
説明する。尚、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。 実施例1 撹拌機、還流冷却器、温度計および滴下ロートを備えた
500mlガラスフラスコの反応器にカリウム−ter
t−ブトキシド23.6g(0.21mol)およびト
ルエン200mlを仕込む。そこに滴下ロートよりテキ
シルトリクロロシラン43.9g(0.2mol)を40
〜50℃にて1時間かけて滴下し、50℃にて1時間熟成
した。この反応液へ滴下ロートよりナトリウムメトキシ
ド23.8g(0.4mol)の20%メタノール溶液を4
0〜50℃にて1時間かけて滴下し、50℃にて1時間
熟成した。生成した沈殿を濾過により除去し、盧液を蒸
留することにより56〜57℃/2.5mmHgの沸点
を有する化合物40.7gを得た。収率は82%であっ
た。
【0016】得られた化合物について質量分析(M
S)、核磁気共鳴スペクトル(NMR)、および赤外吸
収スペクトル(IR)の測定をした。その結果を以下に
示す。 質量スペクトル(MS): m/z (帰属) 248 (分子イオン (M+ )ピーク) 233 (M+ CH3 イオンピーク) 163 (M+ C(CH3 )2 CH(CH3 )2 イ
オンピーク) 核磁気共鳴スペクトル (NMR):δ(ppm)
S)、核磁気共鳴スペクトル(NMR)、および赤外吸
収スペクトル(IR)の測定をした。その結果を以下に
示す。 質量スペクトル(MS): m/z (帰属) 248 (分子イオン (M+ )ピーク) 233 (M+ CH3 イオンピーク) 163 (M+ C(CH3 )2 CH(CH3 )2 イ
オンピーク) 核磁気共鳴スペクトル (NMR):δ(ppm)
【0017】
【化5】
【0018】a:1.29 (シングレット、9H) b:1.56 (マルチブレット、1H) c:0.87 (ダブレット、6H) d:0.87 (シングレット、6H) e:3.54 (シングレット、6H) 赤外吸収スペクトル(IR)の測定結果は、図1のIR
チャート図に示してある。これらの測定結果により、得
られた化合物がtert−ブトキシテキシルジメトキシ
シランであることが確認された。
チャート図に示してある。これらの測定結果により、得
られた化合物がtert−ブトキシテキシルジメトキシ
シランであることが確認された。
【0019】実施例2 撹拌機、還流冷却器、温度計および滴下ロートを備えた
500mlガラスフラスコの反応器にカリウム−ter
t−ブトキシド23.6g(0.21mol)およびo
−キシレン200mlを仕込む。そこに適化ロートより
テキシルトリクロロシラン43.9g(0.2mol)
を40〜50℃にて1時間かけて滴下し、50℃にて1
時間かけて熟成した。この反応液へ粉末上のナトリウム
エトキシド40.9g(0.6mol)を加え、還流下
にて1時間かけて熟成した。生成した沈殿を濾過により
除去し、濾液を蒸留することにより75〜76℃/4mmH
gの沸点を有する化合物37.1gを得た。収率は67
%であった。
500mlガラスフラスコの反応器にカリウム−ter
t−ブトキシド23.6g(0.21mol)およびo
−キシレン200mlを仕込む。そこに適化ロートより
テキシルトリクロロシラン43.9g(0.2mol)
を40〜50℃にて1時間かけて滴下し、50℃にて1
時間かけて熟成した。この反応液へ粉末上のナトリウム
エトキシド40.9g(0.6mol)を加え、還流下
にて1時間かけて熟成した。生成した沈殿を濾過により
除去し、濾液を蒸留することにより75〜76℃/4mmH
gの沸点を有する化合物37.1gを得た。収率は67
%であった。
【0020】得られた化合物の質量分析(MS)、核磁
気共鳴スペクトル(NMR)、および赤外吸収スペクト
ル(IR)の測定結果を以下に示す。 質量スペクトル(MS) :m/z(帰属) 276 (分子イオン(M+ )ピーク) 261 (M+ CH3 イオンピーク) 191 (M+ C(CH3 )2 CH(CH3 )2 イ
オンピーク) 核磁気共鳴スペクトル(NMR) :δ(ppm)
気共鳴スペクトル(NMR)、および赤外吸収スペクト
ル(IR)の測定結果を以下に示す。 質量スペクトル(MS) :m/z(帰属) 276 (分子イオン(M+ )ピーク) 261 (M+ CH3 イオンピーク) 191 (M+ C(CH3 )2 CH(CH3 )2 イ
オンピーク) 核磁気共鳴スペクトル(NMR) :δ(ppm)
【0021】
【化6】
【0022】a:1.29 (シングレット、9H) b:1.58 (マルチブレット、1H) c:0.88 (ダブレット、6H) d:0.87 (シングレット、6H) e:3.82 (カルテット、4H) f:1.19 (トリプレット、6H) 赤外吸収スペクトル(IR)の測定結果は、図2のIR
チャート図に示してある。これらの測定結果より得られ
た化合物がtert−ブトキシテキシルジエトキシシラ
ンであることが確認された。
チャート図に示してある。これらの測定結果より得られ
た化合物がtert−ブトキシテキシルジエトキシシラ
ンであることが確認された。
【0023】実施例3 撹拌機、還流冷却器、温度計、および滴下ロートを備え
た500mlガラスフラスコの反応器にテキシルトリク
ロロシラン43.9g(0.2mol)およびジメチル
ホルムアミド200mlを仕込む。そこに滴下ロートよ
りtert−ブタノール29.6g(0.4 mol)およびト
リエチルアミン81.0g (0.8 mol)の混合液を室温下
にて1時間かけて滴下し、50℃にて10時間熟成し
た。この反応液へ滴下ロートよりメタノール25.6g
(0.8mol)を40〜50℃にて1時間かけて滴下
し、50℃にて5時間熟成した。生成した沈殿を濾過に
より除去し、濾液を蒸留することにより54〜55℃/
2mmHgの沸点を有する化合物17.9gを得た。収
率は36%であった。得られた化合物の質量スペクトル
(MS)、核磁気共鳴スペクトル(NMR)、および赤
外吸収スペクトル(IR)は実施例1の結果と同様であ
り、得られた化合物が、tert−ブトキシテキシルジ
メトキシランであることが確認された。
た500mlガラスフラスコの反応器にテキシルトリク
ロロシラン43.9g(0.2mol)およびジメチル
ホルムアミド200mlを仕込む。そこに滴下ロートよ
りtert−ブタノール29.6g(0.4 mol)およびト
リエチルアミン81.0g (0.8 mol)の混合液を室温下
にて1時間かけて滴下し、50℃にて10時間熟成し
た。この反応液へ滴下ロートよりメタノール25.6g
(0.8mol)を40〜50℃にて1時間かけて滴下
し、50℃にて5時間熟成した。生成した沈殿を濾過に
より除去し、濾液を蒸留することにより54〜55℃/
2mmHgの沸点を有する化合物17.9gを得た。収
率は36%であった。得られた化合物の質量スペクトル
(MS)、核磁気共鳴スペクトル(NMR)、および赤
外吸収スペクトル(IR)は実施例1の結果と同様であ
り、得られた化合物が、tert−ブトキシテキシルジ
メトキシランであることが確認された。
【0024】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明のt
ert−ブトキシテキシルジアルコキシシラン化合物
は、高重合活性、高立体規則性重合触媒成分、シランカ
ップリング剤、樹脂改質剤として有用である新規なシラ
ン化合物であり、この触媒によって得られたポリプロピ
レンはより高い重合活性のもとで、高い立体規則性を示
す。
ert−ブトキシテキシルジアルコキシシラン化合物
は、高重合活性、高立体規則性重合触媒成分、シランカ
ップリング剤、樹脂改質剤として有用である新規なシラ
ン化合物であり、この触媒によって得られたポリプロピ
レンはより高い重合活性のもとで、高い立体規則性を示
す。
【図1】tert−ブトキシテキシルジメトキシシラン
であることを同定するIRチャート図である。
であることを同定するIRチャート図である。
【図2】tert−ブトキシテキシルジエトキシシラン
であることを同定するIRチャ−ト図である。
であることを同定するIRチャ−ト図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遠藤 幹夫 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内 (72)発明者 平原 富明 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の 1 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内
Claims (1)
- 【請求項1】 下記式 【化1】 (式中、Rはメチル基またはエチル基)で表わされるt
ert−ブトキシテキシルジアルコキシシラン化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4964093A JPH06256362A (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | tert−ブトキシテキシルジアルコキシシラン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4964093A JPH06256362A (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | tert−ブトキシテキシルジアルコキシシラン化合物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06256362A true JPH06256362A (ja) | 1994-09-13 |
Family
ID=12836814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4964093A Pending JPH06256362A (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | tert−ブトキシテキシルジアルコキシシラン化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06256362A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009001498A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ヒドロキシル基のシリル化方法 |
-
1993
- 1993-03-10 JP JP4964093A patent/JPH06256362A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009001498A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ヒドロキシル基のシリル化方法 |
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