JPS5919101B2 - ２−アミノチアゾ−ル−４−イル−α−オキシミノ酢酸誘導体 - Google Patents
２−アミノチアゾ−ル−４−イル−α−オキシミノ酢酸誘導体Info
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- JPS5919101B2 JPS5919101B2 JP51001239A JP123976A JPS5919101B2 JP S5919101 B2 JPS5919101 B2 JP S5919101B2 JP 51001239 A JP51001239 A JP 51001239A JP 123976 A JP123976 A JP 123976A JP S5919101 B2 JPS5919101 B2 JP S5919101B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、〒般式
Ｕ／ＣＯＯＲＩ
ＣＣＩ〕
〔式中、−ＣＯＯＲＩは保護されていてもよいカルボキ
シル基を、Ｒ２ＮＨ−は保護されていてもよいアミノ基
を示す。
シル基を、Ｒ２ＮＨ−は保護されていてもよいアミノ基
を示す。
〕で表わされる２−アミノチアゾールー４−イルーα−
オキシミノ酢酸誘導体に関するものである。本発明者等
は、種々研究した結果、一般式Ｒ２ＮＨ□ＣチＯＯＲＩ
（Ｉ） 〔式中、−ＣＯＯＲＩおよびＲ２ＮＨ−は前記と同意義
。
オキシミノ酢酸誘導体に関するものである。本発明者等
は、種々研究した結果、一般式Ｒ２ＮＨ□ＣチＯＯＲＩ
（Ｉ） 〔式中、−ＣＯＯＲＩおよびＲ２ＮＨ−は前記と同意義
。
〕で表わされる２−アミノチアゾールー４−イルーα−
オキシミノ酢酸誘導体はＸＣＨ２−Ｃ−Ｃ−ＣＯＯＲＩ １１１１〔■〕 〔式中、Ｘはハロゲン原子を、−ＣＯＯＲＩは前記と同
意義を示す。
オキシミノ酢酸誘導体はＸＣＨ２−Ｃ−Ｃ−ＣＯＯＲＩ １１１１〔■〕 〔式中、Ｘはハロゲン原子を、−ＣＯＯＲＩは前記と同
意義を示す。
〕で表わされるα−オキシミノーβ−ケトーγ−ハロゲ
ノ酪酸エステル類と一般式〔式中、Ｒ２ＮＨ−は前記と
同意義。
ノ酪酸エステル類と一般式〔式中、Ｒ２ＮＨ−は前記と
同意義。
〕で表わされるチオ尿素化合物とを反応させ、必要に応
じて保護基を除去すると得られること、および得られた
化合物〔Ｉ〕を原料とするアシル化剤で６位または７位
アミノ基をアシル化したペニシリン類またはセフアロス
ポリン類が優れた抗菌作用を有することを見出し、これ
に基づいて本発明を完成した。上記式中＝ＣＯＯＲＩは
、保護されていてもよいカルボキシル基を示し、従つて
Ｒ１ は水素原子あるいはカルボキシル基の保護基を示
す。
じて保護基を除去すると得られること、および得られた
化合物〔Ｉ〕を原料とするアシル化剤で６位または７位
アミノ基をアシル化したペニシリン類またはセフアロス
ポリン類が優れた抗菌作用を有することを見出し、これ
に基づいて本発明を完成した。上記式中＝ＣＯＯＲＩは
、保護されていてもよいカルボキシル基を示し、従つて
Ｒ１ は水素原子あるいはカルボキシル基の保護基を示
す。
このような保護基としては、チアゾール核に影響を与え
ることなく酸性条件、アルカリ性条件、還元条件等の緩
和な条件で除去しうるものなら何でもよく、たとえば一
般にペプチド合成においてカルボキシル基の保護基とし
て用いられるものから選択され、たとえばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第２ブチル、イ
ソブチル、第３ブチルなどのアルキル基、β−メチルス
ルホニルエチル、トリクロルエチル、ジフエニルメチル
などの置換アルキル基、フエニル、トリルなどのアリー
ル基、ｐ−第３ブチルフエニル、ｐ−ニトロフエニルな
どの置換アリール基、ベンジル、フエネチル、トルベン
ジルなどのアラルキル基、ｐ−メトキシベンジル、．ｐ
−ニトロベンジルなどの置換アラルキル基などが用いら
れる。Ｒ２ＮＨ− は、保護されていてもよいアミノ基
を示し、従つてＲ２は水素原子あるいはアミノ基の保護
基を示す。このような保護基としては、ペプチド化学〒
般に使用される脱離容易なアミノ基の保護基が用いられ
、たとえばホルミル、アセチル、プロピオニルなどのア
ルキルカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニルなどのア
ルコキシカルボニル基、メトキシアセチル、メトキシプ
ロピオニルなどのアルコキシアルキルカルボニル基、ト
リクロルエトキシカルボニルなどの置換アルコキシカル
ボニル基、メトキシカルボニルアセチルなどのアルコキ
シカルボニルアセチル基、ベンジルオキシカルボニルな
どのアラルキルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルなどの置換アラルキルオキシカルボ
ニル基などが繁用される。Ｘは、塩素、臭素、ヨウ素、
フツ素などのハロゲン原子を示す。本発明の化合物〔Ｉ
〕は、α−オキシミノ一β一ケト一γ−ハロゲノ酪酸エ
ステル類〔〕とチオ尿素化合物〔〕とを反応させること
により製造することができる。この反応は、たとえばエ
タノール、テトラヒドロフランなどの有機溶媒中で行な
われる。溶媒には塩基を添加するのがよく、このような
塩基としては、たとえばピリジン、トリエチルアミン、
Ｎ − Ｎ −ジメチルアニリンなどの第Ξ級塩基が用
いられる。Ｒ２が水素原子の場合には、〔〕自体が塩基
として作用するのでさらに塩基を加える必要はない。反
応は、室温ないし還流条件下有利に進行する。反応終了
後、目的物〔Ｉ〕を分離しまたは分離せずに、必要に応
じて保護基の除去を行なうことができる。保護基の除去
は、各々の保護基の除去に通常用いられる手段が用いら
れ、たとえばエチル、プロピルなどのアルキル基は酸ま
たはアルカリによつて、ジフエニルメチルなどのジアリ
ールアルキル基、ｐ−メトキシベンジルなどのアルコキ
シアラルキル基は酸によつて、β−メチルスルホニルエ
チルなどのメチルスルホニルアルキル基はアルカリによ
つて、β・β・β一トリクロルエチルなどのハロゲノア
ルキル基は亜鉛と酸によつて、ｐ−ニトロベンジルなど
のｐ−ニトロアラルキル基は接触還元によつて容易に行
なうことができる。アミノ基の保護基Ｒ２、Ｒ３の除去
は、たとえばβ・β・β一トリクロルエトキシカルボニ
ルなどのハロゲノアルコキシカルボニル基は亜鉛と酸に
よつて、ホルミル基、ｔ−ブトキシカルボニルなどの第
３級アルコキシカルボニル基は騨によつて、ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルなどの置換アラルキルオキシ
カルボニル基は接触還元によつて容易に行なうことがで
きる。カルボキシル基およびアミノ基がいずれも保護さ
れている場合には、これらの保護基は同時に行なつても
よく、また保護基の種類を考慮していずれかを先に除去
してもよい。得られる目的物〔Ｉ〕は、公知の手段たと
えば溶媒抽出、転溶、液性変換、結晶化、再結晶、蒸留
、クロマトグラフイ一、イオン交換などにより単離精製
することができる。得られる化合物〔Ｉ〕は、公知の手
段により単離精製することもできるが、分離することな
く反応液のまま本発明方法の原料に供することもできる
。かくして得られる本願目的化合物〔１〕は、優れた抗
菌力を持つ６位または７位に２−アミノチアゾール−４
−イルグリシルアミド基を有するペニシリン類またはセ
フアロスポリン類の製造に有利な新規中間体である。
ることなく酸性条件、アルカリ性条件、還元条件等の緩
和な条件で除去しうるものなら何でもよく、たとえば一
般にペプチド合成においてカルボキシル基の保護基とし
て用いられるものから選択され、たとえばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第２ブチル、イ
ソブチル、第３ブチルなどのアルキル基、β−メチルス
ルホニルエチル、トリクロルエチル、ジフエニルメチル
などの置換アルキル基、フエニル、トリルなどのアリー
ル基、ｐ−第３ブチルフエニル、ｐ−ニトロフエニルな
どの置換アリール基、ベンジル、フエネチル、トルベン
ジルなどのアラルキル基、ｐ−メトキシベンジル、．ｐ
−ニトロベンジルなどの置換アラルキル基などが用いら
れる。Ｒ２ＮＨ− は、保護されていてもよいアミノ基
を示し、従つてＲ２は水素原子あるいはアミノ基の保護
基を示す。このような保護基としては、ペプチド化学〒
般に使用される脱離容易なアミノ基の保護基が用いられ
、たとえばホルミル、アセチル、プロピオニルなどのア
ルキルカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニルなどのア
ルコキシカルボニル基、メトキシアセチル、メトキシプ
ロピオニルなどのアルコキシアルキルカルボニル基、ト
リクロルエトキシカルボニルなどの置換アルコキシカル
ボニル基、メトキシカルボニルアセチルなどのアルコキ
シカルボニルアセチル基、ベンジルオキシカルボニルな
どのアラルキルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルなどの置換アラルキルオキシカルボ
ニル基などが繁用される。Ｘは、塩素、臭素、ヨウ素、
フツ素などのハロゲン原子を示す。本発明の化合物〔Ｉ
〕は、α−オキシミノ一β一ケト一γ−ハロゲノ酪酸エ
ステル類〔〕とチオ尿素化合物〔〕とを反応させること
により製造することができる。この反応は、たとえばエ
タノール、テトラヒドロフランなどの有機溶媒中で行な
われる。溶媒には塩基を添加するのがよく、このような
塩基としては、たとえばピリジン、トリエチルアミン、
Ｎ − Ｎ −ジメチルアニリンなどの第Ξ級塩基が用
いられる。Ｒ２が水素原子の場合には、〔〕自体が塩基
として作用するのでさらに塩基を加える必要はない。反
応は、室温ないし還流条件下有利に進行する。反応終了
後、目的物〔Ｉ〕を分離しまたは分離せずに、必要に応
じて保護基の除去を行なうことができる。保護基の除去
は、各々の保護基の除去に通常用いられる手段が用いら
れ、たとえばエチル、プロピルなどのアルキル基は酸ま
たはアルカリによつて、ジフエニルメチルなどのジアリ
ールアルキル基、ｐ−メトキシベンジルなどのアルコキ
シアラルキル基は酸によつて、β−メチルスルホニルエ
チルなどのメチルスルホニルアルキル基はアルカリによ
つて、β・β・β一トリクロルエチルなどのハロゲノア
ルキル基は亜鉛と酸によつて、ｐ−ニトロベンジルなど
のｐ−ニトロアラルキル基は接触還元によつて容易に行
なうことができる。アミノ基の保護基Ｒ２、Ｒ３の除去
は、たとえばβ・β・β一トリクロルエトキシカルボニ
ルなどのハロゲノアルコキシカルボニル基は亜鉛と酸に
よつて、ホルミル基、ｔ−ブトキシカルボニルなどの第
３級アルコキシカルボニル基は騨によつて、ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルなどの置換アラルキルオキシ
カルボニル基は接触還元によつて容易に行なうことがで
きる。カルボキシル基およびアミノ基がいずれも保護さ
れている場合には、これらの保護基は同時に行なつても
よく、また保護基の種類を考慮していずれかを先に除去
してもよい。得られる目的物〔Ｉ〕は、公知の手段たと
えば溶媒抽出、転溶、液性変換、結晶化、再結晶、蒸留
、クロマトグラフイ一、イオン交換などにより単離精製
することができる。得られる化合物〔Ｉ〕は、公知の手
段により単離精製することもできるが、分離することな
く反応液のまま本発明方法の原料に供することもできる
。かくして得られる本願目的化合物〔１〕は、優れた抗
菌力を持つ６位または７位に２−アミノチアゾール−４
−イルグリシルアミド基を有するペニシリン類またはセ
フアロスポリン類の製造に有利な新規中間体である。
たとえば、まず２−アミノチアゾール−４−イル一α−
オキシミノ酢酸誘導体〔１〕を還元して式〔式中、Ｒ３
ＮＨ−は保護されていてもよいアミノ基を、−ＣＯＯＲ
ｌおよびＲ２ＮＨ−は前記と同意義を示す。
オキシミノ酢酸誘導体〔１〕を還元して式〔式中、Ｒ３
ＮＨ−は保護されていてもよいアミノ基を、−ＣＯＯＲ
ｌおよびＲ２ＮＨ−は前記と同意義を示す。
〕で表わされる２−アミノチアゾール−４−イルグリシ
ン誘導体を製造する。この還元の方法は、目的物に導き
うる公知の還元手段が用いられ、たとえば触媒（たとえ
ばラネ一・ニツケル、酸化白金、パラジウム炭素、ルテ
ニウム炭素、ロジウム炭素、銅クロム酸化物など）を用
いる接触還元法、ナトリウム、ナトリウムアマルガム、
アルミニウムアマルガムなどの金属と水、アルコールな
どとの併用によつて生ずる発生機の水素を用いる還元手
段、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジエチルアル
ミニウム、水素化ナトリウムアルミニウム、水素化ホウ
素ナトリウムなどの水素化金属錯化合物を用いる還元手
段、無水酢酸、ギ酸または水混合溶媒中亜鉛、鉄などの
金属で処理する還元手段、電解還元などが好都合に用い
られる。還元反応の温度、圧力、溶媒の種類、時間、ぞ
の他の条件は、原料の種類、還元手段に応じて適宜決定
される。かくして得られる化合物〔〕を用（・て常法に
基づいて６位または７位アミノ基のペニシリン類または
セフアロスポリン類をアシル化すれば最終目的物が得ら
れる。例１ α−オキシミノ一β−オキソ一γ−クロロ酪酸エチル１
９．３７、チオ尿素８．０ｔをエタノール２００１１１
に溶解し２時間加熱還流する。
ン誘導体を製造する。この還元の方法は、目的物に導き
うる公知の還元手段が用いられ、たとえば触媒（たとえ
ばラネ一・ニツケル、酸化白金、パラジウム炭素、ルテ
ニウム炭素、ロジウム炭素、銅クロム酸化物など）を用
いる接触還元法、ナトリウム、ナトリウムアマルガム、
アルミニウムアマルガムなどの金属と水、アルコールな
どとの併用によつて生ずる発生機の水素を用いる還元手
段、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジエチルアル
ミニウム、水素化ナトリウムアルミニウム、水素化ホウ
素ナトリウムなどの水素化金属錯化合物を用いる還元手
段、無水酢酸、ギ酸または水混合溶媒中亜鉛、鉄などの
金属で処理する還元手段、電解還元などが好都合に用い
られる。還元反応の温度、圧力、溶媒の種類、時間、ぞ
の他の条件は、原料の種類、還元手段に応じて適宜決定
される。かくして得られる化合物〔〕を用（・て常法に
基づいて６位または７位アミノ基のペニシリン類または
セフアロスポリン類をアシル化すれば最終目的物が得ら
れる。例１ α−オキシミノ一β−オキソ一γ−クロロ酪酸エチル１
９．３７、チオ尿素８．０ｔをエタノール２００１１１
に溶解し２時間加熱還流する。
エタノールを減圧下留去し、残留物を１０％塩酸に溶解
する。この溶液から未反応のα−オキシミノ一βオキソ
一γ−クロロ酪酸エチルを除去するためにエーテル各２
００ｍ１で２回洗浄したのち、これに炭酸水素ナトリウ
ムを加えてＰＨ７．Ｏ〜７．５に調製しクロロホルム各
１００ｍ１で２回抽出する。クロロホルム層を水洗、乾
燥後クロロホルムを留去して２−アミノチアゾール−４
−イル一α−オキシミノ酢酸エチルが得られる。収量６
．４３ｔ０本品は融点１３７〜１３８℃（分解点）を示
す。この融点は、シン異性体（融点１８５．５℃）とア
ンチ異性体（融点１４５．３℃）の混合物であることを
示す。？−１にオキシムの１７１０ｃｆ１−１にエステ
ルの吸収を示す。
する。この溶液から未反応のα−オキシミノ一βオキソ
一γ−クロロ酪酸エチルを除去するためにエーテル各２
００ｍ１で２回洗浄したのち、これに炭酸水素ナトリウ
ムを加えてＰＨ７．Ｏ〜７．５に調製しクロロホルム各
１００ｍ１で２回抽出する。クロロホルム層を水洗、乾
燥後クロロホルムを留去して２−アミノチアゾール−４
−イル一α−オキシミノ酢酸エチルが得られる。収量６
．４３ｔ０本品は融点１３７〜１３８℃（分解点）を示
す。この融点は、シン異性体（融点１８５．５℃）とア
ンチ異性体（融点１４５．３℃）の混合物であることを
示す。？−１にオキシムの１７１０ｃｆ１−１にエステ
ルの吸収を示す。
例２
α−オキシミノ一β−ケト−γ−ブロモ酪酸エチルエス
テル２３８即をエタノール１０ｍ１に溶かし、これにＮ
−（β・β・β一トリクロロエトキシカルボニル）チオ
尿素２５１７ｎ９を加えて６時間加熱し還流させる。
テル２３８即をエタノール１０ｍ１に溶かし、これにＮ
−（β・β・β一トリクロロエトキシカルボニル）チオ
尿素２５１７ｎ９を加えて６時間加熱し還流させる。
冷却後、反応混合物にクロロホルム５０ｍ１を加えて水
洗し、硫酸マグネシウムで乾燥する。クロロホルムを減
圧留去したのち、シリカゲルカラムクロマトにより精製
して、２（β・β・β一トリクロロエトキシカルボニル
アミノ）チアゾール−４−イル一α−オキシミノ酢酸エ
チルエステルを得る。収量１６０ＴＩ１９０本品の核磁
気共鳴スペクトル（１００ＭＨｚ１重クロロホルム中）
は１．３５および４．３６ｐｐｍにエチル基の三重線お
よび四重線、４．８７ｐｐｍにトリクロロエトキシ基の
単線、７．９４ｐｐｍにチアゾール５位水素の単線共鳴
線を示す。この核磁気共鳴スペクトルはアンチ異性体で
あることを示す。例３（１）例１で得た２−アミノチア
ゾール−４−イルα−オキシミノ酢酸エチル２．１５ｔ
を５０％ギ酸２０ｍ１とメタノール１０ｍ１の混合物に
溶解する。
洗し、硫酸マグネシウムで乾燥する。クロロホルムを減
圧留去したのち、シリカゲルカラムクロマトにより精製
して、２（β・β・β一トリクロロエトキシカルボニル
アミノ）チアゾール−４−イル一α−オキシミノ酢酸エ
チルエステルを得る。収量１６０ＴＩ１９０本品の核磁
気共鳴スペクトル（１００ＭＨｚ１重クロロホルム中）
は１．３５および４．３６ｐｐｍにエチル基の三重線お
よび四重線、４．８７ｐｐｍにトリクロロエトキシ基の
単線、７．９４ｐｐｍにチアゾール５位水素の単線共鳴
線を示す。この核磁気共鳴スペクトルはアンチ異性体で
あることを示す。例３（１）例１で得た２−アミノチア
ゾール−４−イルα−オキシミノ酢酸エチル２．１５ｔ
を５０％ギ酸２０ｍ１とメタノール１０ｍ１の混合物に
溶解する。
氷冷下攪拌しながらこれに亜鉛末１．５ｆを少量ずつ加
え３時間攪拌を続けたのち不溶物を▲去する。ｆ液を減
圧下濃縮して粗製の２−アミノチアゾール−４−イルグ
リシンエチルを含有する溶液を得る。これをそのまま強
酸性イオン交換樹脂（Ｈ型）アンバーライトＩＲｌ２Ｏ
６Ｏｄからなるカラムに通し水洗を繰り返してギ酸を除
く。
え３時間攪拌を続けたのち不溶物を▲去する。ｆ液を減
圧下濃縮して粗製の２−アミノチアゾール−４−イルグ
リシンエチルを含有する溶液を得る。これをそのまま強
酸性イオン交換樹脂（Ｈ型）アンバーライトＩＲｌ２Ｏ
６Ｏｄからなるカラムに通し水洗を繰り返してギ酸を除
く。
この後１０％アンモニア水で溶出し、溶出液を減圧下濃
縮して２−アミノチアゾール−４−イルグリシンが得ら
れる。収量１．４９ｔ０（収率８６．４％）。本品は含
水エタノールから再結晶して精製され融点１８６〜１９
０℃（分解点）を示す。核磁気共鳴スペクトル（６０Ｍ
ｃ、トリフルオロ酢酸中）で５．２５ｐｐｍに側鎖メチ
ン水素の単線、６．７５ｐｐｍにチアゾール還上水素の
単線共鳴線を示す。
縮して２−アミノチアゾール−４−イルグリシンが得ら
れる。収量１．４９ｔ０（収率８６．４％）。本品は含
水エタノールから再結晶して精製され融点１８６〜１９
０℃（分解点）を示す。核磁気共鳴スペクトル（６０Ｍ
ｃ、トリフルオロ酢酸中）で５．２５ｐｐｍに側鎖メチ
ン水素の単線、６．７５ｐｐｍにチアゾール還上水素の
単線共鳴線を示す。
ニンヒドリン試薬で紫色を呈する。（２） ２−アミノ
チアゾール−４−イルグリシン３．４６ｔをＮ−Ｎ−ジ
メチルアセトアミド１００１Ｌｔにけんがくする。
チアゾール−４−イルグリシン３．４６ｔをＮ−Ｎ−ジ
メチルアセトアミド１００１Ｌｔにけんがくする。
室温で攪拌しながら、β・β・β一トリクロルエトキシ
カルボニルクロリド１２．６６ｆを３０分間で滴下する
。さらに３０分間攪拌したのち、反応混合物に酢酸エチ
ル２５０ｄを加える。１規定塩酸７０１１１で洗浄した
のち酢酸エチル層を分離する。
カルボニルクロリド１２．６６ｆを３０分間で滴下する
。さらに３０分間攪拌したのち、反応混合物に酢酸エチ
ル２５０ｄを加える。１規定塩酸７０１１１で洗浄した
のち酢酸エチル層を分離する。
この酢酸エチル層を３％カセイカリ水溶液５０ｍ１で３
回抽出する。水層を酢酸エチルで１回洗浄したのち、１
規定塩酸でＰＨ２．Ｏにし析出する油状物を酢酸エチル
１００ｍ１で３回抽出する。酢酸エチル層を水洗し、硫
酸マグネシウムで乾燥したのち減圧留去する。残留油状
物にｎ−ヘキサンを加えると結晶化する。酢酸エチル、
リグロイン混合物から再結晶して２−（β・β・β一ト
リクロルエトキシカルボニルアミノ）チアゾール−４−
イル一Ｎ−（β・β・β一トリクロルエトキシカルボニ
ル）グリシン５１０ｍＩｆ７を得る。本品の核磁気共鳴
スペクトル（１００ＭＨｚ、重クロロホルム中）は４．
８０ｐｐｍにトリクロルエトキシ基水素にもとずく重な
つた２本の単線、４．６５ｐｐｍに２位アミノ基水素の
単線、５．４８ｐｐｍにメチン水素の巾広い二重線、６
．１４ｐｐｍにα−アミノ基水素の巾広い二重線、６．
９５ｐｐｍにチアゾール５位水素の単線共鳴線を示す。
例４α−（β・β・β一トリクロルエトキシカルボニル
アミノ）−α一〔２−（β・β・β一トリクロルエトキ
シカルボニルアミノ）チアゾール−４イル〕酢酸１．４
０？をチオニルクロリド２５ｄに溶解して室温で２時間
攪拌する。
回抽出する。水層を酢酸エチルで１回洗浄したのち、１
規定塩酸でＰＨ２．Ｏにし析出する油状物を酢酸エチル
１００ｍ１で３回抽出する。酢酸エチル層を水洗し、硫
酸マグネシウムで乾燥したのち減圧留去する。残留油状
物にｎ−ヘキサンを加えると結晶化する。酢酸エチル、
リグロイン混合物から再結晶して２−（β・β・β一ト
リクロルエトキシカルボニルアミノ）チアゾール−４−
イル一Ｎ−（β・β・β一トリクロルエトキシカルボニ
ル）グリシン５１０ｍＩｆ７を得る。本品の核磁気共鳴
スペクトル（１００ＭＨｚ、重クロロホルム中）は４．
８０ｐｐｍにトリクロルエトキシ基水素にもとずく重な
つた２本の単線、４．６５ｐｐｍに２位アミノ基水素の
単線、５．４８ｐｐｍにメチン水素の巾広い二重線、６
．１４ｐｐｍにα−アミノ基水素の巾広い二重線、６．
９５ｐｐｍにチアゾール５位水素の単線共鳴線を示す。
例４α−（β・β・β一トリクロルエトキシカルボニル
アミノ）−α一〔２−（β・β・β一トリクロルエトキ
シカルボニルアミノ）チアゾール−４イル〕酢酸１．４
０？をチオニルクロリド２５ｄに溶解して室温で２時間
攪拌する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、−ＣＯＯＲ＾１は保護されていてもよいカルボ
キシル基を、Ｒ＾２ＮＨ−は保護されていてもよいアミ
ノ基を示す。 〕で表わされる２−アミノチアゾール−４−イル−α−
オキシミノ酢酸誘導体またはその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51001239A JPS5919101B2 (ja) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | ２−アミノチアゾ−ル−４−イル−α−オキシミノ酢酸誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51001239A JPS5919101B2 (ja) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | ２−アミノチアゾ−ル−４−イル−α−オキシミノ酢酸誘導体 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57219696A Division JPS5919946B2 (ja) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | ２−アミノチアゾ−ル−４−イルグリシン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5283836A JPS5283836A (en) | 1977-07-13 |
| JPS5919101B2 true JPS5919101B2 (ja) | 1984-05-02 |
Family
ID=11495902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51001239A Expired JPS5919101B2 (ja) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | ２−アミノチアゾ−ル−４−イル−α−オキシミノ酢酸誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5919101B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0327202U (ja) * | 1989-07-21 | 1991-03-19 | ||
| JPH0445682Y2 (ja) * | 1985-01-21 | 1992-10-27 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114031575B (zh) * | 2021-12-15 | 2023-09-12 | 山东金城医药化工有限公司 | 去甲氨噻肟酸乙酯的制备方法 |
-
1976
- 1976-01-01 JP JP51001239A patent/JPS5919101B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0445682Y2 (ja) * | 1985-01-21 | 1992-10-27 | ||
| JPH0327202U (ja) * | 1989-07-21 | 1991-03-19 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5283836A (en) | 1977-07-13 |
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