JPH0625198A - アミノチアゾリルグルタル酸誘導体 - Google Patents

アミノチアゾリルグルタル酸誘導体

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JPH0625198A
JPH0625198A JP5055092A JP5509293A JPH0625198A JP H0625198 A JPH0625198 A JP H0625198A JP 5055092 A JP5055092 A JP 5055092A JP 5509293 A JP5509293 A JP 5509293A JP H0625198 A JPH0625198 A JP H0625198A
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malonic acid
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宏 松村
Toshisada Yano
利定 矢野
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    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 ペニシリン、セフアロスポリンのアミド側鎖
など、抗生物質の合成原料などとして有用な、1−(2
−保護アミノ−4−チアゾリル)プロペン−1,3−ジ
カルボン酸半エステルの効率的製造法に必須の中間体を
提供する。 【構成】 一般式(I)で表わされる2−(2−アミノ
−4−チアゾリル)−2−(水素または−CH=CR4
COOR置換)マロン酸エステルおよびそのN−保護
体。 〔式中Rは同一または相異なるエステル形成基;R1
2は水素またはアミノ保護基;R3は水素または−CH
=CR4−COOR基;R4は水素または−COORを;
それぞれ示す〕

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】この発明はアミノチアゾリルグルタル酸誘
導体の新規製法において、ハロアセチルマロン酸エステ
ル(I)にチオ尿素を作用させて製造する2−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)マロン酸エステル(II)とそのア
ミノ基を保護体である2−(2−保護アミノ−4−チア
ゾリル)マロン酸エステル(III)およびこれにハロア
ルケン酸エステルを作用させて製造する1−(2−保護
アミノ−4−チアゾリル)−2−プロペン−(1,1,
3−トリまたは1,1,3,3−テトラ)カルボン酸エ
ステル(IV)とに関する。
【0002】
【化2】 (式中、Halはハロゲン、Rは、同一または相異なる
エステル形成基、R1、R2は、水素またはアミノ保護
基、R4は、水素またはCOOR基を、それぞれ示す)
【0003】この化合物(IV)は、加水分解と脱炭酸に
よって1−(2−保護アミノ−4−チアゾリル)プロペ
ン−1,3−ジカルボン酸(V)を得、これに半エステル
化剤とアルコ−ルとを作用させて1−(2−保護アミノ
−4−チアゾリル)プロペン−1,3−ジカルボン酸半
エステル(VI)を製造できる。化合物(VI)はペニシリ
ン、セフアロスポリンのアミド側鎖またはアリ−ルグリ
シン系ペニシリン、セフアロスポリンのアミノ修飾剤と
して、優れた抗生物質の合成原料として有用である。
【0004】前記式(I)〜(VI)において、Rで示され
るエステル形成基としては、低級アルキルまたはアルケ
ニル;ハロゲン、アルコキシ、スルホニルなどで置換さ
れた低級アルキルまたはアルケニル;ベンジル;アルキ
ル、アルコキシ、ニトロ、フエニルなどで置換されてい
るベンジル;その他のベ−タラクタム化学で用いられて
いるエステル形成基を採用できる。
【0005】R1,R2で表わされるアミノ保護基として
は、低級アルカノイル;ハロ低級アルカノイル;アルキ
ル炭酸アシル;アラルキル炭酸アシル;ポリアリ−ルメ
チル;エナミン形成基;トリアルキルシリル;その他の
ベ−タ−ラクタム化学で用いられているアミノ保護基を
採用できる。
【0006】この発明によれば、目的とする1−(2−
アミノ−4−チアゾリル)プロペン−1,3,−ジカル
ボン酸半エステル(IV)は前記反応式に従って合成され
る。以下に、各工程を順次説明する。化合物(II)、
(III)、(IV)、(V)、(VI)はいずれも文献未記載
の新規化合物である。
【0007】工程 チアゾ−ル閉環反応 2−ハロアセチルマロン酸エステル(I)に極性有機溶媒
中、チオ尿素1〜5当量を作用させれば2−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)マロン酸エステル(II)を好収率
で製造できる。この反応は室温でも十分に進行し、1〜
15時間で終了する。生成物は塩酸塩であるが、中和に
よって遊離アミンとすることができる。
【0008】工程 N−保護化反応 化合物(II)のアミノ基を常法により保護すれば対応す
る化合物(III)を得る。 たとえば、保護にはアシル
化には対応する酸のハライドまたは無水物をピリジンな
ど塩基の存在下に作用させる方法を、トリチル化には対
応するハライドを脱ハロゲン化水素剤の存在下に作用さ
せる方法を、エナミノ化には対応するカルボニル化合物
を酸の存在下に作用させる。
【0009】工程 縮合反応 化合物(III)を非プロトン性有機溶媒(エ−テル系有
機溶媒など)中、アルカリ金属系強塩基1〜5当量と反
応させてソジオ化合物とし、好ましくはハロアルケン酸
エステル1〜3当量を室温で30分ないし12時間反応
させればトリまたはテトラカルボン酸エステル(IV)が
生成する。ここに、強塩基としては、水素化アルカリ金
属、アルカリ金属低級アルコキシド、水酸化アルカリ金
属などを利用できる。なお、アルカリ金属としてはリチ
ウム、ナトリウム、カリウムがよい。ハロアルケン酸に
おけるハロゲンとしては、塩素、臭素がよい。
【0010】工程 加水分解、脱炭酸反応 化合物(IV)はエステル基を脱離してカルボキシ基とす
れば常温でもgem位のカルボキシ基が一つ脱炭酸反応
を起してジカルボン酸(V)を生成する。ここにエステル
基の脱離方法としては、次のような公知方法を採用する
こともできる。
【0011】1) アルキルエステルは苛性アルカリ等強
塩基の存在下に加水分解すれば遊離カルボン酸となる。
【0012】2) 反応性の高いエステル基は酸、塩基、
緩衝液、イオン交換樹脂などと水性溶液中で接触させれ
ば脱保護できる。反応性が低いときにも、公知の方法に
よって反応性を高めれば、容易に脱保護することができ
る場合もある。代表例には、たとえばトリクロルエチル
エステルに金属と酸、p−ニトロベンジルエステルに接
触還元やジチオン酸塩、フエナシルエステルに光照射な
どの活性化方法がある。
【0013】3) アラルキルエステルは白金、パラジウ
ム、ニツケルなど触媒の存在下に水素を常法により作用
させて接触還元すれば脱保護できる。 4) アラルキルエステル、シクロプロピルメチルエステ
ル、スルホニルエチルエステルなどは加溶媒分解反応な
どによつて脱保護できる。この反応では鉱酸、ルイス酸
(塩化アルミニウム、塩化スズ、四塩化チタンなど)、
スルホン酸(メタンスルホン酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸など)、強酸性カルボン酸(トリフルオロ酢酸
など)などを、要すればカチオン捕捉剤の存在下に作用
させる。
【0014】5) フエナシルエステル、アルケニルエス
テル、ヒドロキシアラルキルエステルなどは、塩基や求
核剤などの作用で、また、光化学的活性なフエナシルエ
ステルなどは光照射により脱保護できる。 6) 2−アルケニルエステルにアルカン酸アルカリ金属
とパラジウム−トリフエニルホスフインを作用させれば
アルカリ金属塩を製造できる。
【0015】7) その他、均等なカルボキシ保護基脱離
法を用いることができる。 このような反応中または後処理中に中性または酸性条件
下に脱炭酸反応が起き、常法による後処理を行なえば、
目的とするジカルボン酸を得る。
【0016】工程 半エステル化反応 ジカルボン酸(V)は通常のエステル化条件ではジエステ
ルとなるが、半エステル化剤を作用させれば半エステル
(VI)を好収率で生ずる。例えばジカルボン酸(V)を非
プロトン性不活性溶媒にとかし、エステル化すべきアル
コ−ルと半エステル化触媒として鉱酸、ルイス酸(ハロ
ゲン化燐、ハロゲン化チオニル、ハロゲン化シリル、ハ
ロゲン化スズ、ハロゲン化チタンなど)、スルホン酸
(メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トリフルオロ
メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスル
ホン酸など)、脱水剤(五酸化燐など)などを加え、好
ましくは塩基不在下に0〜80℃、とくに10〜40℃で
1〜100時間反応させればエステル化は3位カルボキ
シ基にのみ起り、好収率で半エステルを製造できる。
【0017】前記各合成反応は通常−70〜100℃、
とくに−20〜50℃の温度で10分間〜10時間かけ
て実施することが多い。これらは溶媒中、要すれば無水
条件下に実施する。その他の常法は、いずれも適用でき
る。反応用溶媒としては、炭化水素(ペンタン、ヘキサ
ン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、な
ど)、ハロゲン化炭化水素(ジクロロメタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタ
ン、クロロベンゼンなど)、エ−テル(ジエチルエ−テ
ル、メチルイソブチルエ−テル、アニソ−ル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなど)、ケトン(アセトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノンなど)、エステル
(酢酸エチル、酢酸イソブチル、安息香酸メチルな
ど)、ニトロ炭化水素(ニトロメタン、ニトロベンゼン
など)、ニトリル(アセトニトリル、ベンゾニトリルな
ど)、アミド(ホルムアミド、アセトアミド、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホ
スホロトリアミドなど)、スルホキシド(ジメチルスル
ホキシドなど)、カルボン酸(ギ酸、酢酸、プロピオン
酸など)、有機塩基(ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、ピリジン、ピコリン、コリジン、キノリンなど)、
アルコ−ル(メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、
ヘキサノ−ル、オクタノ−ルベンジルアルコ−ルな
ど)、水、その他の系列に属する工業用溶媒またはその
混合物を例示できる。反応によつては過剰の試薬を溶媒
とすることもできる。
【0018】目的とする生成物は反応液から未反応原
料、副生成物、溶媒などの夾雑物を抽出、蒸発、洗浄、
濃縮、沈殿、濾過、乾燥などの常法により除去したの
ち、吸着、溶離、蒸留、沈殿、析出、クロマトグラフイ
−など、常用の後処理法を組合わせて処理すれば単離す
ることができる。
【実施例】以下に実施例を示して本発明の態様を説明す
る。
【0019】生成物の物理定数は、表にまとめて実施例
末尾に記載した。表中、IRはcm-1値を、NMRはδ値
を、J値は結合定数をHz値で示す。実施例中、量を表わ
す部は原料1重量部に対する重量を、モル当量数は原料
1モルに対するモル数を示す。実施例中の後処理には、
通常は反応液に、必要に応じて水、酸、ジクロロメタン
などの溶媒を加え、分液したのち、有機層を水洗、乾
燥、減圧濃縮して得られる残留物を、必要ならシリカゲ
ル・クロマトグラフイ−で精製したのち、結晶化、沈
殿、濾過などで採取する方法などを組合わせて用いる。
生成物の物理定数の測定値は別途合成品の値と一致す
る。使用した略号は、以下の通りである。BOC=第三
級ブトキシカルボニル。Cbz=ベンジルオキシカルボ
ニル。Et=エチル。Me=メチル。Ph=フエニル。
THF=テトラヒドロフラン。
【0020】実施例1
【化3】 2−(クロロアセチル)マロン酸ジエチルエステルをエ
タノ−ル8部にとかし、チオ尿素1.9当量を加えて室
温で2時間かきまぜたのち、一夜放置する。反応液を濃
縮し、水でうすめたのち、炭酸水素ナトリウム水で中和
すれば2−(2−アミノ−4−チアゾリル)マロン酸ジ
エチルエステルが晶出する。収率:79.2%。mp.9
9.5〜100.5℃。 IR(CHCl3)ν:3475,3390,297
0,1725cm-1。 NMR(CDCl3)δ:1.25(t,J=6.6H
z,6H),4.23(q,J=6.6Hz,4H),
4.65(s,1H),5.64(brs,2H),
6.54(s,1H)。
【0021】実施例2−1
【化4】 2−(2−アミノ−4−チアゾリル)マロン酸ジエチル
エステルを0℃で無水酢酸6部とぎ酸6部の混合物に加
え、1時間かきまぜる。反応液を減圧濃縮し、酢酸エチ
ルでうすめ、希塩酸、炭酸水素ナトリウム水と水で洗
い、乾燥し、減圧濃縮すれば2−(2−ホルムアミド−
4−チアゾリル)マロン酸ジエチルエステルを得る。収
率:70%。
【0022】実施例2−2
【化5】 2−(2−アミノ−4−チアゾリル)マロン酸ジエチル
エステルをN,N−ジメチルホルムアミド10部にとか
し、氷冷下、これにモノクロロアセチルクロリド1.3
当量を加え、30分かきまぜる。さらに1時間、室温で
かきまぜたのち、反応液を酢酸エチルと水でうすめ、水
洗、乾燥後、減圧濃縮すれば2−(2−モノクロロアセ
トアミド−4−チアゾリル)マロン酸ジエチルエステル
を得る。収率:99.6%。
【0023】実施例2−3
【化6】 ジエチルエステルをピロ炭酸t−ブチル2.25当量に
とかし、80℃で一夜かきまぜる。反応液を酢酸エチル
でうすめ、希塩酸、炭酸水素ナトリウム水と水で洗い、
乾燥し、減圧濃縮すれば2−(2−第三級ブトキシカル
ボニルアミノ−4−チアゾリル)マロン酸ジエチルエス
テルを得る。収率:73.3%。
【0024】実施例2−4
【化7】 ジエチルエステルをジクロロメタン24部にとかし、0
℃でこれにピリジン2当量とベンジルクロロホ−メ−ト
2当量を加え、30分間かきまぜる。反応液を水で洗
い、乾燥し、減圧濃縮すれば2−(2−ベンジルオキシ
カルボニルアミノ−4−チアゾリル)マロン酸ジエチル
エステルを得る。収率:71.3%。
【0025】実施例2−5
【化8】 ジエチルエステルをジクロロメタン15部にとかし、0
℃で窒素気流中これに塩化トリチル1.05当量とトリエチ
ルアミン1.05当量を加え、室温で24時間かきまぜ
る。反応液を希塩酸に注ぎ、酢酸エチルで抽出する、抽
出液を水洗、乾燥後、減圧濃縮すれば2−(2−トリチ
ルアミノ−4−チアゾリル)マロン酸ジエチルエステル
を得る。収率:98.2%。
【0026】実施例3−1
【化9】 2−(2−保護アミノ−4−チアゾリル)マロン酸ジエ
チルエステルをテトラヒドロフラン5〜40部にとか
し、水素化ナトリウム2〜3当量を加えて5分〜30分
間0℃でかきまぜて2−ソジオマロネ−トの溶液を製造
する。これにクロロメチリデンマロン酸ジエチルエステ
ル1〜2当量を加え、室温で1時間〜10時間かきまぜ
る。反応液を希塩酸と酢酸エチルでうすめる。有機層を
分取し、炭酸水素ナトリウム水と水で洗い、乾燥し、濃
縮し、クロマトグラフして精製すれば1−(2−保護ア
ミノ−4−チアゾリル)プロペン−1,1,3,3−テ
トラカルボン酸テトラエチルエステルを得る。収率:1
0〜70%。反応条件を第一表に示す。
【0027】実施例3−2 同様の条件下、テトラヒドロフランをジオキサンまたは
ジメトキシエタンに代えて反応しても、ほぼ同様の収率
で目的物であるテトラカルボン酸エステルを製造でき
る。
【0028】実施例4−1
【化10】 1−(2−保護アミノ−4−チアゾリル)プロペン−
1,1,3,3−テトラカルボン酸テトラエチルエステ
ルをテトラヒドロフラン2〜10部にとかし、これに水
5〜30部と水酸化ナトリウム1〜30当量を加え、室
温で30分〜10時間かきまぜる。反応液を酢酸エチル
で洗い、塩酸酸性としたのち酢酸エチルで抽出する。抽
出液を水洗、乾燥、濃縮すれば1−(2−保護アミノ−
4−チアゾリル)プロペン−1,3−ジカルボン酸を得
る。収率:50%〜75%。反応条件を第二表に示す。
【0029】実施例4−2 実施例4−1の反応溶媒をメタノ−ルまたはエタノ−ル
に変更しても同一のジカルボン酸を製造できる。
【0030】実施例5
【化11】 1−(2−(保護アミノ−4−チアゾリル)プロペン−
1,3−ジカルボン酸を溶媒5〜30部と触媒1〜10
当量とアルコ−ル4〜10当量と混合し、1〜100時
間0〜40℃で反応させる。反応液を酢酸エチルと水で
うすめ、水、炭酸水素ナトリウム水および塩酸で洗い、
乾燥し、濃縮する。残留物をメタノ−ルから結晶化させ
ると対応する半エステルを得る。収率:50〜90%。
反応条件を第三表に示す。
【0031】実施例6
【化12】 2−(2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4−チア
ゾリル)マロン酸ジエチルエステルをテトラヒドロフラ
ン20部にとかし、水素化ナトリウム2.35当量とトラン
ス−3−クロロアクリル酸ジフエニルメチルエステル
1.2当量とをテトラヒドロフラン8部にとかして氷冷
下に加え、35〜40℃で12.5時間かきまぜる。反
応液を酢酸エチルと希塩酸でうすめ、水洗、乾燥、濃縮
する。残留物をシリカゲル上クロマトグラフし、ベンゼ
ン一酢酸エチル(15:1)で流出する部分を酢酸エチ
ルから結晶化させれば1−(2−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−4−チアゾリル)−2−プロペン−1,
1,3−トリカルボン酸トリエステルを得る。 IR(CHCl3)ν:3390,2960,173
0,1635cm-1。 NMR(CDCl3)δ:1.73(t,J=6.6H
z,6H),4.25(p,J=6.6Hz,4H),
5.25(s,2H),5.81(d,J=15.8H
z,1H),6.93(s,1H),7.25〜7.4
5(m,16H),7.60(d,J=15.8Hz,1
H),8.07(brs,1H)。 第一表 縮合反応条件
【化13】
【表1】 第二表 加水分解反応条件
【化14】
【表2】 第三表 半エステル化条件(その1) (TMS
C=Me3SiCl)
【表3】 第三表 半エステル化条件(その2)
【表4】 第三表 半エステル化条件(その3)
【表5】 第三表 半エステル化条件(その4)
【表6】 第三表 半エステル化条件(その5)
【表7】 *) 位置異性体アルコ−ルCH2=CHCMe2OHが原
料。アリル転位の結果、生成。
【化15】 1=CHO:IR(CHCl3)νcm-13380,3
160,1740,1725,1685。mp73℃。
NMR(CDCl3)δppm:1.23(t,J=7H
z,6H),4.20(q,J=7Hz,4H),4.7
7(s,1H),7.06(s,1H),8.72(s,
1H),11.65(brs,1H)。 R1=ClCH2CO:IR(CHCl3)νcm-135
00,2950,1750,1725,1680。NM
R(CDCl3)δppm:1.25(t,J=7.5H
z,6H),4.23(q,J=7.5Hz,4H),
4.27(s,2H),4.73(s,1H),7.10
(s,1H),9.65(br,1H)。 R1=BOC:IR(CHCl3)νcm-13420,1
750,1730(CCl4)。NMR(CDCl3)δ
ppm:1.23(t,J=7Hz,6H),1.54
(s,9H),4.20(q,J=7Hz,4H),4.
89(s,1H),6.99(s,1H),9.10(b
rs,1H)。 R1=Cbz:IR(CHCl3)νcm-13380,3
140,2950,1725。mp.80℃。NMR
(CDCl3)δppm:1.22(t,J=6.9H
z,6H),4.16(q,J=6.9Hz,4H),
5.08(s,1H),5.29(s,2H),7.04
(s,1H),7.2〜7.5(m,5H)。 R1=Ph3C:IR(CHCl3)νcm-13615,
3405,2975,1730。NMR(CDCl3
δppm:1.24(t,J=7.2Hz,6H),4.
18(q,J=7.2Hz,4H),4.65(s,1
H),6.40(s,1H),6.61(brs,1
H),7.29(brs,15H)。
【化16】 1=CHO:IR(CHCl3)νcm-13380,3
150,2970,1745,1710(sh)。NM
R(CDCl3)δppm:1.11〜1.37(m,1
2H),4.12(q,J=7.5Hz,2H),4.2
0(q,J=7.5Hz,4H),4.28(q,J=
7.5Hz,2H),7.41(s,1H),7.70
(s,1H),8.65(brs,1H)。 R1=ClCH2CO:IR(CHCl3)νcm-133
75,2980,1740,1720,1690,16
50。NMR(CDCl3)δppm:1.17,1.2
3,1.31(3×t,J=8Hz,12H),3.85
〜4.32(m,8H),4.21(s,2H),7.4
5(s,1H),7.61(s,1H),10.12(b
rs,1H)。 R1=BOC:IR(CHCl3)νcm-13400,2
965,1730,1635。mp.126℃。NMR
(CDCl3)δppm:1.10〜1.38(m,12
H),4.07(q,J=6.7Hz,2H),4.25
(q,J=6.7Hz,2H),4.26(q,J=6.
7Hz,2H),7.42(s,1H),7.78(s,
1H),7.97(brs,1H)。 R1=Cbz:IR(CHCl3)νcm-13380,2
950,1730,1640。NMR(CDCl3)δ
ppm:1.10〜1.40(m,12H),4.02
(q,J=7.5Hz,2H),4.20(q,J=7.
5Hz,6H),5.21(s,2H),7.34(s,
5H),7.77(s,1H)。 R1=Ph3C:IR(CHCl3)νcm-11730,
1635。NMR(CDCl3)δppm:1.05〜
1.40(m,12H),3.96(q,J=7.5H
z,2H),4.15(q,J=7.5Hz,2H),
4.25(q,J=7.5Hz,2H),6.48(br
s,1H),6.85(s,1H),7.25(brs,
15H),7.75(s,1H)。 R1=H:IR(CHCl3)νcm-11730,159
5。mp.113〜114℃。NMR(CDCl3)δp
pm:1.1〜1.4(m,12H),3.95〜4.4
(m,8H),5.41(brs,2H),7.02
(s,1H),7.75(s,1H)。
【化17】 1=BOCシス体:IR(Nujol)νcm-131
20,1700,1675.dp153〜154℃。N
MR(CD3SOCD3)δppm:1.50(s,9
H),3.45(d,J=7.5Hz,2H),7.00
(t,J=7.5Hz,1H),7.13(s,1H)。 R1=BOCトランス体:IR(Nujol)νcm-1
3150,1700,1630,1600。dp165
〜167℃。NMR(CD3SOCD3)δppm:1.
49(s,9H),3.41(d,J=7.5Hz,2
H),6.89(t,J=7.5Hz,1H),7.08
(s,1H)。 R1=Cbz:IR(Nujol)νcm-13200,
1738,1715,1690。dp169〜172
℃。NMR(CDCl3+CD3OD)δppm:3.4
4,3.50,(2×d,J=8Hz,2H),5.25
(s,2H),7.07,7.35(2×t,J=8H
z,1H),7.12(s,1H),7.38(brs,
5H)。 R1=HCO:IR(Nujol)νcm-13400,
1718,1690,1630,1550。dp168
℃。NMR(CDCl3+CD3OD)δppm:3.4
5,3.63(2×d,J=7.5Hz,2H),7.1
4,7.32(2×t,J=7.5Hz,1H),7.2
3,7.25(2×s,1H),8.51(s,1H)。 R1=ClCH2CO-:IR(Nujol)νcm-1
100,1720,1685,1620。dp153〜
155℃。NMR(CD3SOCD3)δppm:3.4
5(d,J=8Hz,2H),4.37(s,2H),
6.97,7.05(2×t,J=8Hz,1H),7.
23,7.27(2×s,1H).
【化18】 1=BOC,R=t−Bu:IR(CHCl3)νcm
-11725,1620,1545。NMR(CDC
3)δppm:1.45(s,9H),1.53(s,
9H),3.30,3.64(d+d,J=7Hz,2
H),6.98,7.04(s+s,1H),6.99,
7.32(t+t,J=7Hz,1H). R1=BOC,R=Bzl:IR(Nujol)νcm-
13160,1740,1724,1700,167
8,1255,1168。NMR(CD3SOCD3)δ
ppm:3.95(d,J=7.5Hz,2H),5.5
0(s,2H),7.26(t,J=7.5Hz,1
H),7.30(brs,1H),7.49(s,1
H),7.75(s,5H),11.86(brs,1
H). R1=HCOシス/トランス体(1/2),R=t-B
u:IR(Nujol)νcm-13150,3100,
1720,1690,1635。mp.185〜188
℃。NMR(CD3SOCD3)δppm:1.40
(s,9H),3.43(d,J=7Hz,2H),6.
89,7.00(2×t,J=7Hz,1H),7.2
0,7.26(2×s,1H),8.48(s,1H). R1=HCO,R=Bzl:IR(Nujol)νcm-
11735,1680,1620。dp153〜155
℃。NMR(CD3SOCD3)δppm:3.69
(d,J=7Hz,2H),5.12(s,2H),7.
17(t,J=7Hz,1H),7.21(s,1
H),7.32(s,5H),8.46(s,1H)。 R1=ClCH2CO,R=Me:NMR(CDCl3)δ
ppm:3.39(d,J=7.5Hz,2H),3.7
0(s,3H),4.24(s,2H),7.11(s,
1H),7.23(t,J=7.5Hz,1H),9.3
7(brs,2H)。 R1=ClCH2CO,R=Bzl:IR(Nujol)
νcm-11726,1685,1160。dp155
℃。NMR(CD3SOCD3)δppm:3.95,4.
01(2×d,J=7.5Hz,2H),4.71(s,
2H),5.45,5.47(2×s,2H),7.2
8,7.40(2×t,J=7.5Hz,1H),7.5
8,7.65(2×s,1H),7.70(s,5H),
12.9(brs,1H)。 R1=Cbz,R=Me:IR(Nujol)νcm-1
400〜2300,1740,1550。NMR(CD
3SOCD3)δppm:3.58〜3.73(m,2
H),3.63(s,3H),5.27(s,2H),
7.03〜7.46(m,7H)。 R1=Cbzトランス体,R=t-Bu:IR(Nujo
l)νcm-13160〜2200,1720,168
0,1635。mp。169〜171℃。NMR(CD
3SOCD3)δppm:1.42(s,9H),3.53
(d,J=7Hz,2H),5.29(s,1H),7.
27(t,J=7Hz,1H),7.35(s,1
H),7.30〜7.50(m,5H)。 R1=Cbzシス体,R=t-Bu:NMR(CDC
3)δppm:1.44(s,9H),3.53(d,
J=7Hz,2H),5.27(s,2H),7.13
(t,J=7Hz,1H),7.24(s,1H),7.
30〜7.47(m,5H)。 R1=Cbzシス/トランス体(2/1),R=MeBz
l:IR(Nujol)νcm-13150〜2050,
1720,1670,1620,1570。mp.16
0〜163℃。NMR(CDCl3−CD3OD)δpp
m:2.33(s,3H),2.53,2.70(2×
d,J=8Hz,2H),5.11(s,2H),5.2
6(s,2H),6.99〜7.40(m,10H)。 R1=Cbzシス/トランス(2/3),R=Bzl:
IR(Nujol)νcm-11725,1675,16
20,1575。mp.164〜166℃。NMR(C
DCl3−CD3OD)δppm:3.51,3.73(2
×d,J=7Hz,2H),5.13(s,2H),5.
26(s,2H),7.06,7.10(2×s,1
H),7.0〜7.5(m,11H)。 R1=Cbz,R=PMB:IR(Nujol)νcm-
11720,1575,1515。mp.145〜148
℃。NMR(CDCl3−CD3OD)δppm:3.8
0(d,J=8Hz,2H),3.90(s,3H),
5.20(s,2H),5.33(s,2H),7.00
(s,1H),6.85〜7.60(m,10H)。 R1=Cbzシス/トランス体(1/2),R=CH2
H=CH2:IR(Nujol)νcm-13515,2
480(br),1736,1549,1305,10
86(CHCl3)。mp.122〜130℃。NMR
(CDCl3)δppm:3.35(d,J=8Hz,4
/3H),3.68(d,J=8Hz,2/3H),4.
56(d,J=6Hz,2H),5.11〜5.37
(m,4H),5.65〜6.15(m,1H),6.9
0〜7.41(m,7H),9.82(bs,2H)。 R1=Cbzシス/トランス体(1/5),R=CHMe
CH=CH2:IR(Nujol)νcm-13420,
2500(br),1732,1549,1302,1
087(CHCl3)。mp.127〜131℃。NMR
(CDCl3−CD3OD)δppm:1.16(d,J
=7Hz,1/2H),1.29(d,J=7Hz,5/
2H),3.46(d,J=8Hz,5/3H),3.6
8(d,J=8Hz,1/3H),5.05〜5.49
(m,3H),5.16(s,2H),5.66〜6.0
2(m,1H),7.08〜7.57(m,7H)。 R1=Cbzシス/トランス体(9/11)R=CH2
Me=CH2:IR(Nujol)νcm-13420,1
736,1548,1307,1085(CHC
3)。mp.120〜123℃。NMR(CDCl3
CD3OD)δppm:1.73(s,3H),3.52
(d,J=8.5Hz,11/10H),3.73(d,
J=8.5Hz,9/10H),4.54(s,2H),
4.95(brs,2H),5.26(s,2H),6.
99〜7.46(m,7H)。 R1=Cbzシス/トランス体(1/4),R=CH2
H=CHMe:IR(Nujol)νcm-13415,
1732,1548,1304,1076(CHC
3)dp.139〜142℃。NMR(CDCl3−C
DCl3)δppm:1.67(d,J=6Hz,3
H),3.44(d,J=8Hz,8/5H),3.64
(d,J=8Hz,2/5H),4.49(d,J=6
Hz,2H),5.23(s,2H),5.35〜6.0
5(m,2H),7.05〜7.41(m,7H)。 R1=Cbzシス/トランス体(1/2),R=CH2
H=CMe2:IR(Nujol)νcm-13175,2
520(br),1732,1659,1071.dp.
167〜168℃。NMR(CD3SOCD3−CD3
D)δppm:1.98(s,3H),2.03(s,3
H),3.82(d,J=8Hz,4/3H),3.86
(d,J=8Hz,2/3H),4.87(d,J=7
Hz,2H),5.64(s,2H),5.52〜5.7
1(m,1H),7.21(t,J=8Hz1/3H),
7.65〜7.69(m,5+2/3H),外部基準TM
S。R1=Cbz:R=CH2CH=CHPh:TLC
[EtOAc/CHCl3(1:1)]:Rf=0.2。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次式の2−(2−アミノ−4−チアゾリ
    ル)マロン酸エステルおよびそのN−保護体。 【化1】 (式中、Rは、同一または相異なるエステル形成基、R
    1、R2は、水素またはアミノ保護基、R3は、水素また
    は−CH=CR4COOR基、R4は、水素またはCOO
    R基をそれぞれ示す)
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