JPH06243422A - 磁気ヘッドの製造方法および磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 基板１１に形成した薄膜形成用溝の一方の傾
斜面に軟磁性薄膜１３を形成し、第１の低融点ガラス１
２で上記薄膜形成用溝を充填して、基板ブロック２４と
し、一対の基板ブロック２４・２４を接合してコアブロ
ック２５とした後、摺動面上の軟磁性薄膜１３の膜厚が
所定のトラック幅となるように、トラック幅規制用溝２
７を形成する。その後、このトラック幅規制用溝２７
に、上記第１の低融点ガラス１２よりも融点の低い第２
の低融点ガラスを充填する。 【効果】 完成した磁気ヘッドにおいてトラックずれが
生じることはなく、漏れ磁界によるサイドイレースを防
ぐことができるので、磁気ヘッドの品質向上を図ること
ががきる。また、軟磁性薄膜１３成膜時等の製造工程に
おいて、膜厚規制を緩和できるので、歩留まりが向上す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
等の磁気記録再生装置に備えられ、磁気回路を構成する
軟磁性薄膜と、この軟磁性薄膜を支持する基板とを備え
た磁気ヘッド、及び磁気ヘッドの製造方法に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録技術の高度化に伴い、例えばメ
タルテープ等の高保磁力媒体が主流になってきた現在、
磁気ヘッドに使用されるコア材料には、高い飽和磁束密
度を有し、かつ狭トラック化されたものが要求されてい
る。このような状況の下、従来では、図１０に示すよう
なヘッドチップ４０を使用した磁気ヘッドが提案されて
いる。

【０００３】このヘッドチップ４０の製造工程を説明す
ると、まず、図１１に示すように、例えば感光性結晶化
ガラス、結晶化ガラス等の非磁性材料や、軟磁性フェラ
イト等の酸化物磁性材料からなる基板３０の表面に、所
定のピッチ寸法Ｃで略Ｖ字状の薄膜形成用溝３１…を形
成し、上記薄膜形成用溝３１…の壁面に所定の膜厚で軟
磁性薄膜３５…を形成する。次に、上記薄膜形成用溝３
１…に低融点ガラス３２を充填した後、図１２に示すよ
うに、上記薄膜形成用溝３１…の頂点と低融点ガラス３
２の上端面が一致するところまで、低融点ガラス３２を
平面状に研磨する。

【０００４】その後、図１３に示すように、記録媒体の
摺動面（図において手前側の面）における軟磁性薄膜３
５…の膜厚寸法が所定のトラック幅寸法となるように、
軟磁性薄膜３５…と共に、この軟磁性薄膜３５…に隣接
する基板３０及び低融点ガラス３２を研削することによ
り、トラック幅規制加工を行う。これにより、上記摺動
面には、所定の深さを有するトラック幅規制用溝４１…
が、上記軟磁性薄膜３５…に隣接して形成される。次い
で、基板３１の両側面に内部巻線溝３７及び外部巻線溝
３８を形成し、さらに、上記低融点ガラス３２の研磨面
であるギャップ面３３に、図示しない非磁性ギャップ材
からなるギャップを形成することにより、基板ブロック
３４を作製する。

【０００５】そして、図１４に示すように、上記一対の
基板ブロック３４・３４のギャップ面３３・３３同士を
対向させ、加圧固定を行って接合し、コアブロック３９
を形成する。さらに、上記コアブロック３９の摺動面
に、前記低融点ガラス３２よりもさらに融点の低い摺動
面用低融点ガラス３６をモールドすることにより、先に
形成したトラック幅規制用溝４１…を埋める。

【０００６】この工程の後、図１５に示すように、上記
摺動面用低融点ガラス３６を平面状に研磨し、さらに、
上記コアブロック３９を図中２点鎖線に沿って所定のピ
ッチ寸法Ｄで切断することにより、図１０に示すような
個々のヘッドチップ４０が作製される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような製造方法及び上記した構成の磁気ヘッドでは、そ
れぞれ以下のような原因により、磁気ヘッドの品質が低
下するという問題が生じている。

【０００８】すなわち、上記の製造方法では、個々の基
板ブロック３４の状態でトラック幅規制加工を行い、そ
の後で、一対の基板ブロック３４・３４を加圧圧着して
コアブロック３９を作製するので、加圧圧着による接合
の際に、上記略Ｖ字状溝３１のピッチがずれたり、基板
ブロック３４におけるトラック幅規制加工時に平行度が
ずれたときなど、完成したヘッドチップ４０において、
軟磁性薄膜３５・３５により形成されるトラックがずれ
てしまうという虞れがある。このようにトラックがずれ
た状態のヘッドチップ４０により構成される磁気ヘッド
を用いて、記録媒体に情報の記録を行うと、漏れ磁界よ
るサイドイレースが招来される等、磁気ヘッドの品質が
低下する。

【０００９】また、上記トラック幅規制用溝に低融点ガ
ラスが充填されている磁気ヘッドでは、上記した低融点
ガラスが、白濁を生じ易いために、長時間の使用により
走行劣化を起こし易く、記録媒体との摩擦帯電により放
電ノイズも発生し易いため、品質の低下を招くものにな
っている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係る磁
気ヘッドの製造方法は、上記の課題を解決するために、
磁気回路を形成する軟磁性薄膜が成膜され、さらにこの
軟磁性薄膜上に低融点ガラスが設けられた一対の基板
を、磁気ヘッド摺動面上で上記軟磁性薄膜が連なるよう
に接合する磁気ヘッドの製造方法において、上記一対の
基板を接合した後、摺動面上における上記軟磁性薄膜の
膜厚が所定のトラック幅寸法になるように、軟磁性薄膜
の両側を研削してトラック幅規制加工を行い、このトラ
ック幅規制加工により生じた溝に、上記低融点ガラスよ
りもさらに低い融点を有するトラック幅規制部材を充填
することを特徴としている。

【００１１】また、請求項２の発明に係る磁気ヘッド
は、上記の課題を解決するために、磁気回路を形成する
軟磁性薄膜が成膜され、この軟磁性薄膜上に低融点ガラ
スが設けられた基板を備えた磁気ヘッドにおいて、磁気
ヘッド摺動面の軟磁性薄膜の膜厚を所定のトラック幅寸
法に規制するため上記軟磁性薄膜に隣接して形成された
トラック幅規制用溝に、上記低融点ガラスよりもさらに
低い融点を有するセラミクス材料が埋設されていること
を特徴としている。

【００１２】

【作用】請求項１の方法によれば、基板の接合時に、軟
磁性薄膜が多少ずれて接合された場合でも、基板の接合
後に行われるトラック幅規制加工により、軟磁性薄膜の
膜厚が所定のトラック幅寸法に規制されると共に、トラ
ックのずれが補正されるようになっている。したがっ
て、完成した磁気ヘッドにおいては、トラックずれが生
じることはなく、漏れ磁界によるサイドイレースも回避
されるので、磁気ヘッドの品質が向上すると共に、軟磁
性薄膜の成膜時等において、その膜厚規制が緩和される
ので、歩留まりも向上する。

【００１３】また、請求項２の構成では、軟磁性薄膜に
隣接して設けられたトラック幅規制用溝にセラミクス材
料が埋設されている。このセラミクス材料は、実施例に
記載の実験結果から明らかなように、前記した従来で、
上記の溝に充填されていた低融点ガラスと比較して、摺
動性に優れ、かつ記録媒体との摩擦抵抗も小さいので、
長時間使用した場合でも、白濁が生じることはなく、走
行劣化を防ぐことができると共に、記録媒体の摺動時に
おける摩擦帯電も皆無であり、この摩擦帯電に起因する
放電ノイズを抑制できるので、磁気ヘッドの品質が向上
する。

【００１４】

【実施例】本発明の一実施例について図１ないし図９に
基づいて説明すれば、以下の通りである。

【００１５】本実施例の製造方法により作製される磁気
ヘッドは、図２に示すような、高飽和磁束密度を有する
ヘッドチップ１を備えている。このヘッドチップ１
は、、例えば感光性結晶化ガラス、結晶化ガラス等の非
磁性材料や、軟磁性フェライト等の酸化物磁性材料から
なる一対の基板１１・１１を有している。この基板１１
・１１には、記録媒体との摺動面となるヘッドチップ１
の上端面で所定のトラック幅寸法となるように膜厚が規
制された軟磁性薄膜１３・１３が形成され、さらにこの
軟磁性薄膜１３・１３上に第１の低融点ガラス１２・１
２が充填されている。また、この軟磁性薄膜１３・１３
の両側に設けられたトラック幅規制用溝２７・２７に
は、上記第１の低融点ガラス１２よりもさらに低い融点
を有する第２の低融点ガラス（トラック幅規制部材）２
６がモールドされている。

【００１６】上記のような構成のヘッドチップ１の製造
工程を説明すると、まず、図３に示すように、上記した
非磁性材料、あるいは酸化物磁性材料等からなる方形状
の基板１１表面に、回転ブレード等を用いるダイシング
加工により、所定の深さ及びピッチ寸法Ａを有する略Ｖ
字状の複数の薄膜形成用溝２０…を相互に隣接して互い
に平行に延びる形状で形成する。そして、図４に示すよ
うに、上記薄膜形成用溝２０…の一方の傾斜面に、例え
ば真空蒸着、あるいはスパッタ法等により、所定の膜厚
で例えばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金からなる軟磁性薄膜１
３…を形成する。

【００１７】次に、図５に示すように、上記薄膜形成用
溝２０…に第１の低融点ガラス１２を充填し、図６に示
すように、第１の低融点ガラス１２の上端面と薄膜形成
用溝２０…の頂点とが一致するところまで、第１の低融
点ガラス１２を平面状に研磨する。また、同時に、記録
媒体との摺動面となる基板１１の側面からはみ出した第
１の低融点ガラス１２も研磨して取り除く。

【００１８】その後、図７に示すように基板１１の両側
面に、内部巻線溝２１と外部巻線溝２２とを形成し、さ
らに、上記第１の低融点ガラス１２の研磨面であるギャ
ップ面２３に所定のギャップとなるように、ＳｉＯ₂ 等
からなる非磁性ギャップ材（図示せず）を、真空蒸着、
あるいはスパッタリング等により形成して、基板ブロッ
ク２４を作製する。

【００１９】次いで、図８に示すように、上記一対の基
板ブロック２４・２４の各ギャップ面２３・２３を対向
させ、上記軟磁性薄膜１３・１３が略一直線上になるよ
うに位置合わせして加圧固定することにより、一対の基
板ブロック２４・２４を接合し、コアブロック２５を作
製する。

【００２０】この工程の後、図１に示すように、例えば
ダイシング加工により、トラック幅規制加工を行う。つ
まり、上記コアブロック２５の摺動面に露出する軟磁性
薄膜１３…の両側や、この軟磁性薄膜１３…に隣接する
第１の低融点ガラス１２及び基板１１を研削することに
より、所定の形状で互いに平行に位置する複数のトラッ
ク幅規制用溝２７…を形成し、上記摺動面上の軟磁性薄
膜１３…の膜厚を所定のトラック幅寸法に規制する。続
いて、図９に示すように、上記トラック幅規制用溝２７
…を、前記第１の低融点ガラス１２よりもさらに低い融
点を有する第２の低融点ガラス２６でモールドする。

【００２１】そして、上記コアブロック２５の摺動面上
の軟磁性薄膜１３…が、表面に露出するところまで、上
記第２の低融点ガラス２６を平面状に研磨し、所定のピ
ッチ寸法Ｂで図中二点鎖線に沿って、コアブロック２５
を切断することにより、図２に示すような個々のヘッド
チップ１を作製する。さらに、このヘッドチップ１を図
示しないベース板に接着固定した後、コイル巻線および
摺動面研磨を施すことにより、磁気ヘッドが完成する。

【００２２】以上のように、本実施例では、一対の基板
ブロック２４・２４の接合時に、対向する軟磁性薄膜１
３・１３が多少ずれて接合された場合でも、基板ブロッ
ク２４・２４を接合して、コアブロック２５を形成した
後で、軟磁性薄膜１３…の両側にトラック幅規制用溝２
７…を形成し、摺動面上に露出する軟磁性薄膜１３…に
対してトラック幅規制加工を行うようになっているの
で、完成したヘッドチップ１においてトラックずれが生
じることはない。したがって、記録の際に、漏れ磁界に
よるサイドイレースが生じる虞れが回避され、磁気ヘッ
ドの品質の向上を図れると共に、磁気ヘッドの製造工程
における軟磁性薄膜１３…の形成時等においても、膜厚
の規制がラフにできるので、歩留まりも向上する。

【００２３】尚、上記実施例では、トラック幅規制部材
として、第１の低融点ガラスよりも融点の低い第２の低
融点ガラスを使用したが、これに限定されるものではな
く、請求項１の発明に係る磁気ヘッドの製造方法におい
ては、エポキシ樹脂や紫外線硬化樹脂等についても、記
録媒体との摺動性等に問題がなければ、上記トラック幅
規制部材として適用可能である。

【００２４】また、請求項２に記載のように、上記第２
の低融点ガラスに代えて、トラック幅規制用溝に、セラ
ミクス材料として、例えば東亜合成化学工業株式会社製
のアロンセラミック（ｃ）等のセラミクス接着剤と、接
着剤中のセラミクス濃度を上げるため、粉末のセラミク
スを混ぜたものを充填して磁気ヘッドを作製することも
可能である。このようなセラミクス接着剤は、非磁性で
あるため、上記低融点ガラスと同様に、記録媒体との摺
動による摺動ノイズがほとんどない。

【００２５】また、トラック幅規制用溝に、上記セラミ
クス材料を充填した磁気ヘッドと、結晶化ガラス、ある
いは低融点ガラスを充填した磁気ヘッドとについて、各
々を数時間摺動させ、その前後で摺動面の状態を観察す
ると、結晶化ガラス、あるいは低融点ガラスには、白濁
が見られ、走行劣化（出力が小さくなる）が起こるが、
セラミクス材料には、白濁がほとんど見られず、長時間
の使用によっても走行劣化が起きることはない。

【００２６】さらに、上記両者の磁気ヘッドについて、
摺動により起こる摩擦帯電を比較するため、表面電位計
により各充填材料の帯電を測定したところ、結晶化ガラ
スの帯電を１００％とすると、低融点ガラスは４５％程
度、セラミクス材料は0.１％程度であった。上記の数値
が約５５％以上になると、放電ノイズが発生することか
ら、上記セラミクス材料を充填材料として使用すること
により、摩擦帯電に起因する放電ノイズが抑制されるこ
とがわかる。したがって、上記セラミクス材料を使用す
ることにより、磁気ヘッドの品質向上を図ることができ
る。

【００２７】

【発明の効果】請求項１の発明に係る磁気ヘッドの製造
方法は、以上のように、上記一対の基板を接合した後、
摺動面上における上記軟磁性薄膜の膜厚が所定のトラッ
ク幅寸法になるように、軟磁性薄膜の両側を研削してト
ラック幅規制加工を行い、このトラック幅規制加工によ
り生じた溝に、上記低融点ガラスよりもさらに低い融点
を有するトラック幅規制部材を充填するものである。

【００２８】それゆえ、作製された磁気ヘッドにトラッ
クずれが生じることはなく、漏れ磁界によるサイドイレ
ースを防ぐことができるので、磁気ヘッドの品質を向上
できるという効果を奏する。

【００２９】さらに、基板上への軟磁性薄膜形成時等に
おける膜厚の規制を緩和できるので、歩留まりも向上で
きるという効果を併せて奏する。

【００３０】また、請求項２の発明に係る磁気ヘッド
は、以上のように、磁気ヘッド摺動面の軟磁性薄膜の膜
厚を所定のトラック幅寸法に規制するため上記軟磁性薄
膜に隣接して形成されたトラック幅規制用溝に、上記低
融点ガラスよりもさらに低い融点を有するセラミクス材
料が埋設されている構成である。

【００３１】それゆえ、トラック幅規制用溝に充填する
材料として、上記セラミクス材料を用いた場合には、低
融点ガラスを用いた場合と比較して、記録媒体の摺動に
よる白濁や、摩擦帯電による放電ノイズ等の発生が抑制
されるので、磁気ヘッドの品質が向上するという効果を
奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における磁気ヘッドの製造方
法において、トラック幅規制用溝が形成されたコアブロ
ックの斜視図である。

【図２】上記コアブロックから切り出されたヘッドチッ
プの斜視図である。

【図３】上記磁気ヘッドの製造工程において、薄膜形成
用溝が形成された基板の正面図である。

【図４】上記薄膜形成用溝の傾斜面上に軟磁性薄膜が形
成された基板の正面図である。

【図５】上記薄膜形成用溝に第１の低融点ガラスが充填
された基板の正面図である。

【図６】上記第１の低融点ガラスが平面状に研磨された
基板の正面図である。

【図７】上記基板から作製された基板ブロックの斜視図
である。

【図８】上記基板ブロックを接合してなるコアブロック
の斜視図である。

【図９】上記トラック幅規制用溝に第２の低融点ガラス
が充填されたコアブロックの斜視図である。

【図１０】従来の製造方法により作製されたヘッドチッ
プの斜視図である。

【図１１】従来の磁気ヘッドの製造工程において、薄膜
形成用溝及び軟磁性薄膜が形成され、さらに低融点ガラ
スが充填された基板の正面図である。

【図１２】上記低融点ガラスが平面状に研磨された基板
の正面図である。

【図１３】上記基板上に設けられた軟磁性薄膜にトラッ
ク幅規制加工を施して得られた基板ブロックの斜視図で
ある。

【図１４】上記基板ブロックを接合し、摺動面用低融点
ガラスが充填されたコアブロックの斜視図である。

【図１５】上記摺動面用低融点ガラスが平面状に研磨さ
れたコアブロックの斜視図である。

【符号の説明】

１ ヘッドチップ １１ 基板 １２ 第１の低融点ガラス １３ 軟磁性薄膜 ２６ 第２の低融点ガラス（トラック幅規制部材） ２７ トラック幅規制用溝

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】磁気回路を形成する軟磁性薄膜が成膜さ
   れ、さらにこの軟磁性薄膜上に低融点ガラスが設けられ
   た一対の基板を、磁気ヘッド摺動面上で上記軟磁性薄膜
   が連なるように接合する磁気ヘッドの製造方法におい
   て、 上記一対の基板を接合した後、摺動面上における上記軟
   磁性薄膜の膜厚が所定のトラック幅寸法になるように、
   軟磁性薄膜の両側を研削してトラック幅規制加工を行
   い、このトラック幅規制加工により生じた溝に、上記低
   融点ガラスよりもさらに低い融点を有するトラック幅規
   制部材を充填することを特徴とする磁気ヘッドの製造方
   法。
2. 【請求項２】磁気回路を形成する軟磁性薄膜が成膜さ
   れ、さらにこの軟磁性薄膜上に低融点ガラスが設けられ
   た基板を備えた磁気ヘッドにおいて、 磁気ヘッド摺動面の軟磁性薄膜の膜厚を所定のトラック
   幅寸法に規制するため上記軟磁性薄膜に隣接して形成さ
   れたトラック幅規制用溝に、上記低融点ガラスよりもさ
   らに低い融点を有するセラミクス材料が埋設されている
   ことを特徴とする磁気ヘッド。