JPH06249966A - 被処理体の検出装置 - Google Patents

被処理体の検出装置

Info

Publication number
JPH06249966A
JPH06249966A JP6129593A JP6129593A JPH06249966A JP H06249966 A JPH06249966 A JP H06249966A JP 6129593 A JP6129593 A JP 6129593A JP 6129593 A JP6129593 A JP 6129593A JP H06249966 A JPH06249966 A JP H06249966A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processed
lcd
laser light
light
glass substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6129593A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3065843B2 (ja
Inventor
Tsutomu Hiroki
勤 広木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Yamanashi Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Yamanashi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Yamanashi Ltd filed Critical Tokyo Electron Yamanashi Ltd
Priority to JP6129593A priority Critical patent/JP3065843B2/ja
Priority to KR1019940003427A priority patent/KR100256215B1/ko
Priority to US08/202,100 priority patent/US5558482A/en
Publication of JPH06249966A publication Critical patent/JPH06249966A/ja
Priority to US08/389,226 priority patent/US5636960A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3065843B2 publication Critical patent/JP3065843B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Geophysics And Detection Of Objects (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 ガラス基板などの被処理体が所定位置に正し
く存在しているかどうかを検出する。 【構成】 LCD用ガラス基板P1、P2の位置合わせを
行うローラ21aに貫通孔23を設け、所定位置にある
時にレーザ光がこの貫通孔23を通過するように、ロー
ドロック室2の外方両側に、レーザ発光装置26とレー
ザ受光装置27を相互に対向して設ける。基板が所定位
置にあるときにはレーザ光を受光するが、所定位置にな
い場合にはレーザ光を受光できず、当該受光の有無によ
って基板の存在の有無を検出する。 【効果】 基板の材質や表面状態によって検出が左右さ
れない。レーザ発光装置などの検出手段を大気中に配置
できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板等を始めとする各
種被処理体の有無を検出する被処理体の検出装置に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】例えば被処理体としてLCD(Liquid C
rystal Display;液晶表示装置)用ガラス基板を例にと
って説明すると、従来から、LCD基板の製造工程にお
いては、減圧雰囲気下でLCD基板等にエッチングやア
ッシングなどの処理を施すため各種の真空処理装置が使
用されているが、このような真空処理室においては、L
CD用ガラス基板を真空処理室内にロード、アンロード
する毎に真空処理室内を常圧に戻す必要がないように、
開閉自在なゲートバルブを介してロードロック室と呼ば
れる予備真空室が設けられている場合が多い。
【0003】そして被処理体であるLCD用ガラス基板
は、適宜の搬送手段で一旦このロードロック室に搬入さ
れ、その後このロードロック室を真空処理室と同一の減
圧雰囲気にしてから、上記真空処理室内にロードされる
ように構成されている。
【0004】かかる場合、最近ではロードロック室に搬
入された時点で予めLCD用ガラス基板の位置合わせが
行われることが多く、そのため被処理体であるLCD用
ガラス基板が、正しくロードロック室に搬入されている
かどうか、また所定の位置に正しくセットされているか
どうかを真空処理室搬入前に確認する必要がある。
【0005】この点従来は、上記LCD用ガラス基板そ
のものをロードロック室内に設置した光センサによって
検出し、LCD用ガラス基板の有無を検出するようにし
ていた。具体的には、例えば適宜の検出光をLCD用ガ
ラス基板の表面に照射し、そのときのガラス基板表面か
らの反射光の有無を検出するような方法が採られてい
た。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うにLCD用ガラス基板表面からの反射光などを光セン
サによって検出する方法では、ガラス基板の表面状態に
よって感度が左右され、場合によっては正確な検出がで
きないおそれがあった。かかる場合光センサの感度を調
整する必要があるが、対象となる基板が透明なガラスで
あるため、その調整も容易ではなかった。
【0007】さらにまた従来はセンサ自体をロードロッ
ク室等、LCD用ガラス基板が存在する同一空間内に設
置しているため、センサ自体が発する熱等によりLCD
用ガラス基板が影響を受けたり、あるいはセンサ自体に
事故等が合った場合には直ちにLCD用ガラス基板に悪
影響が及ぶおそれもあったのである。その他センサ自体
をロードロック室内に設けると、そのことによって設計
上の制限を受けたり、センサ自体が占める分、ロードロ
ック室内のスペースが狭小になることも否めなかった。
【0008】本発明は叙上の問題点に鑑みてなされたも
のであって、検出対象である被処理体がたとえガラス基
板であっても、その検出が容易かつ確実に行える検出装
置を提供して上記問題の解決を図ることを目的とする。
さらにまた本発明の別の目的は、そのような被処理体を
検出するための検出手段等を、被処理体が存在する空間
外に配置した検出装置を提供して上記問題の解決を図る
ことにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1では、所定位置にセットされる被処理体の
有無を検出する装置であって、発光装置、及び当該発光
装置からの検出光を受光する受光装置、被処理体の有無
により存在位置が移動する移動体を有し、前記移動体に
前記検出光が通過可能な貫通孔を穿設し、被処理体が所
定位置に存在するときに前記検出光が前記貫通孔を通過
して前記受光装置によって受光される如く構成し、さら
に前記移動体の移動範囲を前記検出光の遮蔽範囲(検出
光を遮蔽する範囲内)に設定したことを特徴とする、被
処理体の検出装置を提供する。ここでいう発光装置の光
源としては、例えば半導体レーザや、その他発光ダイオ
ード(LED)+レンズなどの組合わせを有するものが
挙げられる。
【0010】上記の検出装置における移動体としては、
例えば被処理体に接触してその位置合わせを行う位置合
わせ機構などが挙げられる。
【0011】また請求項2によれば、適宜の閉鎖空間内
の所定位置にセットされる被処理体の有無を検出する装
置であって、被処理体の有無により存在位置が移動する
移動体を当該閉鎖空間内に設け、さらに当該閉鎖空間を
形成する壁体の一部にガラス、アクリル、ポリカーボネ
ート樹脂などの透明体を設け、発光装置、及び該発光装
置からの検出光を前記透明体を介して受光する受光装置
を夫々当該閉鎖空間外に設け、前記移動体に前記検出光
が通過可能な貫通孔を穿設し、被処理体が所定位置に存
在するときに前記検出光が前記貫通孔を通過して前記受
光装置によって受光される如く構成し、さらに前記移動
体の移動範囲を前記検出光の遮蔽範囲(検出光を遮蔽す
る範囲)内に設定したことを特徴とする、被処理体の検
出装置を提供する。
【0012】ここでいうところの閉鎖空間とは、既述の
ロードロック室などの開閉自在な完全な閉鎖空間だけで
はなく、一部開放された空間をも意味し、例えば被処理
体の周囲に機器等が輻輳して被処理体を直接視認しづら
いような空間をも含むものである。
【0013】
【作用】請求項1によれば、被処理体が所定位置に存在
する場合には、移動体の貫通孔を通過した検出光が受光
装置によって受光されるので、そのことによって被処理
体の存在が確認される。逆に被処理体が所定位置に存在
しない場合には、移動体が検出光を遮蔽する位置にある
から、発光装置から発光された検出光は受光装置で受光
されず、それによって被処理体が存在しないことが確認
される。また上記いずれの場合でも、検出するための検
出光は、被処理体からの反射光や透過光ではなく、被処
理体とは直接関係のない光であるため、被処理体の材質
如何を問わず、常に正確かつ容易に被処理体をの有無を
検出を実施することができる。
【0014】請求項2では検出の動作自体は上記請求項
1と同様であるが、被処理体が適宜の閉鎖空間内の所定
位置にセットされるものである場合、発光装置や受光装
置等の検出手段が当該閉鎖空間外に設置されて、検出光
自体はこの閉鎖空間を形成する壁体に設けられたガラス
などの透明体を通して発光、受光する構成であるから、
これら検出手段の存在が当該閉鎖空間内の被処理体に対
して影響を及ぼすことはない。
【0015】
【実施例】以下、本発明の1実施例を図面に基づき説明
すると、本実施例は図2、図3に示されたプラズマ処理
装置1に設置されているロードロック室2内の基板の検
出装置として構成されている。
【0016】まず上記プラズマ処理装置1全体の構成か
ら説明すると、このプラズマ処理装置1には、3つのプ
ロセスチャンバ1a、1b、1cが、夫々開閉自在なゲ
ートバルブ3a、3b、3cを介して、搬送チャンバ4
の3つの側面に隣接して設けてられている。このように
上記プラズマ処理装置1は3つのプロセスチャンバ1
a、1b、1cを有しているから、例えばそのうち2つ
のプロセスチャンバをエッチング処理室として構成し、
残りの1つのプロセスチャンバをアッシング処理室とし
て構成したり、3つのプロセスチャンバ全てをエッチン
グ処理室やアッシグ処理室として構成することができ、
極めて高いスループットが可能となるように設計されて
いる。
【0017】上記搬送チャンバ4の残りの側面には、開
閉自在なゲートバルブ5を介して上記ロードロック室2
が隣接して位置し、このロードロック室2における大気
側のゲートバルブ6前面側に、載置台を上下二段に有す
る大気系搬送アーム7を支持した支持台8が配置されて
いる。
【0018】上記支持台8の両側には、処理対象である
LCD用ガラス基板Pが多数(例えば20枚)収納され
たカセット9、10が対向して位置し、これら各カセッ
ト9、10は適宜のエレベーション機構(図示せず)に
よって上下動自在となるように構成されている。このよ
うに2つのカセットを対向して配置させることにより、
1のカセットを未処理基板収納用とし、残りのカセット
を処理済み基板収納用として使用することができる。
【0019】そしてこれら各カセット9又は10に収納
されたLCD用ガラス基板Pは、上記大気系搬送アーム
7によって一度に2枚づつ取り出されて保持され、上記
ゲートバルブ6を通過して上記ロードロック室2内に搬
入されるように構成されている。
【0020】上記ロードロック室2は図1に示された構
成を有し、その内部にはLCD用ガラス基板Pを上下2
段に一時的に載置してこれを保持するためのバッファ機
構が形成されている。
【0021】このバッファ機構は、対向して配置された
バッファ11、12によって構成され、これら各バッフ
ァ11、12は左右対称形であり、その構成を例えばバ
ッファ12についていうと、このバッファ12は夫々バ
ッファ11側に突出した載置部12a、12bを上下に
有し、これら各載置部12a、12b上に、LCD用ガ
ラス基板Pの裏面側端縁が載置されるように構成されて
いる。バッファ11もこれと同様、バッファ12側に突
出した載置部11a、11bを上下2段に有しており、
図1の状態では、これら各バッファ11、12に2枚の
LCD用ガラス基板P1、P2が載置され、上側の載置部
11a、12aにLCD用ガラス基板P1が、下側の載
置部11b、12bにLCD用ガラス基板P2が夫々載
置されている。
【0022】そしてそのように各バッファ11、12に
載置されたLCD用ガラス基板P1、P2の位置合わせを
行うためのポジショナー21、22が、夫々上記LCD
用ガラス基板P1、P2の対角線の延長線上にて相互に対
向するようにして設けられている。
【0023】これら各ポジショナー21、22は基本的
な構成は同一であって、ロードロック室2の大気側搬送
口2aに近い側のポジショナー21は、ゲートバルブL
CD用ガラス基板P1、P2の角部近傍に直接接して位置
合わせを行うローラ21a、21b及びこれらローラ2
1a、21bを支持する支持体21cによって構成さ
れ、ロードロック室2の下方に設けられた別設のエアシ
リンダ(図示せず)の駆動によって、図1における往復
矢印A、Bで夫々示したように、上下並びに上記対角線
方向に移動自在である。
【0024】一方ロードロック室2の真空側搬送口2b
に近い側のポジショナー22も、直接LCD用ガラス基
板P1、P2の角部近傍に接して位置合わせを行うローラ
22a、22b、及びこれらローラ22a、22bを支
持する支持体22cによって構成され、エアシリンダ
(図示せず)の駆動によって、図1における往復矢印
C、Dで夫々示したように、上下並びに上記対角線方向
に移動自在である。但し、対角線方向の移動について
は、上記ポジショナー21の移動幅よりも小さく設定さ
れ、このポジショナー21は固定側のポジショナーとし
て機能するように構成されている。
【0025】即ち、各バッファ11、12にLCD用ガ
ラス基板P1、P2が載置されると、各ポジショナー2
1、22が夫々上昇し、上昇終了点に達すると次にこれ
ら各ポジショナー21、22は、上記対角線の延長線上
を夫々中心方向に向かって移動する。このときポジショ
ナー22の方が先に停止するが、ポジショナー21につ
いてはそのローラ21a、21bによって上記LCD用
ガラス基板P1、P2の角部近傍を押圧しつつ、LCD用
ガラス基板P1、P2全体を、停止したポジショナー22
側へと押しやるのである。これによって、LCD用ガラ
ス基板P1、P2は所定の位置に位置合わせされることに
なる。
【0026】また本実施例では、上記各ローラ21a、
21b、ローラ22a、22bの全高が、バッファ1
1、12に上下2段に載置されるLCD用ガラス基板P
1、P2の上下間隔よりも大きくとってあり、一度に上下
2枚のLCD用ガラス基板の位置合わせを行うことが可
能である。
【0027】以上のようにポジショナー22は位置合わ
せの際の固定側ポジショナーとして機能しているが、さ
らに叙上のように往復矢印Dで示される対角線方向の動
きも行うように構成されているので、LCD用ガラス基
板がバッファ11、12に対して比較的ずれた位置に載
置されても、これをカバーして所定位置に位置合わせす
ることが可能である。
【0028】そして本実施例では、上記ポジショナー2
1におけるローラ21aが本発明でいうところの移動体
として構成され、このローラ21aの側面に、ロードロ
ック室2の両側壁2c、2d方向と平行な方向で貫通孔
23が穿たれている。さらにまたそれに対応して側壁2
cにガラス窓24、側壁2dにガラス窓25が夫々気密
に設けられ、さらにこのガラス窓24の外方にレーザ発
光装置26が、ガラス窓25の外方にレーザ受光装置2
7が夫々設けられている。もちろんこれらガラス窓2
4、25のガラス部分に、アクリルやポリカーボネート
樹脂などからなる透明体用いてもよい。なお図1におい
ては説明の都合上、これらレーザ発光装置26、レーザ
受光装置27はロードロック室2の両側壁2c、2dか
ら離れて図示されている。
【0029】上記レーザ発光装置26、レーザ受光装置
27は、LCD用ガラス基板が各ポジショナー21、2
2によって所定位置に位置合わせされた際に、レーザ発
光装置26のレーザ光が上記ローラ21aの貫通孔23
を通過してレーザ受光装置27によって受光されるよう
に配置されている。
【0030】また本実施例では、図1における往復矢印
Bで示される上記ローラ21aの対角線方向の移動範囲
は、ローラ21a自体で、上記レーザ発光装置26から
のレーザ光を遮蔽できる範囲となるように設定されてい
る。もちろんかかる移動範囲を任意に拡大したい場合に
は、ローラ21aの側面外周に適宜の遮蔽部材を設けれ
ばよく、そのように構成することにより、ローラ21
a、即ちポジショナー21の対角線方向の移動範囲を自
由に設定することが可能である。
【0031】以上のようにしてロードロック室2内で所
定位置にセットされたLCD用ガラス基板P1、P2は、
図3に示されるように搬送チャンバ4内に設けられた搬
送アーム31によって取り出され、一旦そこで待機され
た後、夫々所定のプロセスチャンバ1a、1b、1c内
に振り分けられて搬送するように構成されている。
【0032】本実施例にかかる検出装置を使用したプラ
ズマ処理装置1は以上のように構成されており、その動
作について説明すると、まず未処理のLCDガラス基板
Pを収納したカセット9がその出入口(オープン側)を
既述の支持台8に向けて所定位置にセットされると、既
述のエレベーション機構によって当該カセット9が上昇
し、その最上部、並びに最上部から2番目に収納されて
いるLCD用ガラス基板P1、P2がまず大気系搬送アー
ム7によって取り出される。そしてゲートバルブ6の開
放後、これらLCD用ガラス基板P1、P2はロードロッ
ク室2内に搬入されて、バッファ11、12に載置され
る。この後大気系搬送アーム7が待避し、ゲートバルブ
6が閉じられて。ロードロック室2は所定の減圧雰囲
気、例えば10-1Torr程度まで真空引きされる。
【0033】上記のように真空引きされた後、ポジショ
ナー21、22が上昇し、その後の対角線方向の移動に
よって、各ローラ21a、21b、22a、22bの押
圧によるLCD用ガラス基板P1、P2の位置合わせが実
施される。このように本実施例では、真空引きされた後
に基板の位置合わせが行われるので、真空引きした際に
発生する大気の流れにより、LCD用ガラス基板P1
2があおられて位置ズレしても、これを修正すること
が可能となっている。従って近年大型化しつつあるLC
D用基板に対しても、効果的にその位置ズレ防止を図る
ことができる。
【0034】もちろんそのような位置合わせは、搬送チ
ャンバ4の搬送前に完了していればよいので、真空引き
する前に上記位置合わせを行い、そのまま各ローラ21
a、21b、22a、22bによってLCD用ガラス基
板P1、P2を押圧保持しつつ、真空引きを行ってもよ
い。かかる場合でも、LCD用ガラス基板P1、P2はこ
れらローラ21a、21b、22a、22bによって強
固に保持されているから、真空引きの際に発生する大気
の流れによって、上記LCD用ガラス基板P1、P2があ
おられて位置ズレしたり、バッファ11、12から落下
したりするおそれはないものである。
【0035】そして叙上のようにポジショナー21、2
2によってLCD用ガラス基板P1、P2の位置合わせが
行われた時点、即ち各ローラ21a、21b、22a、
22bによってLCD用ガラス基板P1、P2が押圧保持
された時点で、レーザ発光装置26からレーザ光が、対
向するレーザ受光装置27に向けて発光される。このと
きLCD用ガラス基板P1、P2が所定の位置に正しく位
置合わせされていれば、図4に示したように、当該レー
ザ光はローラ21aの貫通孔23を通過してレーザ受光
装置27によって受光される。したがってそのことによ
ってLCD用ガラス基板P1、P2が所定位置に位置合わ
せされたことが確認できる。
【0036】しかしながら何らかの事情でLCD用ガラ
ス基板P1、P2が所定位置からずれていた場合や存在し
ていなかった場合には、ローラ21aが所定位置で停止
しないためレーザ光がローラ21aによって遮蔽され
る。その結果、レーザ受光装置27は当該レーザ光を受
光できず、そのことによって、LCD用ガラス基板
1、P2が所定位置に存在しないことが確認できるので
ある。
【0037】例えばLCD用ガラス基板自体がバッファ
11、12上に載置されていなかった場合には、図5の
矢印に示したように、ポジショナー21が対角線方向中
心側最大移動し、その結果レーザ発光装置26からのレ
ーザ光がローラ21aによって遮蔽される(同図中、一
点鎖線で示される矩形は、LCD用ガラス基板の所定位
置を示している)。
【0038】また例えばLCD用ガラス基板自体が何ら
かの事情で斜めに載置され、その結果図6に示したよう
にポジショナー21が対角線方向中心側に移動できなか
った場合にも、レーザ発光装置26からのレーザ光がロ
ーラ21aによって遮蔽される(同図中、一点鎖線で示
される矩形は、LCD用ガラス基板の所定位置を示して
いる)。
【0039】従っていずれの場合でも、レーザ受光装置
27によるレーザ光の受光ができず、そのことによって
LCD用ガラス基板が所定位置に存在していないことが
確認できるのである。なお、上記のような存在、不存在
の確認結果の外部への表示は、通常この種のプラズマ処
理装置に用いられているCRT装置(図示せず)で行う
ようにすればよい。
【0040】そしてそのようにして位置合わせされたL
CD用ガラス基板P1、P2は、搬送アーム31によって
一旦搬送チャンバ4内に搬送されて待機し、予め定めら
れたプログラムに従って、各々所定のプロセスチャンバ
内に搬送され、夫々対応するエッチング処理やアッシン
グ処理などのプラズマ処理がなされるのである。
【0041】以上の動作から明らかなように、被処理体
であるLCD用ガラス基板の有無の検出は、レーザ光の
受光の有無によってなされるが、このレーザ光は直接L
CD用ガラス基板に対して発光されるものではなく、受
光するレーザ光も当該LCD用ガラス基板からの透過光
や反射光ではないので、LCD用ガラス基板の材質やそ
の表面状態等を問わず、上記の検出動作が得られるもの
である。
【0042】さらに図1からもわかるように、それを実
現するためのレーザ発光装置26やレーザ受光装置27
も、被処理体であるLCD用ガラス基板が存在するロー
ドロック室2の外部に設けられているので、これらレー
ザ発光装置26やレーザ受光装置27自体の存在による
LCD用ガラスに対しての基板悪影響は全くないもので
ある。またこのようにレーザ発光装置26やレーザ受光
装置27は、夫々ロードロック室2の外部にロードロッ
ク室2内の各種部材に対しても邪魔になることもない。
【0043】なお上記実施例では、プラズマ処理装置に
おけるロードロック室内の基板検出に使用されたが、こ
れに限らず、半導体ウエハなど各種の被処理体の基板検
出に適用することが可能であり、しかも叙上のように検
出対象である被処理体に対しては全く影響を与えないの
で、特に清浄な雰囲気内にセットされる被処理体の検出
に対して効果的な検出手段となっている。
【0044】
【発明の効果】請求項1によれば、被処理体の所定位置
での存在の有無の検出が極めて容易に行え、しかも対象
となる被処理体の材質や表面状態に全く左右されずに安
定した検出が可能である。また検出にあたって、被処理
体に対して与える影響もない。
【0045】請求項2によれば、上記請求項1で得られ
る効果の他に、特に直接視認できない閉鎖空間、例えば
真空室内に被処理体が存在する場合の検出に適し、この
場合に発光装置や受光装置を大気中に配置することがで
きる効果が得られるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を適用したロードロック室内の
様子を示す斜視図である。
【図2】本発明の実施例を適用したプラズマ処理装置の
斜視図である。
【図3】本発明の実施例を適用したプラズマ処理装置の
平面図である。
【図4】被処理体であるLCD用ガラス基板が所定位置
にある場合の本発明の実施例の動作を示す説明図であ
る。
【図5】被処理体であるLCD用ガラス基板が所定位置
にない場合の本発明の実施例の動作を示す説明図であ
る。
【図6】被処理体であるLCD用ガラス基板が所定位置
にない場合の本発明の実施例の動作を示す説明図であ
る。
【符号の説明】
1 プラズマ処理装置 2 ロードロック室 6 ゲートバルブ 11 バッファ 12 バッファ 21 ポジショナー 21a ローラ 21b ローラ 22 ポジショナー 22a ローラ 22b ローラ 23 貫通孔 24 ガラス窓 25 ガラス窓 26 レーザ発光装置 27 レーザ受光装置 P LCD用ガラス基板

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定位置にセットされる被処理体の有無
    を検出する装置であって、発光装置、及び当該発光装置
    からの検出光を受光する受光装置、被処理体の有無によ
    り存在位置が移動する移動体を有し、前記移動体に前記
    検出光が通過可能な貫通孔を穿設し、被処理体が所定位
    置に存在するときに前記検出光が前記貫通孔を通過して
    前記受光装置によって受光される如く構成し、さらに前
    記移動体の移動範囲を前記検出光の遮蔽範囲内に設定し
    たことを特徴とする、被処理体の検出装置。
  2. 【請求項2】 適宜の閉鎖空間内の所定位置にセットさ
    れる被処理体の有無を検出する装置であって、被処理体
    の有無により存在位置が移動する移動体を当該閉鎖空間
    内に設け、さらに当該閉鎖空間を形成する壁体の一部に
    透明体を設け、発光装置、及び該発光装置からの検出光
    を前記透明体を介して受光する受光装置を夫々当該閉鎖
    空間外に設け、前記移動体に前記検出光が通過可能な貫
    通孔を穿設し、被処理体が所定位置に存在するときに前
    記検出光が前記貫通孔を通過して前記受光装置によって
    受光される如く構成し、さらに前記移動体の移動範囲を
    前記検出光の遮蔽範囲内に設定したことを特徴とする、
    被処理体の検出装置。
JP6129593A 1992-07-29 1993-02-26 被処理体の検出装置 Expired - Lifetime JP3065843B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6129593A JP3065843B2 (ja) 1993-02-26 1993-02-26 被処理体の検出装置
KR1019940003427A KR100256215B1 (ko) 1993-02-26 1994-02-25 멀티챔버 시스템
US08/202,100 US5558482A (en) 1992-07-29 1994-02-25 Multi-chamber system
US08/389,226 US5636960A (en) 1992-07-29 1995-02-15 Apparatus for detecting and aligning a substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6129593A JP3065843B2 (ja) 1993-02-26 1993-02-26 被処理体の検出装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000081236A Division JP3335983B2 (ja) 1993-02-26 2000-03-23 Lcd用ガラス基板の位置合わせ機構及び真空処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06249966A true JPH06249966A (ja) 1994-09-09
JP3065843B2 JP3065843B2 (ja) 2000-07-17

Family

ID=13167066

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6129593A Expired - Lifetime JP3065843B2 (ja) 1992-07-29 1993-02-26 被処理体の検出装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3065843B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11195695A (ja) * 1997-12-26 1999-07-21 Advanced Display Inc 電子デバイス製造装置
JP2001284153A (ja) * 2000-04-03 2001-10-12 Ulvac Japan Ltd 被処理物検出機構
KR100780058B1 (ko) * 2006-03-06 2007-11-29 (주) 디오브이 유기전계 발광소자 증착장치용 기판 정렬장치
US20120305028A1 (en) * 2011-05-31 2012-12-06 Semes Co., Ltd. Buffer units, substrate processing apparatuses, and substrate processing methods
KR102021928B1 (ko) * 2019-04-04 2019-09-17 (주)다스 게이트밸브용 개폐 감지장치

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11195695A (ja) * 1997-12-26 1999-07-21 Advanced Display Inc 電子デバイス製造装置
JP2001284153A (ja) * 2000-04-03 2001-10-12 Ulvac Japan Ltd 被処理物検出機構
JP4523111B2 (ja) * 2000-04-03 2010-08-11 株式会社アルバック 被処理物検出機構
KR100780058B1 (ko) * 2006-03-06 2007-11-29 (주) 디오브이 유기전계 발광소자 증착장치용 기판 정렬장치
US20120305028A1 (en) * 2011-05-31 2012-12-06 Semes Co., Ltd. Buffer units, substrate processing apparatuses, and substrate processing methods
US9349626B2 (en) * 2011-05-31 2016-05-24 Semes Co., Ltd. Buffer units, substrate processing apparatuses, and substrate processing methods
KR102021928B1 (ko) * 2019-04-04 2019-09-17 (주)다스 게이트밸브용 개폐 감지장치

Also Published As

Publication number Publication date
JP3065843B2 (ja) 2000-07-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100230697B1 (ko) 감압 처리 장치
KR101009092B1 (ko) 이동중인 기판의 오정렬 및 기판 파손을 동적으로 탐지하기위한 센서
TWI428585B (zh) A substrate inspection mechanism, and a substrate processing apparatus using the same
JPH04298061A (ja) ロードロック装置及び真空処理装置
KR20150084821A (ko) 기판 처리 장치 및 기판 반송 방법
KR20200034607A (ko) 기판 반송 방법 및 기판 반송 모듈
JP2005534175A (ja) バッファを備えた基板ローディング及びアンローディングステーション
KR102139934B1 (ko) 기판 처리 장치, 및 이를 이용하는 기판 처리 방법
JP3335983B2 (ja) Lcd用ガラス基板の位置合わせ機構及び真空処理装置
US20070180676A1 (en) Method of and tool for calibrating transfer apparatus
JP2007227781A (ja) 基板の位置ずれ検査機構,処理システム及び基板の位置ずれ検査方法
JP3065843B2 (ja) 被処理体の検出装置
JP3468430B2 (ja) 位置検出案内装置、位置検出案内方法及び真空処理装置
TWI676583B (zh) 教示夾具、基板處理裝置及教示方法
JP3500455B2 (ja) 処理装置
KR102126390B1 (ko) 웨이퍼 위치 감지시스템
KR102219879B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 정렬 방법
US20220367223A1 (en) Substrate transport apparatus and substrate transport method
JP2009059930A (ja) オープンカセットロードポート
JPH05294405A (ja) 基板検出装置
JP4067720B2 (ja) 基板移送装置
JP2641922B2 (ja) 処理装置
JP3160691B2 (ja) 処理装置
JPH11145241A (ja) マルチチャンバシステムおよび基板検出方法
JP3391584B2 (ja) 処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20000425

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120512

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130512

Year of fee payment: 13

EXPY Cancellation because of completion of term