JPH06254352A - 燃焼排ガスの浄化方法および該方法に用いられる触媒 - Google Patents
燃焼排ガスの浄化方法および該方法に用いられる触媒Info
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- JPH06254352A JPH06254352A JP5067394A JP6739493A JPH06254352A JP H06254352 A JPH06254352 A JP H06254352A JP 5067394 A JP5067394 A JP 5067394A JP 6739493 A JP6739493 A JP 6739493A JP H06254352 A JPH06254352 A JP H06254352A
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- Japan
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- zsm
- type zeolite
- catalyst
- exhaust gas
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 希薄燃焼方式により発生する燃焼排ガスの浄
化方法の提供。 【構成】 希薄燃焼方式により発生する燃焼排ガスであ
って、多量の酸素ならびに少量の低級炭化水素および窒
素酸化物よりなる該燃焼排ガスを、Ｎａ−ＺＳＭ−５型
ゼオライトをアンモニアイオン交換してＮＨ4 −ＺＳＭ
−５型ゼオライトとし、次いで焼成してＨ−ＺＳＭ−５
型ゼオライトとし、次いでＰｄ（ＮＯ3 ）2 または〔Ｐ
ｄ（ＮＨ3 ）4 〕Ｃｌ2 の水溶液中でイオン交換してＨ
−ＺＳＭ−５型ゼオライト担体にパラジウムを担持して
なる触媒の存在下に、接触反応させることより、必要に
応じて該燃焼排ガスに一定量の低級炭化水素を新たに添
加し、該燃焼排ガス中に含まれる低級炭化水素と必要に
応じて新たに添加される低級炭化水素の合計量が、該燃
焼排ガス中に含まれる窒素酸化物を還元・浄化するに必
要な量であることを特徴とする。
化方法の提供。 【構成】 希薄燃焼方式により発生する燃焼排ガスであ
って、多量の酸素ならびに少量の低級炭化水素および窒
素酸化物よりなる該燃焼排ガスを、Ｎａ−ＺＳＭ−５型
ゼオライトをアンモニアイオン交換してＮＨ4 −ＺＳＭ
−５型ゼオライトとし、次いで焼成してＨ−ＺＳＭ−５
型ゼオライトとし、次いでＰｄ（ＮＯ3 ）2 または〔Ｐ
ｄ（ＮＨ3 ）4 〕Ｃｌ2 の水溶液中でイオン交換してＨ
−ＺＳＭ−５型ゼオライト担体にパラジウムを担持して
なる触媒の存在下に、接触反応させることより、必要に
応じて該燃焼排ガスに一定量の低級炭化水素を新たに添
加し、該燃焼排ガス中に含まれる低級炭化水素と必要に
応じて新たに添加される低級炭化水素の合計量が、該燃
焼排ガス中に含まれる窒素酸化物を還元・浄化するに必
要な量であることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、燃焼排ガスの浄化方
法、特に希薄燃焼方式により発生する燃焼排ガスの浄化
方法および該方法に用いられる触媒に関する。
法、特に希薄燃焼方式により発生する燃焼排ガスの浄化
方法および該方法に用いられる触媒に関する。
【０００２】
【従来の技術およびその課題】現在、燃焼効率や熱効率
あるいは二酸化炭素の排出を抑制するため、希薄燃焼方
式をとることが望ましいが、その場合排ガス中に、少量
の低級炭化水素、窒素酸化物、一酸化炭素そして多量の
酸素が存在することとなる。
あるいは二酸化炭素の排出を抑制するため、希薄燃焼方
式をとることが望ましいが、その場合排ガス中に、少量
の低級炭化水素、窒素酸化物、一酸化炭素そして多量の
酸素が存在することとなる。
【０００３】従来、上記した少量の低級炭化水素、特に
メタン、酸化窒素および一酸化炭素を除去してガス燃焼
排ガスを浄化する方法としてアンモニア添加による選択
還元脱硝法あるいは三元触媒による浄化法が採用されて
いるが、アンモニアによる方法では毒性の強いアンモニ
アのハンドリング、三元触媒による方法では空気比が
１．０付近の酸素がほとんどない条件でのみ有効である
などの問題があり、その改善が要望されている。
メタン、酸化窒素および一酸化炭素を除去してガス燃焼
排ガスを浄化する方法としてアンモニア添加による選択
還元脱硝法あるいは三元触媒による浄化法が採用されて
いるが、アンモニアによる方法では毒性の強いアンモニ
アのハンドリング、三元触媒による方法では空気比が
１．０付近の酸素がほとんどない条件でのみ有効である
などの問題があり、その改善が要望されている。
【０００４】特開昭６３−１００９１９号公報には、酸
化雰囲気中、炭化水素の存在下、銅触媒に、窒素酸化物
を含有する自動車等の内燃機関等から排出される排ガス
を接触させることにより排ガス中の窒素酸化物を除去す
る方法、および該方法に用いられる銅触媒として銅をゼ
オライト等に担持してなる触媒が開発されているが、満
足すべき状態ではない。
化雰囲気中、炭化水素の存在下、銅触媒に、窒素酸化物
を含有する自動車等の内燃機関等から排出される排ガス
を接触させることにより排ガス中の窒素酸化物を除去す
る方法、および該方法に用いられる銅触媒として銅をゼ
オライト等に担持してなる触媒が開発されているが、満
足すべき状態ではない。
【０００５】特開平２−２６５６４９号公報には、自動
車等から排出される排ガスの浄化方法であって、酸素が
過剰に存在する酸化雰囲気でＮＯx 、ＣＯおよび炭化水
素を効率よく浄化できる方法が開示されているが、パラ
ジウムなどの酸化触媒のみではＮＯx の浄化は全く行な
うことができず、ＮＯx 、ＣＯおよび炭化水素を同時に
浄化するためには、銅シリケート触媒とパラジウムなど
の酸化触媒との組合せからなる触媒系を使用する必要が
ある旨、教示されているに過ぎない。しかも上記炭化水
素について具体的に記載されていない。
車等から排出される排ガスの浄化方法であって、酸素が
過剰に存在する酸化雰囲気でＮＯx 、ＣＯおよび炭化水
素を効率よく浄化できる方法が開示されているが、パラ
ジウムなどの酸化触媒のみではＮＯx の浄化は全く行な
うことができず、ＮＯx 、ＣＯおよび炭化水素を同時に
浄化するためには、銅シリケート触媒とパラジウムなど
の酸化触媒との組合せからなる触媒系を使用する必要が
ある旨、教示されているに過ぎない。しかも上記炭化水
素について具体的に記載されていない。
【０００６】触媒、３２Ｎｏ．６，１９９０年、４３０
〜４３３頁には、銅イオン交換ＺＳＭ−５型ゼオライト
触媒を用い、酸素および炭化水素の共存下、ディーゼル
エンジン、希薄燃焼方式ガソリンエンジン等の排ガスを
２００〜４００℃の温度範囲で反応させることにより、
該排ガス中の窒素酸化物を効率的に還元・除去すること
が可能となる旨報告されているが、適用しうる反応温度
範囲が狭く、満足すべき状態にない。
〜４３３頁には、銅イオン交換ＺＳＭ−５型ゼオライト
触媒を用い、酸素および炭化水素の共存下、ディーゼル
エンジン、希薄燃焼方式ガソリンエンジン等の排ガスを
２００〜４００℃の温度範囲で反応させることにより、
該排ガス中の窒素酸化物を効率的に還元・除去すること
が可能となる旨報告されているが、適用しうる反応温度
範囲が狭く、満足すべき状態にない。
【０００７】本発明は、希薄燃焼方式により発生する燃
焼排ガスの浄化方法であって、特定の触媒を用いること
により該燃焼排ガス中に含有される窒素酸化物を広い反
応温度域にわたり極めて高い選択率で効率よく還元・浄
化することができると共に該燃焼排ガス中に含まれる低
級炭化水素ならびに必要に応じて燃焼排ガスに新たに添
加される低級炭化水素を同時に効率よく浄化することが
できる前記浄化方法および該方法に用いられる触媒を提
供することを目的としている。
焼排ガスの浄化方法であって、特定の触媒を用いること
により該燃焼排ガス中に含有される窒素酸化物を広い反
応温度域にわたり極めて高い選択率で効率よく還元・浄
化することができると共に該燃焼排ガス中に含まれる低
級炭化水素ならびに必要に応じて燃焼排ガスに新たに添
加される低級炭化水素を同時に効率よく浄化することが
できる前記浄化方法および該方法に用いられる触媒を提
供することを目的としている。
【０００８】
【問題点を解決するための手段】本発明は、希薄燃焼方
式により発生する燃焼排ガスであって、多量の酸素なら
びに少量の低級炭化水素および窒素酸化物よりなる該燃
焼排ガスを、Ｎａ−ＺＳＭ−５型ゼオライトをアンモニ
アイオン交換してＮＨ4 −ＺＳＭ−５型ゼオライトと
し、次いで焼成してＨ−ＺＳＭ−５型ゼオライトとし、
次いでＰｄ（ＮＯ3）2 または〔Ｐｄ（ＮＨ3 ）4 〕Ｃ
ｌ2 の水溶液中でイオン交換してＨ−ＺＳＭ−５型ゼオ
ライト担体にパラジウムを担持してなる触媒の存在下
に、接触反応させることより、必要に応じて該燃焼排ガ
スに一定量の低級炭化水素を新たに添加し、該燃焼排ガ
ス中に含まれる低級炭化水素と必要に応じて新たに添加
される低級炭化水素の合計量が、該燃焼排ガス中に含ま
れる窒素酸化物を還元・浄化するに必要な量であること
を特徴とする燃焼排ガスの浄化方法；および該方法に用
いられる触媒を提供するものである。
式により発生する燃焼排ガスであって、多量の酸素なら
びに少量の低級炭化水素および窒素酸化物よりなる該燃
焼排ガスを、Ｎａ−ＺＳＭ−５型ゼオライトをアンモニ
アイオン交換してＮＨ4 −ＺＳＭ−５型ゼオライトと
し、次いで焼成してＨ−ＺＳＭ−５型ゼオライトとし、
次いでＰｄ（ＮＯ3）2 または〔Ｐｄ（ＮＨ3 ）4 〕Ｃ
ｌ2 の水溶液中でイオン交換してＨ−ＺＳＭ−５型ゼオ
ライト担体にパラジウムを担持してなる触媒の存在下
に、接触反応させることより、必要に応じて該燃焼排ガ
スに一定量の低級炭化水素を新たに添加し、該燃焼排ガ
ス中に含まれる低級炭化水素と必要に応じて新たに添加
される低級炭化水素の合計量が、該燃焼排ガス中に含ま
れる窒素酸化物を還元・浄化するに必要な量であること
を特徴とする燃焼排ガスの浄化方法；および該方法に用
いられる触媒を提供するものである。
【０００９】本発明において、希薄燃焼方式とは、都市
ガス、ＬＰガス、ガソリン、軽油、重油などの原料を、
空気過剰な条件下に燃焼させる燃焼方式を意味する。
ガス、ＬＰガス、ガソリン、軽油、重油などの原料を、
空気過剰な条件下に燃焼させる燃焼方式を意味する。
【００１０】本発明において、希薄燃焼方式により発生
する燃焼排ガスは、空気比１〜５程度の条件下の燃焼に
より発生し、主要成分として窒素、酸素、水蒸気、炭酸
ガスを含有し、少量成分として、原料燃料の種類により
変動するが、通常５０００ｐｐｍ以下の窒素酸化物、２
容量％以下のＣ1 〜Ｃ4 炭化水素および５０００ｐｐｍ
以下の一酸化炭素をそれぞれ含有する。
する燃焼排ガスは、空気比１〜５程度の条件下の燃焼に
より発生し、主要成分として窒素、酸素、水蒸気、炭酸
ガスを含有し、少量成分として、原料燃料の種類により
変動するが、通常５０００ｐｐｍ以下の窒素酸化物、２
容量％以下のＣ1 〜Ｃ4 炭化水素および５０００ｐｐｍ
以下の一酸化炭素をそれぞれ含有する。
【００１１】本発明方法に用いられる触媒は、Ｎａ−Ｚ
ＳＭ−５型ゼオライトをアンモニアイオン交換してＮＨ
4 −ＺＳＭ−５型ゼオライトとし、次いで焼成してＨ−
ＺＳＭ−５型ゼオライトとし、次いでＰｄ（ＮＯ3 ）2
または〔Ｐｄ（ＮＨ3 ）4 〕Ｃｌ2 の水溶液中でイオン
交換してＨ−ＺＳＭ−５型ゼオライト担体にパラジウム
を担持して得られる。
ＳＭ−５型ゼオライトをアンモニアイオン交換してＮＨ
4 −ＺＳＭ−５型ゼオライトとし、次いで焼成してＨ−
ＺＳＭ−５型ゼオライトとし、次いでＰｄ（ＮＯ3 ）2
または〔Ｐｄ（ＮＨ3 ）4 〕Ｃｌ2 の水溶液中でイオン
交換してＨ−ＺＳＭ−５型ゼオライト担体にパラジウム
を担持して得られる。
【００１２】本発明の触媒におけるパラジウムの担持量
は、通常０．１〜１０重量％、好ましくは０．５〜５重
量％の範囲にあり、該担持量が０．１重量％未満ではパ
ラジウムの担持効果が得られず、１０重量％をこえると
パラジウムの担持量の増加に見合った効果が得られな
い。
は、通常０．１〜１０重量％、好ましくは０．５〜５重
量％の範囲にあり、該担持量が０．１重量％未満ではパ
ラジウムの担持効果が得られず、１０重量％をこえると
パラジウムの担持量の増加に見合った効果が得られな
い。
【００１３】本発明方法における接触反応は、例えば固
定床流通式反応装置を用いて、反応温度３００〜６００
℃、好ましくは４００〜５００℃の条件下に行なわれ
る。
定床流通式反応装置を用いて、反応温度３００〜６００
℃、好ましくは４００〜５００℃の条件下に行なわれ
る。
【００１４】本発明方法における接触反応において、燃
焼排ガス中の存在する低級炭化水素は燃焼排ガス中に存
在する酸化窒素の還元反応に必要であって、その含有量
が不足する場合には、上記接触反応に際し新たにＣ1 〜
Ｃ4 低級炭化水素の少くとも１種を一定量添加する必要
があり、その添加量は通常０．５容量％以下の範囲にあ
る。
焼排ガス中の存在する低級炭化水素は燃焼排ガス中に存
在する酸化窒素の還元反応に必要であって、その含有量
が不足する場合には、上記接触反応に際し新たにＣ1 〜
Ｃ4 低級炭化水素の少くとも１種を一定量添加する必要
があり、その添加量は通常０．５容量％以下の範囲にあ
る。
【００１５】本発明方法における接触反応において、燃
焼排ガス中に含有される窒素酸化物は、３００〜６００
℃の広い反応温度域において、極めて高い選択率で効率
よく窒素に還元・浄化されると共に、燃焼排ガス中に含
有される低級炭化水素ならびに新たに添加される低級炭
化水素も効率よく浄化される。なお、燃焼排ガス中に微
量含有される一酸化炭素は、上記接触反応において、ほ
とんど二酸化炭素に変換されるだけで反応系に実質上影
響を及ぼすことはない。
焼排ガス中に含有される窒素酸化物は、３００〜６００
℃の広い反応温度域において、極めて高い選択率で効率
よく窒素に還元・浄化されると共に、燃焼排ガス中に含
有される低級炭化水素ならびに新たに添加される低級炭
化水素も効率よく浄化される。なお、燃焼排ガス中に微
量含有される一酸化炭素は、上記接触反応において、ほ
とんど二酸化炭素に変換されるだけで反応系に実質上影
響を及ぼすことはない。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、希薄燃焼方式により発
生する燃焼排ガスを浄化する方法であって、特定の触媒
を用いることにより該燃焼排ガス中に含有される窒素酸
化物を広い反応温度域にわたり極めて高い選択率で効率
よく還元・浄化することができると共に該燃焼排ガス中
に含まれる低級炭化水素ならびに必要に応じて燃焼排ガ
ス中に新たに添加される低級炭化水素を同時に効率よく
浄化することができる前記浄化方法および該方法に用い
られる触媒が提供される。
生する燃焼排ガスを浄化する方法であって、特定の触媒
を用いることにより該燃焼排ガス中に含有される窒素酸
化物を広い反応温度域にわたり極めて高い選択率で効率
よく還元・浄化することができると共に該燃焼排ガス中
に含まれる低級炭化水素ならびに必要に応じて燃焼排ガ
ス中に新たに添加される低級炭化水素を同時に効率よく
浄化することができる前記浄化方法および該方法に用い
られる触媒が提供される。
【００１７】
【実施例】以下、製造例、実施例および比較例により本
発明をさらに詳しく説明する。
発明をさらに詳しく説明する。
【００１８】 触媒１、比較触媒１および２の製造例（製造例１） ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 比２８．３のＮａ−ＺＳＭ−５
（比較触媒１）２０ｇを、０．１ｍｏｌ／ｌの酢酸ナト
リウム水溶液中に投入し室温で一昼夜撹拌、固液分離後
１１０℃で一晩乾燥した。このＮａ−ＺＳＭ−５を０．
１ｍｏｌ／ｌの硝酸アンモニウム水溶液１．５ｌ中に投
入し室温で一昼夜撹拌した。これを濾過により固液分離
した後、純水で洗浄した。得られた固体を１１０℃で一
晩乾燥処理を行ないＮＨ4 −ＺＳＭ−５とした。さら
に、このＮＨ4 −ＺＳＭ−５を空気中で５００℃、４時
間焼成しＨ−ＺＳＭ−５（比較触媒２）を得た。〔Ｐｄ
（ＮＨ3 ）4 〕Ｃｌ2 ・Ｈ2 Ｏ〔アルドリッヒ・ケミカ
ル・カンパニー・インコーポレーテッド社（Aldrich Ch
emical Company. Inc.）〕０．２６ｇを５００ｍｌの純
水で溶解し、得られたＨ−ＺＳＭ−５を１０ｇ投入し撹
拌しながら室温で一昼夜イオン交換を行なった。これを
濾過により固液分離後、純水で洗浄し１１０℃で一晩乾
燥した。これを３５．５〜６０メッシュに整粒して空気
中５００℃で２時間焼成しＨ−Ｐｄ−ＺＳＭ−５（触媒
１）を得た。
（比較触媒１）２０ｇを、０．１ｍｏｌ／ｌの酢酸ナト
リウム水溶液中に投入し室温で一昼夜撹拌、固液分離後
１１０℃で一晩乾燥した。このＮａ−ＺＳＭ−５を０．
１ｍｏｌ／ｌの硝酸アンモニウム水溶液１．５ｌ中に投
入し室温で一昼夜撹拌した。これを濾過により固液分離
した後、純水で洗浄した。得られた固体を１１０℃で一
晩乾燥処理を行ないＮＨ4 −ＺＳＭ−５とした。さら
に、このＮＨ4 −ＺＳＭ−５を空気中で５００℃、４時
間焼成しＨ−ＺＳＭ−５（比較触媒２）を得た。〔Ｐｄ
（ＮＨ3 ）4 〕Ｃｌ2 ・Ｈ2 Ｏ〔アルドリッヒ・ケミカ
ル・カンパニー・インコーポレーテッド社（Aldrich Ch
emical Company. Inc.）〕０．２６ｇを５００ｍｌの純
水で溶解し、得られたＨ−ＺＳＭ−５を１０ｇ投入し撹
拌しながら室温で一昼夜イオン交換を行なった。これを
濾過により固液分離後、純水で洗浄し１１０℃で一晩乾
燥した。これを３５．５〜６０メッシュに整粒して空気
中５００℃で２時間焼成しＨ−Ｐｄ−ＺＳＭ−５（触媒
１）を得た。
【００１９】触媒２の製造例（製造例２） 製造例１の触媒１の製造において、〔Ｐｄ（Ｎ
Ｈ3 ）4 〕Ｃｌ2 ・Ｈ2 Ｏの０．２６ｇに代えて、硝酸
パラジウム０．２６ｇを用いた以外、触媒１の製造例と
同様にしてＨ−Ｐｄ−ＺＳＭ−５触媒（触媒２）を得
た。
Ｈ3 ）4 〕Ｃｌ2 ・Ｈ2 Ｏの０．２６ｇに代えて、硝酸
パラジウム０．２６ｇを用いた以外、触媒１の製造例と
同様にしてＨ−Ｐｄ−ＺＳＭ−５触媒（触媒２）を得
た。
【００２０】比較触媒３の製造例（製造例３） 製造例１の触媒１の製造例における〔Ｐｄ（Ｎ
Ｈ3 ）4 〕Ｃｌ2 ・Ｈ2 Ｏの０．２６ｇに代えて、硝酸
銅０．２６ｇを用いた以外、触媒１の製造例と同様にし
てＣｕ−ＺＳＭ−５触媒（比較触媒３）を得た。
Ｈ3 ）4 〕Ｃｌ2 ・Ｈ2 Ｏの０．２６ｇに代えて、硝酸
銅０．２６ｇを用いた以外、触媒１の製造例と同様にし
てＣｕ−ＺＳＭ−５触媒（比較触媒３）を得た。
【００２１】比較触媒４の製造例（製造例４） 製造例１のＨ−ＺＳＭ−５触媒（比較触媒２）に代え
て、製造例１の比較触媒１に、触媒１の製造例と同様に
してパラジウムを担持してＮａ−Ｐｄ−ＺＳＭ−５触媒
（比較触媒４）を得た。
て、製造例１の比較触媒１に、触媒１の製造例と同様に
してパラジウムを担持してＮａ−Ｐｄ−ＺＳＭ−５触媒
（比較触媒４）を得た。
【００２２】比較触媒５の製造例（製造例５） 製造例１の触媒１の製造例における〔Ｐｄ（Ｎ
Ｈ3 ）4 〕Ｃｌ2 の０．２６ｇに代えて、塩化パラジウ
ム０．３５ｇを用いた以外、触媒１の製造例と同様にし
てＨ−Ｐｄ−ＺＳＭ−５触媒（比較触媒５）を得た。
Ｈ3 ）4 〕Ｃｌ2 の０．２６ｇに代えて、塩化パラジウ
ム０．３５ｇを用いた以外、触媒１の製造例と同様にし
てＨ−Ｐｄ−ＺＳＭ−５触媒（比較触媒５）を得た。
【００２３】実施例１ 常圧固定床流通式反応装置を用い、燃焼排ガスの１例と
して、一酸化窒素１０００ｐｐｍ、メタン２０００ｐｐ
ｍ、酸素２容量％および残りがヘリウムの混合ガスを、
前記触媒１の存在下、３００〜６００℃、Ｗ／Ｆ〔触媒
重量（ｇ）／処理ガス流量（ｃｍ3 ／ｓ）〕＝０．２ｇ
・ｓ・ｃｍ-3の条件下に接触反応させた。一酸化窒素の
窒素への転化率およびメタンの一酸化炭素および二酸化
炭素への転化率を表１に示す。
して、一酸化窒素１０００ｐｐｍ、メタン２０００ｐｐ
ｍ、酸素２容量％および残りがヘリウムの混合ガスを、
前記触媒１の存在下、３００〜６００℃、Ｗ／Ｆ〔触媒
重量（ｇ）／処理ガス流量（ｃｍ3 ／ｓ）〕＝０．２ｇ
・ｓ・ｃｍ-3の条件下に接触反応させた。一酸化窒素の
窒素への転化率およびメタンの一酸化炭素および二酸化
炭素への転化率を表１に示す。
【００２４】実施例２ 実施例１の触媒１に代えて触媒２を用いた以外、実施例
１と同様の実験を行なった。得られた結果を表１に示
す。
１と同様の実験を行なった。得られた結果を表１に示
す。
【００２５】実施例３ 実施例１のメタン２０００ｐｐｍに代えてプロピレン２
０００ｐｐｍを用いた以外、実施例１と同様の実験を行
なった。得られた結果を表１に示す。
０００ｐｐｍを用いた以外、実施例１と同様の実験を行
なった。得られた結果を表１に示す。
【００２６】比較例１〜５ 実施例１の触媒１に代えて表１に示す比較触媒を用いた
以外、実施例１と同様の実験を行なった。得られた結果
を表１に示す。
以外、実施例１と同様の実験を行なった。得られた結果
を表１に示す。
【００２７】
【表１】
Claims (5)
- 【請求項１】 希薄燃焼方式により発生する燃焼排ガス
であって、多量の酸素ならびに少量の低級炭化水素およ
び窒素酸化物よりなる該燃焼排ガスを、Ｎａ−ＺＳＭ−
５型ゼオライトをアンモニアイオン交換してＮＨ4 −Ｚ
ＳＭ−５型ゼオライトとし、次いで焼成してＨ−ＺＳＭ
−５型ゼオライトとし、次いでＰｄ（ＮＯ3 ）2 または
〔Ｐｄ（ＮＨ3 ）4 〕Ｃｌ2 の水溶液中でイオン交換し
てＨ−ＺＳＭ−５型ゼオライト担体にパラジウムを担持
してなる触媒の存在下に、接触反応させることより、必
要に応じて該燃焼排ガスに一定量の低級炭化水素を新た
に添加し、該燃焼排ガス中に含まれる低級炭化水素と必
要に応じて新たに添加される低級炭化水素の合計量が、
該燃焼排ガス中に含まれる窒素酸化物を還元・浄化する
に必要な量であることを特徴とする燃焼排ガスの浄化方
法。 - 【請求項２】 該低級炭化水素がＣ1 〜Ｃ4 低級炭化水
素である請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 該低級炭化水素がメタンである請求項１
記載の方法。 - 【請求項４】 該接触反応が３００〜６００℃の範囲で
行なわれる請求項１記載の方法。 - 【請求項５】 Ｎａ−ＺＳＭ−５型ゼオライトをアンモ
ニアイオン交換してＮＨ4 −ＺＳＭ−５型ゼオライトと
し、次いで焼成してＨ−ＺＳＭ−５型ゼオライトとし、
次いでＰｄ（ＮＯ3 ）2 または〔Ｐｄ（ＮＨ3 ）4 〕Ｃ
ｌ2 の水溶液中でイオン交換してＨ−ＺＳＭ−５型ゼオ
ライト担体にパラジウムを担持してなる請求項１〜４の
何れかの方法に用いられる触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5067394A JPH06254352A (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | 燃焼排ガスの浄化方法および該方法に用いられる触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5067394A JPH06254352A (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | 燃焼排ガスの浄化方法および該方法に用いられる触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06254352A true JPH06254352A (ja) | 1994-09-13 |
Family
ID=13343717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5067394A Pending JPH06254352A (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | 燃焼排ガスの浄化方法および該方法に用いられる触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06254352A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5811067A (en) * | 1993-06-30 | 1998-09-22 | Gaz De France | Catalytic method for selectively reducing nitrogen oxides |
| KR100343550B1 (ko) * | 1999-11-26 | 2002-07-20 | 한국화학연구원 | 희박농도의 메탄 산화촉매 및 그 제조방법 |
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1993
- 1993-03-04 JP JP5067394A patent/JPH06254352A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5811067A (en) * | 1993-06-30 | 1998-09-22 | Gaz De France | Catalytic method for selectively reducing nitrogen oxides |
| KR100343550B1 (ko) * | 1999-11-26 | 2002-07-20 | 한국화학연구원 | 희박농도의 메탄 산화촉매 및 그 제조방법 |
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