JPH06252421A - Integrated semiconductor pressure sensor - Google Patents

Integrated semiconductor pressure sensor

Info

Publication number
JPH06252421A
JPH06252421A JP3910293A JP3910293A JPH06252421A JP H06252421 A JPH06252421 A JP H06252421A JP 3910293 A JP3910293 A JP 3910293A JP 3910293 A JP3910293 A JP 3910293A JP H06252421 A JPH06252421 A JP H06252421A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure sensor
chip
semiconductor pressure
thin film
integrated semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3910293A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tadashi Adachi
正 足立
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujikura Ltd filed Critical Fujikura Ltd
Priority to JP3910293A priority Critical patent/JPH06252421A/en
Publication of JPH06252421A publication Critical patent/JPH06252421A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measurement Of Force In General (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the title pressure sensor of small type, which can be housed in a package, having high yield of production, and the deterioration of characteristics when it is manufactured. CONSTITUTION:The title integrated semiconductor pressure sensor is composed of a semiconductor pressure sensor chip 21, a thin film resistance chip 22, and a semiconductor chip 23 where the semiconductor pressure sensor chip 21 and the thin film resistance chip 22 are mounted and the signal outputted from the semiconductor pressure sensor chip 21 is treated.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、計測器、自動車、航
空機、医療機器、家電製品等、各種分野において幅広く
用いられている圧力センサに関し、特に、圧力センサ、
その周辺回路、及び薄膜抵抗が集積化された集積化半導
体圧力センサに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pressure sensor which is widely used in various fields such as measuring instruments, automobiles, aircraft, medical equipment, home appliances, and more particularly, a pressure sensor,
The present invention relates to an integrated semiconductor pressure sensor in which peripheral circuits and thin film resistors are integrated.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、産業用計測器、自動車、航空機、
血圧計等の医療機器、クリーナ等の家電製品等の分野に
おいて幅広く用いられている圧力センサに、ハイブリッ
ド化された圧力センサモジュールがある。図3は従来の
圧力センサモジュールの一例を示す構成図であり、この
図において、1はセラミック等から構成され1層または
多層の配線パターン2が形成された厚膜回路基板、3は
厚膜回路基板1上に搭載され接着剤等で固定されたモノ
リシックIC、4は圧力検出部を構成する半導体ペレッ
トがパッケージ内に封入された半導体圧力センサ、5は
厚膜回路基板1上に搭載され接着剤等で固定されたコン
デンサ、抵抗素子、インダクタ等のチップ部品、6は厚
膜回路基板1上に印刷により形成された厚膜抵抗であ
る。モノリシックIC3は各リードピンが配線パターン
2と電気的に接続され、半導体圧力センサ4はパッケー
ジ外へ延出したリードピンやバンプ等が配線パターン2
と電気的に接続され、チップ部品5は各端子が配線パタ
ーン2と電気的に接続されている。この様な圧力センサ
モジュールにおいては、厚膜抵抗6をレーザ等を用いて
トリミングすることにより、回路特性を調整している。
2. Description of the Related Art Conventionally, industrial measuring instruments, automobiles, aircraft,
A pressure sensor module that is hybridized is a pressure sensor that is widely used in the fields of medical equipment such as a sphygmomanometer and home appliances such as a cleaner. FIG. 3 is a block diagram showing an example of a conventional pressure sensor module. In this figure, 1 is a thick film circuit board on which a wiring pattern 2 of one layer or multiple layers made of ceramic or the like is formed, and 3 is a thick film circuit. A monolithic IC mounted on the substrate 1 and fixed with an adhesive or the like, 4 is a semiconductor pressure sensor in which a semiconductor pellet constituting a pressure detecting portion is enclosed in a package, and 5 is an adhesive mounted on the thick film circuit board 1. Chip components such as capacitors, resistance elements, inductors, etc., fixed by means of the like, and a thick film resistor 6 formed by printing on the thick film circuit board 1. In the monolithic IC 3, each lead pin is electrically connected to the wiring pattern 2, and in the semiconductor pressure sensor 4, the lead pin, the bump or the like extending out of the package is the wiring pattern 2.
, And each terminal of the chip component 5 is electrically connected to the wiring pattern 2. In such a pressure sensor module, the circuit characteristics are adjusted by trimming the thick film resistor 6 using a laser or the like.

【0003】また、近年では、特に、自動車等の電子化
に対応でき、プリント基板上に実装可能なセンサとし
て、集積化された半導体圧力センサも提供されている。
図4は従来の集積化半導体圧力センサの一例を示す構成
図、図5は図4の拡大構造断面図であり、この図におい
て、7は図3に示す半導体圧力センサ4内の圧力検出部
を構成する半導体ペレットに相当する圧力センサ部、8
は図3に示すモノリシックIC3及びチップ部品5等か
らなる周辺回路と同様の機能を有する信号処理用のバイ
ポーラリニアIC部、9は薄膜抵抗、10は前記圧力セ
ンサ部7、バイポーラリニアIC部8、薄膜抵抗9が集
積化されたp型シリコン基板である。また、圧力センサ
部7において、11はp型シリコン基板10を薄肉化し
たダイアフラムである。この様な集積化半導体圧力セン
サにおいては、薄膜抵抗9をレーザ等を用いてトリミン
グすることにより、回路特性を調整している。
Further, in recent years, in particular, an integrated semiconductor pressure sensor has been provided as a sensor which can be adapted to the computerization of automobiles and the like and can be mounted on a printed circuit board.
FIG. 4 is a block diagram showing an example of a conventional integrated semiconductor pressure sensor, and FIG. 5 is an enlarged structural cross-sectional view of FIG. 4. In this figure, 7 is a pressure detecting portion in the semiconductor pressure sensor 4 shown in FIG. A pressure sensor portion corresponding to the constituting semiconductor pellet, 8
Is a bipolar linear IC section for signal processing having the same function as the peripheral circuit composed of the monolithic IC 3 and the chip component 5 shown in FIG. 3, 9 is a thin film resistor, 10 is the pressure sensor section 7, bipolar linear IC section 8, It is a p-type silicon substrate in which the thin film resistor 9 is integrated. Further, in the pressure sensor unit 7, 11 is a diaphragm obtained by thinning the p-type silicon substrate 10. In such an integrated semiconductor pressure sensor, the circuit characteristics are adjusted by trimming the thin film resistor 9 using a laser or the like.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図3に示す
従来の圧力センサモジュールにおいては、厚膜回路基板
1上にモノリシックIC3、半導体圧力センサ4、チッ
プ部品5等の様々な形状やサイズの部品を搭載している
ので、圧力センサモジュール全体を小型化するには限界
があった。また、この圧力センサモジュールをパッケー
ジ化する場合においては、全体が大型かつ特殊な形状と
なってしまい、また、1つのパッケージに収めることは
困難である。
By the way, in the conventional pressure sensor module shown in FIG. 3, components of various shapes and sizes such as a monolithic IC 3, a semiconductor pressure sensor 4, and a chip component 5 are provided on the thick film circuit board 1. However, there is a limit to downsizing the entire pressure sensor module. Moreover, when this pressure sensor module is packaged, it becomes large and has a special shape as a whole, and it is difficult to fit it in one package.

【0005】また、図4及び図5に示す従来の集積化半
導体圧力センサにおいては、圧力センサ部7と、バイポ
ーラリニアIC部8と、薄膜抵抗9とを同一のp型シリ
コン基板10上に集積化して形成しているので、この集
積化半導体圧力センサ全体の製品としての歩留まりは、
上記の圧力センサモジュールより低下するという問題が
あった。集積化半導体圧力センサ全体の製品としての歩
留まりをAR、圧力センサ部7の歩留まりをSR、バイ
ポーラリニアIC部8と薄膜抵抗9とを合わせた歩留ま
りをIRとすると、集積化半導体圧力センサ全体の製品
としての歩留まりARは、以下に示す式により表わすこ
とができる。 AR=SR×IR ‥‥(1) 圧力センサ部7は、特性のバラツキが大きく温度特性も
悪いために、その歩留まりSRが低く、したがって、集
積化半導体圧力センサ全体の製品としての歩留まりAR
が低下してしまうこととなる。
Further, in the conventional integrated semiconductor pressure sensor shown in FIGS. 4 and 5, the pressure sensor portion 7, the bipolar linear IC portion 8 and the thin film resistor 9 are integrated on the same p-type silicon substrate 10. The integrated semiconductor pressure sensor yields as a product
There is a problem that the pressure is lower than that of the pressure sensor module. Assuming that the yield of the integrated semiconductor pressure sensor as a whole is AR, the yield of the pressure sensor unit 7 is SR, and the yield of the bipolar linear IC unit 8 and the thin film resistor 9 is IR, the entire integrated semiconductor pressure sensor product. The yield AR as can be expressed by the following equation. AR = SR × IR (1) The pressure sensor section 7 has a low yield SR because of large variations in characteristics and poor temperature characteristics. Therefore, the yield AR of the integrated semiconductor pressure sensor as a whole is a product.
Will be reduced.

【0006】さらに、圧力センサ部7のダイアフラム1
1は、p型シリコン基板10をアルカリ溶液によりエッ
チングして形成するために、アルカリイオンによる汚染
等により、バイポーラリニアIC部8や薄膜抵抗9の特
性が劣化してしまう虞があるという問題があった。ま
た、レーザ等を用いて薄膜抵抗9をトリミングしている
ので、回路特性を調整し直す必要がある場合や回路特性
を変更したい場合に、再度調整し直すことができないと
いう問題があった。
Further, the diaphragm 1 of the pressure sensor unit 7
In No. 1, since the p-type silicon substrate 10 is formed by etching with an alkaline solution, there is a problem that the characteristics of the bipolar linear IC portion 8 and the thin film resistor 9 may be deteriorated due to contamination by alkaline ions or the like. It was Further, since the thin film resistor 9 is trimmed by using a laser or the like, there is a problem that the circuit cannot be readjusted when it is necessary to readjust the circuit characteristics or when it is desired to change the circuit characteristics.

【0007】この発明は、上記の事情に鑑みてなされた
ものであって、小型化及び1つのパッケージ内に収納す
ることが可能であり、しかも、歩留まりが高く、また、
製造時における特性の劣化を防止することができる集積
化半導体圧力センサを提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and can be miniaturized and accommodated in one package, and the yield is high, and
An object of the present invention is to provide an integrated semiconductor pressure sensor capable of preventing deterioration of characteristics during manufacturing.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、この発明は次の様な集積化半導体圧力センサを採用
した。すなわち、半導体圧力センサチップと、薄膜抵抗
チップと、前記半導体圧力センサチップ及び薄膜抵抗チ
ップが搭載され、該半導体圧力センサチップから出力さ
れる信号を処理する半導体チップとを具備することを特
徴としている。
In order to solve the above problems, the present invention adopts the following integrated semiconductor pressure sensor. That is, it is characterized by including a semiconductor pressure sensor chip, a thin film resistance chip, and a semiconductor chip on which the semiconductor pressure sensor chip and the thin film resistance chip are mounted and which processes a signal output from the semiconductor pressure sensor chip. .

【0009】[0009]

【作用】この発明の集積化半導体圧力センサは、半導体
圧力センサチップと、薄膜抵抗チップと、半導体チップ
とを具備することにより、小型化が可能となり、1つの
パッケージ内に収納することも可能となる。さらに、歩
留まりが高く、しかも、製造時における特性の劣化を防
止することが可能となる。
The integrated semiconductor pressure sensor of the present invention comprises a semiconductor pressure sensor chip, a thin film resistance chip, and a semiconductor chip, so that the integrated semiconductor pressure sensor can be miniaturized and can be housed in one package. Become. Further, the yield is high, and it is possible to prevent the deterioration of the characteristics during manufacturing.

【0010】[0010]

【実施例】以下、図面を参照して、この発明の一実施例
について説明する。図1はこの発明の一実施例の集積化
半導体圧力センサの構成を示す斜視図である。この図に
おいて、図4及び図5と同一の構成要素には同一の符号
を付し、説明を省略する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing the structure of an integrated semiconductor pressure sensor according to an embodiment of the present invention. In this figure, the same components as those in FIGS. 4 and 5 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0011】図1に示す集積化半導体圧力センサが図4
及び図5に示す従来の集積化半導体圧力センサと異なる
点は、圧力センサ部7に代えて別個に作製された半導体
圧力センサチップ21が、また、薄膜抵抗9に代えて別
個に作製された薄膜抵抗チップ22がそれぞれp型シリ
コン基板10上に搭載されている点である。すなわち、
バイポーラリニアIC部8は、図4及び図5に示す従来
の集積化半導体圧力センサと同様の製造工程でp型シリ
コン基板10上に集積化されて形成されており、一方、
半導体圧力センサチップ21及び薄膜抵抗チップ22
は、単独で別に作製されている。
The integrated semiconductor pressure sensor shown in FIG. 1 is shown in FIG.
5 is different from the conventional integrated semiconductor pressure sensor shown in FIG. 5 in that the semiconductor pressure sensor chip 21 manufactured separately in place of the pressure sensor unit 7 is a thin film manufactured in place of the thin film resistor 9. The resistance chips 22 are mounted on the p-type silicon substrate 10, respectively. That is,
The bipolar linear IC section 8 is integrated and formed on the p-type silicon substrate 10 in the same manufacturing process as the conventional integrated semiconductor pressure sensor shown in FIGS. 4 and 5, while
Semiconductor pressure sensor chip 21 and thin film resistance chip 22
Are separately made separately.

【0012】そして、バイポーラリニアIC部8とp型
シリコン基板10とは一体化されてバイポーラICチッ
プ(半導体チップ)23とされ、該バイポーラICチッ
プ23と、半導体圧力センサチップ21、薄膜抵抗チッ
プ22各々とは、例えば、Au−Si共晶半田により接
合されている。また、半導体圧力センサチップ21とバ
イポーラICチップ23、薄膜抵抗チップ22とバイポ
ーラICチップ23各々の間の電気的な接続は、それぞ
れに形成されたボンディングパッド24とボンディング
パッド25とに、アルミニウムまたは金からなるワイヤ
26をボンディングすることによりなされている。
The bipolar linear IC section 8 and the p-type silicon substrate 10 are integrated into a bipolar IC chip (semiconductor chip) 23. The bipolar IC chip 23, the semiconductor pressure sensor chip 21, and the thin film resistance chip 22. For example, they are joined by Au-Si eutectic solder. Further, the semiconductor pressure sensor chip 21 and the bipolar IC chip 23, and the thin film resistance chip 22 and the bipolar IC chip 23 are electrically connected to the bonding pad 24 and the bonding pad 25 respectively formed by aluminum or gold. It is made by bonding a wire 26 made of

【0013】ここで、図2は、図1に示す集積化半導体
圧力センサをモジュール化した構成を示す断面図であ
る。この図において、図1の各部に対応する構成要素に
は同一の符号を付し、説明を省略する。図2において、
31はバイポーラICチップ23が搭載され固定された
基台、32はバイポーラICチップ23と、半導体圧力
センサチップ21、薄膜抵抗チップ22各々とを接合す
るAu−Si共晶半田、33は基台31を貫通して外部
に延出したリードピン、34は基台31上に構成された
集積化半導体圧力センサを封入してモジュール化する金
属キャンである。リードピン33は、ガラスハーメチッ
ク35によりシールされるとともに、バイポーラICチ
ップ23上に形成されたボンディングパッド36(図1
参照)とワイヤ37により電気的に接続されている。
Here, FIG. 2 is a sectional view showing a modularized structure of the integrated semiconductor pressure sensor shown in FIG. In this figure, the same reference numerals are given to the constituent elements corresponding to the respective portions of FIG. 1, and the description thereof will be omitted. In FIG.
Reference numeral 31 is a base on which the bipolar IC chip 23 is mounted and fixed, 32 is an Au-Si eutectic solder that joins the bipolar IC chip 23 to each of the semiconductor pressure sensor chip 21 and the thin film resistance chip 22, and 33 is a base 31. A lead pin that penetrates through and extends to the outside, and a metal can 34 that encapsulates the integrated semiconductor pressure sensor formed on the base 31 to form a module. The lead pin 33 is sealed by a glass hermetic 35 and a bonding pad 36 formed on the bipolar IC chip 23 (see FIG. 1).
(Refer to FIG. 2) and the wire 37.

【0014】以上説明した様に、上記実施例の集積化半
導体圧力センサによれば、半導体圧力センサチップ21
と、薄膜抵抗チップ22と、バイポーラICチップ23
とから構成したので、従来の集積化半導体圧力センサと
同等のレベルで小型化することができ、1つのパッケー
ジ内に収納することができる。
As described above, according to the integrated semiconductor pressure sensor of the above embodiment, the semiconductor pressure sensor chip 21 is used.
, Thin film resistor chip 22, and bipolar IC chip 23
Since it is composed of and, it can be miniaturized at the same level as the conventional integrated semiconductor pressure sensor, and can be housed in one package.

【0015】また、半導体圧力センサチップ21と、薄
膜抵抗チップ22と、バイポーラICチップ23とを全
く別個に作製し、これらを一体化すればよいので、モジ
ュール化する以前の各部品の歩留まりは、半導体圧力セ
ンサチップ21が100%、薄膜抵抗チップ22が10
0%、バイポーラICチップ23が100%であり、モ
ジュール化後の歩留まりも、従来に比べて大幅に向上す
る。
Further, since the semiconductor pressure sensor chip 21, the thin film resistance chip 22 and the bipolar IC chip 23 may be manufactured completely separately and integrated with each other, the yield of each component before modularization is The semiconductor pressure sensor chip 21 is 100% and the thin film resistance chip 22 is 10%.
The yield is 0% and the bipolar IC chip 23 is 100%, and the yield after modularization is significantly improved as compared with the conventional one.

【0016】さらに、薄膜抵抗チップ22及びバイポー
ラICチップ23は、半導体圧力センサチップ21のダ
イアフラム作製時におけるアルカリ溶液によるエッチン
グの影響を受けることがないので、製造時における特性
の劣化を防止することができる。また、薄膜抵抗チップ
22を交換することにより、再度調整をやり直すことが
でき、調整歩留まりを向上させることができる。
Further, since the thin film resistance chip 22 and the bipolar IC chip 23 are not affected by the etching of the semiconductor pressure sensor chip 21 by the alkaline solution when the diaphragm is manufactured, the deterioration of the characteristics at the time of manufacturing can be prevented. it can. Further, by exchanging the thin film resistance chip 22, the adjustment can be redone and the adjustment yield can be improved.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上説明した様に、この発明の集積化半
導体圧力センサによれば、半導体圧力センサチップと、
薄膜抵抗チップと、前記半導体圧力センサチップ及び薄
膜抵抗チップが搭載され、該半導体圧力センサチップか
ら出力される信号を処理する半導体チップとを具備する
こととしたので、小型化することができ、かつ、1つの
パッケージ内に収納することができ、モジュール化後の
歩留まりも従来に比べて大幅に向上するという効果があ
る。また、製品としての歩留まりが高く、しかも、製造
時における特性の劣化を防止することができるという効
果がある。また、薄膜抵抗チップを交換することによ
り、再度調整をやり直すことができ、調整歩留まりを向
上させることができる。
As described above, according to the integrated semiconductor pressure sensor of the present invention, a semiconductor pressure sensor chip,
Since the semiconductor thin film resistor chip and the semiconductor pressure sensor chip and the thin film resistor chip are mounted and the semiconductor chip for processing the signal output from the semiconductor pressure sensor chip is provided, it is possible to reduce the size, and It can be housed in one package, and the yield after modularization is significantly improved as compared with the conventional one. Further, there is an effect that the yield as a product is high, and further, the deterioration of the characteristics at the time of manufacturing can be prevented. Further, by exchanging the thin-film resistance chip, the adjustment can be redone and the adjustment yield can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の一実施例による集積化半導体圧力セ
ンサの構成を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of an integrated semiconductor pressure sensor according to an embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の一実施例による集積化半導体圧力セ
ンサをモジュール化した構成を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a modularized configuration of an integrated semiconductor pressure sensor according to an embodiment of the present invention.

【図3】 従来の圧力センサモジュールの構成を示す斜
視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a configuration of a conventional pressure sensor module.

【図4】 従来の集積化半導体圧力センサの構成を示す
斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing a configuration of a conventional integrated semiconductor pressure sensor.

【図5】 図4の拡大構造断面図である。5 is an enlarged structural sectional view of FIG. 4. FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

8……バイポーラリニアIC部、10……p型シリコン
基板、21……半導体圧力センサチップ、22……薄膜
抵抗チップ、23……バイポーラICチップ(半導体チ
ップ)、24……ボンディングパッド、25……ボンデ
ィングパッド、26……ワイヤ、31……基台、32…
…Au−Si共晶半田、33……リードピン、34……
金属キャン、35……ガラスハーメチック、36……ボ
ンディングパッド、37……ワイヤ。
8 ... Bipolar linear IC part, 10 ... P-type silicon substrate, 21 ... Semiconductor pressure sensor chip, 22 ... Thin film resistance chip, 23 ... Bipolar IC chip (semiconductor chip), 24 ... Bonding pad, 25 ... ... Bonding pad, 26 ... Wire, 31 ... Base, 32 ...
... Au-Si eutectic solder, 33 ... Lead pin, 34 ...
Metal can, 35 ... Glass hermetic, 36 ... Bonding pad, 37 ... Wire.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体圧力センサチップと、 薄膜抵抗チップと、 前記半導体圧力センサチップ及び薄膜抵抗チップが搭載
され、該半導体圧力センサチップから出力される信号を
処理する半導体チップとを具備することを特徴とする集
積化半導体圧力センサ。
1. A semiconductor pressure sensor chip, a thin film resistance chip, and a semiconductor chip on which the semiconductor pressure sensor chip and the thin film resistance chip are mounted and which processes a signal output from the semiconductor pressure sensor chip. Characterized integrated semiconductor pressure sensor.
JP3910293A 1993-02-26 1993-02-26 Integrated semiconductor pressure sensor Pending JPH06252421A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3910293A JPH06252421A (en) 1993-02-26 1993-02-26 Integrated semiconductor pressure sensor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3910293A JPH06252421A (en) 1993-02-26 1993-02-26 Integrated semiconductor pressure sensor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06252421A true JPH06252421A (en) 1994-09-09

Family

ID=12543713

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3910293A Pending JPH06252421A (en) 1993-02-26 1993-02-26 Integrated semiconductor pressure sensor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06252421A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5859759A (en) * 1996-10-02 1999-01-12 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor pressure sensor module

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5859759A (en) * 1996-10-02 1999-01-12 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor pressure sensor module

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6486535B2 (en) Electronic package with surface-mountable device built therein
US7741710B2 (en) Module with multiple power amplifiers and power sensors
JP2009510759A (en) Fine pitch wiring in lead frame based system-in-package devices
JPH09252014A (en) Manufacturing method of semiconductor element
JPS61117858A (en) Semiconductor device
Badihi Ultrathin wafer level chip size package
US10192842B2 (en) Package for environmental parameter sensors and method for manufacturing a package for environmental parameter sensors
JPH06252421A (en) Integrated semiconductor pressure sensor
JPH02201949A (en) Package of semiconductor device
US11587899B2 (en) Multi-layer semiconductor package with stacked passive components
JPH10321791A (en) Operational amplifier
JP2541532B2 (en) Semiconductor module
JPH06207870A (en) Semiconductor pressure sensor
US20070200213A1 (en) Integrated circuit chip and package
KR100207902B1 (en) Multi chip package using lead frame
JPH06151892A (en) Integrated semiconductor pressure sensor
JP3210503B2 (en) Multi-chip module and manufacturing method thereof
JP2913858B2 (en) Hybrid integrated circuit
JPS5989447A (en) Semiconductor device
KR200148753Y1 (en) Semiconductor package
JP2912813B2 (en) Electronic components
JPH07249729A (en) Electronic device
JPS62152134A (en) Semiconductor device with internal matching circuit
JPH03196558A (en) Integrated circuit device
WO2001045476A1 (en) A module including one or more chips