JPH06238476A - レーザ加工装置 - Google Patents
レーザ加工装置Info
- Publication number
- JPH06238476A JPH06238476A JP50A JP7496493A JPH06238476A JP H06238476 A JPH06238476 A JP H06238476A JP 50 A JP50 A JP 50A JP 7496493 A JP7496493 A JP 7496493A JP H06238476 A JPH06238476 A JP H06238476A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- laser light
- laser beam
- reflective film
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 レーザ光により被加工体を、マスクのパター
ンにしたがって加工するにあたり、レーザ光の利用効率
を高めることを目的とする。 【構成】 レーザ光の透過可能な基板の表面に、レーザ
光の反射の可能な反射膜６を、加工パターンどおりに設
けてマスク２とする。このマスクの複数を、レーザ光の
光軸方向に対して後方のマスクの反射膜が前方のマスク
の反射膜に重ならないように並設する。各マスクの反射
膜から反射したレーザ光を、それぞれ別個に複数の被加
工体１に照射する。前方のマスクに照射されたレーザ光
はそのマスクを透過して、次のマスクを照射する。これ
によりレーザ光を効率よく利用することができるように
なる。
ンにしたがって加工するにあたり、レーザ光の利用効率
を高めることを目的とする。 【構成】 レーザ光の透過可能な基板の表面に、レーザ
光の反射の可能な反射膜６を、加工パターンどおりに設
けてマスク２とする。このマスクの複数を、レーザ光の
光軸方向に対して後方のマスクの反射膜が前方のマスク
の反射膜に重ならないように並設する。各マスクの反射
膜から反射したレーザ光を、それぞれ別個に複数の被加
工体１に照射する。前方のマスクに照射されたレーザ光
はそのマスクを透過して、次のマスクを照射する。これ
によりレーザ光を効率よく利用することができるように
なる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ加工装置に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】レーザたとえばエキシマレーザを利用し
たレーザ加工装置は、既によく知られている。これは図
５に示すように、被加工体１の全面に、加工形状のパタ
ーンに応じて開口しているマスク２を配置し、その前方
からレーザ光３を照射することによって行なう。これに
よればマスク２に向かうレーザ光のうち、マスク２の開
口部分４を透過したレーザ光のみが被加工体１に照射さ
れ、その照射部分がレーザ加工されるようになる。
たレーザ加工装置は、既によく知られている。これは図
５に示すように、被加工体１の全面に、加工形状のパタ
ーンに応じて開口しているマスク２を配置し、その前方
からレーザ光３を照射することによって行なう。これに
よればマスク２に向かうレーザ光のうち、マスク２の開
口部分４を透過したレーザ光のみが被加工体１に照射さ
れ、その照射部分がレーザ加工されるようになる。
【０００３】しかしこの種の加工において、被加工体１
の面積に対する加工部分の面積の割合は、一般に１％以
下である。したがってマスク２の開口率も１％以下とな
り、ほとんどのレーザ光はマスク２によりカットされる
ため、レーザ光の利用効率は極めて悪い。
の面積に対する加工部分の面積の割合は、一般に１％以
下である。したがってマスク２の開口率も１％以下とな
り、ほとんどのレーザ光はマスク２によりカットされる
ため、レーザ光の利用効率は極めて悪い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、レーザ光を
利用して被加工体をマスクのパターンにしたがって加工
するにあたり、レーザ光の利用効率を高めることを目的
とする。
利用して被加工体をマスクのパターンにしたがって加工
するにあたり、レーザ光の利用効率を高めることを目的
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、レーザ光の透
過可能な基板の表面に、レーザ光を反射する反射膜を加
工パターンどおりに設けてマスクを構成し、このマスク
の複数をレーザ光の光軸方向に対して後方のマスクの反
射膜が前方のマスクの反射膜に重ならないように並設
し、各マスクの反射膜から反射したレーザ光を、それぞ
れ別個の被加工体に照射するようにしたことを特徴とす
る。
過可能な基板の表面に、レーザ光を反射する反射膜を加
工パターンどおりに設けてマスクを構成し、このマスク
の複数をレーザ光の光軸方向に対して後方のマスクの反
射膜が前方のマスクの反射膜に重ならないように並設
し、各マスクの反射膜から反射したレーザ光を、それぞ
れ別個の被加工体に照射するようにしたことを特徴とす
る。
【０００６】
【作用】レーザ光の光軸方向に対して最前方にある最初
のマスクには、その全面にわたってレーザ光が照射され
る。照射されたレーザ光のうち反射膜に照射されたレー
ザ光は、ここで反射されて最初の被加工体に向い、ここ
で最初のマスクの反射膜のパターンにしたがってレーザ
加工される。
のマスクには、その全面にわたってレーザ光が照射され
る。照射されたレーザ光のうち反射膜に照射されたレー
ザ光は、ここで反射されて最初の被加工体に向い、ここ
で最初のマスクの反射膜のパターンにしたがってレーザ
加工される。
【０００７】最初のマスクに照射されたレーザ光のう
ち、反射膜に照射されなかったレーザ光は、そのままそ
のマスクを透過して次のマスクに向かう。そしてそのマ
スクの反射膜に照射されたレーザ光は、次の被加工体に
向けて反射し、反射膜に照射されなかったレーザ光はマ
スクを透過して次のマスクに向かう。以下これを繰り返
す。
ち、反射膜に照射されなかったレーザ光は、そのままそ
のマスクを透過して次のマスクに向かう。そしてそのマ
スクの反射膜に照射されたレーザ光は、次の被加工体に
向けて反射し、反射膜に照射されなかったレーザ光はマ
スクを透過して次のマスクに向かう。以下これを繰り返
す。
【０００８】各マスクの反射膜はレーザ光の光軸方向に
対して重ならないようにしてあるので、前方に他のマス
クが位置してあっても、後方にあるマスクの反射膜には
レーザ光が照射されるようになる。このようにして最初
のマスクに照射されたレーザ光を次のマスクになんら支
障なく照射することができ、したがってレーザ光を効率
よく利用することができるようになる。
対して重ならないようにしてあるので、前方に他のマス
クが位置してあっても、後方にあるマスクの反射膜には
レーザ光が照射されるようになる。このようにして最初
のマスクに照射されたレーザ光を次のマスクになんら支
障なく照射することができ、したがってレーザ光を効率
よく利用することができるようになる。
【０００９】
【実施例】本発明の実施例を図１によって説明する。な
お図５と同じ符号を付した部分は同一または対応する部
分を示す。本発明にしたがい、マスク２を、図４に示す
ようにレーザ光が透過可能な材料、たとえば石英ガラス
によって基板５を構成し、その表面にレーザ光の反射可
能な反射膜６を、加工パターンに応じて形成する。なお
必要に応じ、反射膜６を形成していない個所には、反射
防止膜７を形成しておくとよい。
お図５と同じ符号を付した部分は同一または対応する部
分を示す。本発明にしたがい、マスク２を、図４に示す
ようにレーザ光が透過可能な材料、たとえば石英ガラス
によって基板５を構成し、その表面にレーザ光の反射可
能な反射膜６を、加工パターンに応じて形成する。なお
必要に応じ、反射膜６を形成していない個所には、反射
防止膜７を形成しておくとよい。
【００１０】このように構成された複数のマスク２を、
レーザ光３の光軸方向（レーザ光の照射方向）に沿って
並設する。その場合各マスク２の反射膜６はレーザ光の
光軸方向に対して互いに重ならないように並設してお
く。各マスク２の反射膜６によって反射されたレーザ光
３Ａは、それぞれ別個の被加工体１に向い、各マスク２
の反射膜６のパターンにしたがって各被加工体１をレー
ザ加工する。
レーザ光３の光軸方向（レーザ光の照射方向）に沿って
並設する。その場合各マスク２の反射膜６はレーザ光の
光軸方向に対して互いに重ならないように並設してお
く。各マスク２の反射膜６によって反射されたレーザ光
３Ａは、それぞれ別個の被加工体１に向い、各マスク２
の反射膜６のパターンにしたがって各被加工体１をレー
ザ加工する。
【００１１】最初のマスク２にはレーザ光３が全面に照
射され、そのうち反射膜６に照射されたレーザ光は反射
して最初の被加工体１に向かうが、他のレーザ光はマス
ク２を透過して次のマスク２に向かう。そしてここで反
射膜６に照射されたレーザ光は反射されて次の被加工体
１に向い、他のレーザ光はそのマスクを透過して更に次
のマスクに向かう。以下これを繰り返す。
射され、そのうち反射膜６に照射されたレーザ光は反射
して最初の被加工体１に向かうが、他のレーザ光はマス
ク２を透過して次のマスク２に向かう。そしてここで反
射膜６に照射されたレーザ光は反射されて次の被加工体
１に向い、他のレーザ光はそのマスクを透過して更に次
のマスクに向かう。以下これを繰り返す。
【００１２】この場合各マスク２の反射膜６はレーザ光
の光軸方向に対して互いに重ならないように並設されて
あるので、後方にあるマスクの反射膜は、前方にあるマ
スクの反射膜の陰となることはなく、前方にあるマスク
を透過してきたレーザ光が照射されるようになる。これ
によって最初のマスクに照射されたレーザ光は、後方に
あるマスクに対して有効に利用することができるように
なる。
の光軸方向に対して互いに重ならないように並設されて
あるので、後方にあるマスクの反射膜は、前方にあるマ
スクの反射膜の陰となることはなく、前方にあるマスク
を透過してきたレーザ光が照射されるようになる。これ
によって最初のマスクに照射されたレーザ光は、後方に
あるマスクに対して有効に利用することができるように
なる。
【００１３】図２は加工精度を高めるために、マスク２
と被加工体１との間に、加工パターンどおりに開口され
ている別のマスク８を配置した構成を示す。反射膜６に
よって反射されたレーザ光３Ａは、このマスク８の開口
部分を通過して被加工体１に向かう。これによれば反射
してきたレーザ光３Ａが拡散するようなことがあって
も、マスク８に規制されてそのパターンどおりの加工が
可能となる。
と被加工体１との間に、加工パターンどおりに開口され
ている別のマスク８を配置した構成を示す。反射膜６に
よって反射されたレーザ光３Ａは、このマスク８の開口
部分を通過して被加工体１に向かう。これによれば反射
してきたレーザ光３Ａが拡散するようなことがあって
も、マスク８に規制されてそのパターンどおりの加工が
可能となる。
【００１４】また反射膜６のパターンを拡大または縮小
して加工する必要があるときは、図３に示すように、被
加工体１の前方に、拡大または縮小用の光学系９を配置
しておくとよい。
して加工する必要があるときは、図３に示すように、被
加工体１の前方に、拡大または縮小用の光学系９を配置
しておくとよい。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、レ
ーザ光を利用して被加工体をマスクのパターンにしたが
って加工するにあたり、反射膜を加工パターンにしたが
って形成した複数のマスクを並設し、これに順次レーザ
光を照射するようにしたので、レーザ光の利用効率を従
来構成に比較して高めることができる効果を奏する。
ーザ光を利用して被加工体をマスクのパターンにしたが
って加工するにあたり、反射膜を加工パターンにしたが
って形成した複数のマスクを並設し、これに順次レーザ
光を照射するようにしたので、レーザ光の利用効率を従
来構成に比較して高めることができる効果を奏する。
【図１】本発明の実施例を示す断面図である。
【図２】本発明の他の実施例を示す断面図である。
【図３】本発明の更に他の実施例を示す断面図である。
【図４】本発明で使用するマスクの拡大断面図である。
【図５】従来例を示す断面図である。
１ 被加工体 ２ マスク ３ レーザ光 ５ 基板 ６ 反射膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桑原 拓哉 京都市右京区梅津高畝町47番地 日新電機 株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 レーザ光の透過可能な基板の表面に、レ
ーザ光を反射する反射膜を、加工パターンどおりに設け
てマスクを構成し、前記マスクの複数を前記レーザ光の
光軸方向に対して後方のマスクの反射膜が前方のマスク
の反射膜に重ならないように並設し、前記各マスクの反
射膜から反射したレーザ光を、それぞれ別個の被加工体
に照射してなるレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50A JPH06238476A (ja) | 1993-02-22 | 1993-02-22 | レーザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50A JPH06238476A (ja) | 1993-02-22 | 1993-02-22 | レーザ加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06238476A true JPH06238476A (ja) | 1994-08-30 |
Family
ID=13562502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50A Pending JPH06238476A (ja) | 1993-02-22 | 1993-02-22 | レーザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06238476A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6040552A (en) * | 1997-01-30 | 2000-03-21 | Jain; Kanti | High-speed drilling system for micro-via pattern formation, and resulting structure |
| JP2006287129A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ照射装置、及びレーザ照射方法 |
| JP2011503885A (ja) * | 2007-11-19 | 2011-01-27 | コーヘレント ゲーエムベーハー | 均質化された光線を形成するための装置及び方法 |
-
1993
- 1993-02-22 JP JP50A patent/JPH06238476A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6040552A (en) * | 1997-01-30 | 2000-03-21 | Jain; Kanti | High-speed drilling system for micro-via pattern formation, and resulting structure |
| JP2006287129A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ照射装置、及びレーザ照射方法 |
| JP4589788B2 (ja) * | 2005-04-04 | 2010-12-01 | 住友重機械工業株式会社 | レーザ照射方法 |
| JP2011503885A (ja) * | 2007-11-19 | 2011-01-27 | コーヘレント ゲーエムベーハー | 均質化された光線を形成するための装置及び方法 |
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